Numerical simulation of wakefields excitation in the dielectric structure filled with

• Published in: Вопросы атомной науки и техники
• Date: 2016
• Main Authors: Markov, P.I., Onishchenko, I.N., Sotnikov, G.V.
• Format: Article
• Language: English
• Published: Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України 2016
• Subjects: Plasma electronics
• Online Access: https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/115439
• Journal Title: Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
• Cite this: Numerical simulation of wakefields excitation in the dielectric structure filled with / P.I. Markov, I.N. Onishchenko, G.V. Sotnikov // Вопросы атомной науки и техники. — 2016. — № 6. — С. 160-164. — Бібліогр.: 10 назв. — англ.

Results of numerical simulation of wakefield excitation in the dielectric structure filled with plasma created in
 capillary discharge are given. Three different models of dependence of plasma density on radius were investigated:
 1) homogeneous, 2) parabolic and 3) the dependence obtained numerically by N.A. Bobrova. The obtained results
 have shown that an amplitude of the accelerating field weakly depends on the model of plasma density dependence.
 At the same time the transverse wakefield force significantly changes in an amplitude: for the model 3) amplitudes
 of transverse force is twice higher than in the case of homogeneous plasma Приведены результаты численного моделирования возбуждения кильватерных полей в диэлектрической
 структуре, заполненной плазмой, создаваемой в капиллярном разряде. Были исследованы три различных
 модели зависимости плотности плазмы от радиуса: 1) однородная, 2) квадратная и 3) зависимость, получен-
 ная численно Н.А. Бобровой . Полученные результаты показали, что амплитуда ускоряющегося поля сла-
 бо зависит от модели зависимости плотности плазмы от радиуса. Одновременно поперечная кильватерная
 сила значительно изменяется по амплитуде: для модели 3, амплитуда поперечной силы вдвое выше, чем в
 случае однородной плазмы (модель 1). Наведені результати чисельного моделювання збудження кільватерних полів у діелектричній структурі,
 заповненої плазмою, створеною у капілярному розряді. Були досліджені три різні моделі залежності щільно-
 сті плазми від радіуса: 1) однорідна, 2) квадратична й 3) залежність, отримана чисельно Н.А. Бобровою .
 Отримані результати показали, що амплітуда прискорюваного поля слабко залежить від моделі залежності
 щільності плазми від радіуса. Одночасно поперечна кільватерна сила значно змінюється за амплітудою: для
 моделі 3 амплітуда поперечної сили вдвічі вище, чим у випадку однорідної плазми (модель 1).