Macroparticles in beam-plasma systems

The macroparticle (MP) contamination is the most important technological problem of vacuum arc deposition of
 coatings. The results of theoretical study of MP charging and dynamics in the near-substrate sheath are presented.
 The charge and dynamics of MP are governed by local parame...

Full description

Saved in:
Bibliographic Details
Published in:Вопросы атомной науки и техники
Date:2016
Main Authors: Bizyukov, A.A., Girka, I.O., Romashchenko, E.V., Chibisov, O.D.
Format: Article
Language:English
Published: Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України 2016
Subjects:
Online Access:https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/115448
Tags: Add Tag
No Tags, Be the first to tag this record!
Journal Title:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Cite this:Macroparticles in beam-plasma systems / A.A. Bizyukov, I.О. Girka, E.V. Romashchenko, O.D. Chibisov // Вопросы атомной науки и техники. — 2016. — № 6. — С. 187-190. — Бібліогр.: 24 назв. — англ.

Institution

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
_version_ 1862684862405672960
author Bizyukov, A.A.
Girka, I.O.
Romashchenko, E.V.
Chibisov, O.D.
author_facet Bizyukov, A.A.
Girka, I.O.
Romashchenko, E.V.
Chibisov, O.D.
citation_txt Macroparticles in beam-plasma systems / A.A. Bizyukov, I.О. Girka, E.V. Romashchenko, O.D. Chibisov // Вопросы атомной науки и техники. — 2016. — № 6. — С. 187-190. — Бібліогр.: 24 назв. — англ.
collection DSpace DC
container_title Вопросы атомной науки и техники
description The macroparticle (MP) contamination is the most important technological problem of vacuum arc deposition of
 coatings. The results of theoretical study of MP charging and dynamics in the near-substrate sheath are presented.
 The charge and dynamics of MP are governed by local parameters of ion and secondary electron emission fluxes in
 the sheath. It is shown that the maximum possible velocity of repelled MP increases with increasing substrate bias
 voltage. The effect of substrate biasing is seen to be larger for MPs emitted at small angles to the cathode plane of
 arc evaporator. Наиболее важной технологической проблемой вакуумно-дугового осаждения покрытий является загрязне-
 ние макрочастицами (МЧ). Представлены результаты теоретического исследования зарядки и динамики МЧ
 в слое у подложки. Заряд и динамика МЧ определяются локальными параметрами ионных и электронных
 вторично-эмиссионных потоков в слое. Показано, что максимально возможная скорость отраженной МЧ
 возрастает с увеличением потенциала подложки. Эффект смещения потенциала подложки больше для МЧ,
 которые эмитируют под малыми углами к плоскости катода вакуумного испарителя. Найбільш важливою технологічною проблемою вакуумно-дугового осадження покриттів є забруднення ма-
 крочастинками (МЧ). Представлено результати теоретичного дослідження зарядки та динаміки МЧ у шарі
 біля підкладки. Заряд і динаміка МЧ визначаються локальними параметрами іонних та електронних вторин-
 но-емісійних потоків у шарі. Показано, що максимально можлива швидкість відбитої МЧ зростає зі збіль-
 шенням потенціалу підкладки. Ефект зсуву потенціалу підкладки більший для МЧ, які емітують під малими
 кутами к площині катоду вакуумного випарника.
first_indexed 2025-12-07T16:00:04Z
format Article
fulltext
id nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-115448
institution Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
issn 1562-6016
language English
last_indexed 2025-12-07T16:00:04Z
publishDate 2016
publisher Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
record_format dspace
spelling Bizyukov, A.A.
Girka, I.O.
Romashchenko, E.V.
Chibisov, O.D.
2017-04-04T20:25:13Z
2017-04-04T20:25:13Z
2016
Macroparticles in beam-plasma systems / A.A. Bizyukov, I.О. Girka, E.V. Romashchenko, O.D. Chibisov // Вопросы атомной науки и техники. — 2016. — № 6. — С. 187-190. — Бібліогр.: 24 назв. — англ.
1562-6016
PACS: 52.40.Hf
https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/115448
The macroparticle (MP) contamination is the most important technological problem of vacuum arc deposition of
 coatings. The results of theoretical study of MP charging and dynamics in the near-substrate sheath are presented.
 The charge and dynamics of MP are governed by local parameters of ion and secondary electron emission fluxes in
 the sheath. It is shown that the maximum possible velocity of repelled MP increases with increasing substrate bias
 voltage. The effect of substrate biasing is seen to be larger for MPs emitted at small angles to the cathode plane of
 arc evaporator.
Наиболее важной технологической проблемой вакуумно-дугового осаждения покрытий является загрязне-
 ние макрочастицами (МЧ). Представлены результаты теоретического исследования зарядки и динамики МЧ
 в слое у подложки. Заряд и динамика МЧ определяются локальными параметрами ионных и электронных
 вторично-эмиссионных потоков в слое. Показано, что максимально возможная скорость отраженной МЧ
 возрастает с увеличением потенциала подложки. Эффект смещения потенциала подложки больше для МЧ,
 которые эмитируют под малыми углами к плоскости катода вакуумного испарителя.
Найбільш важливою технологічною проблемою вакуумно-дугового осадження покриттів є забруднення ма-
 крочастинками (МЧ). Представлено результати теоретичного дослідження зарядки та динаміки МЧ у шарі
 біля підкладки. Заряд і динаміка МЧ визначаються локальними параметрами іонних та електронних вторин-
 но-емісійних потоків у шарі. Показано, що максимально можлива швидкість відбитої МЧ зростає зі збіль-
 шенням потенціалу підкладки. Ефект зсуву потенціалу підкладки більший для МЧ, які емітують під малими
 кутами к площині катоду вакуумного випарника.
en
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
Вопросы атомной науки и техники
Iter and fusion reactor aspects
Macroparticles in beam-plasma systems
Макрочастицы в пучково-плазменных системах
Макрочастинки в пучково-плазмових системах
Article
published earlier
spellingShingle Macroparticles in beam-plasma systems
Bizyukov, A.A.
Girka, I.O.
Romashchenko, E.V.
Chibisov, O.D.
Iter and fusion reactor aspects
title Macroparticles in beam-plasma systems
title_alt Макрочастицы в пучково-плазменных системах
Макрочастинки в пучково-плазмових системах
title_full Macroparticles in beam-plasma systems
title_fullStr Macroparticles in beam-plasma systems
title_full_unstemmed Macroparticles in beam-plasma systems
title_short Macroparticles in beam-plasma systems
title_sort macroparticles in beam-plasma systems
topic Iter and fusion reactor aspects
topic_facet Iter and fusion reactor aspects
url https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/115448
work_keys_str_mv AT bizyukovaa macroparticlesinbeamplasmasystems
AT girkaio macroparticlesinbeamplasmasystems
AT romashchenkoev macroparticlesinbeamplasmasystems
AT chibisovod macroparticlesinbeamplasmasystems
AT bizyukovaa makročasticyvpučkovoplazmennyhsistemah
AT girkaio makročasticyvpučkovoplazmennyhsistemah
AT romashchenkoev makročasticyvpučkovoplazmennyhsistemah
AT chibisovod makročasticyvpučkovoplazmennyhsistemah
AT bizyukovaa makročastinkivpučkovoplazmovihsistemah
AT girkaio makročastinkivpučkovoplazmovihsistemah
AT romashchenkoev makročastinkivpučkovoplazmovihsistemah
AT chibisovod makročastinkivpučkovoplazmovihsistemah