Electron beam formation and its effect in novel plasma-optical device for evaporation of micro-droplets in cathode arc plasma coating
The additional pumping of energy into arc plasma flow by the self-consistently formed radially directed beam of
 high-energy electrons for evaporation of micro-droplets is considered. The radial beam appears near the inner
 cylindrical surface by secondary ion - electron emission at...
Збережено в:
| Опубліковано в: : | Вопросы атомной науки и техники |
|---|---|
| Дата: | 2016 |
| Автори: | , , |
| Формат: | Стаття |
| Мова: | Англійська |
| Опубліковано: |
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
2016
|
| Теми: | |
| Онлайн доступ: | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/115423 |
| Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
| Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Цитувати: | Electron beam formation and its effect in novel plasma-optical device for evaporation of micro-droplets in cathode arc plasma coating / A.A. Goncharov, V.I. Maslov, L.V. Naiko // Вопросы атомной науки и техники. — 2016. — № 6. — С. 121-124. — Бібліогр.: 4 назв. — англ. |
Репозитарії
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine| _version_ | 1862742632684322816 |
|---|---|
| author | Goncharov, A.A. Maslov, V.I. Naiko, L.V. |
| author_facet | Goncharov, A.A. Maslov, V.I. Naiko, L.V. |
| citation_txt | Electron beam formation and its effect in novel plasma-optical device for evaporation of micro-droplets in cathode arc plasma coating / A.A. Goncharov, V.I. Maslov, L.V. Naiko // Вопросы атомной науки и техники. — 2016. — № 6. — С. 121-124. — Бібліогр.: 4 назв. — англ. |
| collection | DSpace DC |
| container_title | Вопросы атомной науки и техники |
| description | The additional pumping of energy into arc plasma flow by the self-consistently formed radially directed beam of
high-energy electrons for evaporation of micro-droplets is considered. The radial beam appears near the inner
cylindrical surface by secondary ion - electron emission at this surface bombardment by peripheral arc plasma flow
ions. The beam is accelerated by electric potential jump, appeared in a cylindrical channel of the plasma-optical
system in crossed radial electrical and longitudinal magnetic fields. The high-energy electrons pump, during the time
of micro-droplet movement through the system, the energy, which is sufficient for evaporation of micro-droplets.
Рассматривается дополнительная накачка энергии в поток дуговой плазмы с помощью
самосогласованно образуемого радиального пучка электронов для испарения капель. Пучок появляется
вблизи внутренней цилиндрической поверхности за счёт вторичной ионно-электронной эмиссии при её
бомбардировке периферийными ионами потока. Пучок ускоряется скачком электрического потенциала,
который появляется в цилиндрическом канале плазмо-оптической системы в скрещенных полях.
Высокоэнергетичные электроны накачивают за время движения микрокапель через систему энергию,
которая достаточна для испарения микрокапель.
Розглядається додаткове накачування енергії в потік дугової плазми за допомогою самоузгоджене
утвореного радіального пучка електронів для випаровування крапель. Пучок з'являється поблизу
внутрішньої циліндричної поверхні за рахунок вторинної іонно-електронної емісії при її бомбардуванні
периферійними іонами потоку. Пучок прискорюється стрибком електричного потенціалу, який
з'являється в циліндричному каналі плазмооптичної системи в схрещених полях. Високоенергетичні
електрони накачують за час руху крапель через систему енергію, яка достатня для випаровування
крапель.
|
| first_indexed | 2025-12-07T20:26:30Z |
| format | Article |
| fulltext | |
| id | nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-115423 |
| institution | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| issn | 1562-6016 |
| language | English |
| last_indexed | 2025-12-07T20:26:30Z |
| publishDate | 2016 |
| publisher | Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України |
| record_format | dspace |
| spelling | Goncharov, A.A. Maslov, V.I. Naiko, L.V. 2017-04-04T19:22:16Z 2017-04-04T19:22:16Z 2016 Electron beam formation and its effect in novel plasma-optical device for evaporation of micro-droplets in cathode arc plasma coating / A.A. Goncharov, V.I. Maslov, L.V. Naiko // Вопросы атомной науки и техники. — 2016. — № 6. — С. 121-124. — Бібліогр.: 4 назв. — англ. 1562-6016 PACS: 29.17.+w; 41.75.Lx https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/115423 The additional pumping of energy into arc plasma flow by the self-consistently formed radially directed beam of
 high-energy electrons for evaporation of micro-droplets is considered. The radial beam appears near the inner
 cylindrical surface by secondary ion - electron emission at this surface bombardment by peripheral arc plasma flow
 ions. The beam is accelerated by electric potential jump, appeared in a cylindrical channel of the plasma-optical
 system in crossed radial electrical and longitudinal magnetic fields. The high-energy electrons pump, during the time
 of micro-droplet movement through the system, the energy, which is sufficient for evaporation of micro-droplets. Рассматривается дополнительная накачка энергии в поток дуговой плазмы с помощью
 самосогласованно образуемого радиального пучка электронов для испарения капель. Пучок появляется
 вблизи внутренней цилиндрической поверхности за счёт вторичной ионно-электронной эмиссии при её
 бомбардировке периферийными ионами потока. Пучок ускоряется скачком электрического потенциала,
 который появляется в цилиндрическом канале плазмо-оптической системы в скрещенных полях.
 Высокоэнергетичные электроны накачивают за время движения микрокапель через систему энергию,
 которая достаточна для испарения микрокапель. Розглядається додаткове накачування енергії в потік дугової плазми за допомогою самоузгоджене
 утвореного радіального пучка електронів для випаровування крапель. Пучок з'являється поблизу
 внутрішньої циліндричної поверхні за рахунок вторинної іонно-електронної емісії при її бомбардуванні
 периферійними іонами потоку. Пучок прискорюється стрибком електричного потенціалу, який
 з'являється в циліндричному каналі плазмооптичної системи в схрещених полях. Високоенергетичні
 електрони накачують за час руху крапель через систему енергію, яка достатня для випаровування
 крапель. en Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України Вопросы атомной науки и техники Plasma dynamics and plasma-wall interaction Electron beam formation and its effect in novel plasma-optical device for evaporation of micro-droplets in cathode arc plasma coating Формирование электронного пучка и его роль в новой плазмо- оптической системе для испарения капель в дуговой плазме Формування електронного пучка і його роль у новій плазмооптичній системі для випаровування крапель у дуговій плазмі Article published earlier |
| spellingShingle | Electron beam formation and its effect in novel plasma-optical device for evaporation of micro-droplets in cathode arc plasma coating Goncharov, A.A. Maslov, V.I. Naiko, L.V. Plasma dynamics and plasma-wall interaction |
| title | Electron beam formation and its effect in novel plasma-optical device for evaporation of micro-droplets in cathode arc plasma coating |
| title_alt | Формирование электронного пучка и его роль в новой плазмо- оптической системе для испарения капель в дуговой плазме Формування електронного пучка і його роль у новій плазмооптичній системі для випаровування крапель у дуговій плазмі |
| title_full | Electron beam formation and its effect in novel plasma-optical device for evaporation of micro-droplets in cathode arc plasma coating |
| title_fullStr | Electron beam formation and its effect in novel plasma-optical device for evaporation of micro-droplets in cathode arc plasma coating |
| title_full_unstemmed | Electron beam formation and its effect in novel plasma-optical device for evaporation of micro-droplets in cathode arc plasma coating |
| title_short | Electron beam formation and its effect in novel plasma-optical device for evaporation of micro-droplets in cathode arc plasma coating |
| title_sort | electron beam formation and its effect in novel plasma-optical device for evaporation of micro-droplets in cathode arc plasma coating |
| topic | Plasma dynamics and plasma-wall interaction |
| topic_facet | Plasma dynamics and plasma-wall interaction |
| url | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/115423 |
| work_keys_str_mv | AT goncharovaa electronbeamformationanditseffectinnovelplasmaopticaldeviceforevaporationofmicrodropletsincathodearcplasmacoating AT maslovvi electronbeamformationanditseffectinnovelplasmaopticaldeviceforevaporationofmicrodropletsincathodearcplasmacoating AT naikolv electronbeamformationanditseffectinnovelplasmaopticaldeviceforevaporationofmicrodropletsincathodearcplasmacoating AT goncharovaa formirovanieélektronnogopučkaiegorolʹvnovoiplazmooptičeskoisistemedlâispareniâkapelʹvdugovoiplazme AT maslovvi formirovanieélektronnogopučkaiegorolʹvnovoiplazmooptičeskoisistemedlâispareniâkapelʹvdugovoiplazme AT naikolv formirovanieélektronnogopučkaiegorolʹvnovoiplazmooptičeskoisistemedlâispareniâkapelʹvdugovoiplazme AT goncharovaa formuvannâelektronnogopučkaíiogorolʹunovíiplazmooptičníisistemídlâviparovuvannâkrapelʹudugovíiplazmí AT maslovvi formuvannâelektronnogopučkaíiogorolʹunovíiplazmooptičníisistemídlâviparovuvannâkrapelʹudugovíiplazmí AT naikolv formuvannâelektronnogopučkaíiogorolʹunovíiplazmooptičníisistemídlâviparovuvannâkrapelʹudugovíiplazmí |