Macroparticles in beam-plasma systems
The macroparticle (MP) contamination is the most important technological problem of vacuum arc deposition of coatings. The results of theoretical study of MP charging and dynamics in the near-substrate sheath are presented. The charge and dynamics of MP are governed by local parameters of ion and...
Gespeichert in:
| Veröffentlicht in: | Вопросы атомной науки и техники |
|---|---|
| Datum: | 2016 |
| Hauptverfasser: | , , , |
| Format: | Artikel |
| Sprache: | English |
| Veröffentlicht: |
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
2016
|
| Schlagworte: | |
| Online Zugang: | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/115448 |
| Tags: |
Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
|
| Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Zitieren: | Macroparticles in beam-plasma systems / A.A. Bizyukov, I.О. Girka, E.V. Romashchenko, O.D. Chibisov // Вопросы атомной науки и техники. — 2016. — № 6. — С. 187-190. — Бібліогр.: 24 назв. — англ. |
Institution
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine| id |
nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-115448 |
|---|---|
| record_format |
dspace |
| spelling |
Bizyukov, A.A. Girka, I.O. Romashchenko, E.V. Chibisov, O.D. 2017-04-04T20:25:13Z 2017-04-04T20:25:13Z 2016 Macroparticles in beam-plasma systems / A.A. Bizyukov, I.О. Girka, E.V. Romashchenko, O.D. Chibisov // Вопросы атомной науки и техники. — 2016. — № 6. — С. 187-190. — Бібліогр.: 24 назв. — англ. 1562-6016 PACS: 52.40.Hf https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/115448 The macroparticle (MP) contamination is the most important technological problem of vacuum arc deposition of coatings. The results of theoretical study of MP charging and dynamics in the near-substrate sheath are presented. The charge and dynamics of MP are governed by local parameters of ion and secondary electron emission fluxes in the sheath. It is shown that the maximum possible velocity of repelled MP increases with increasing substrate bias voltage. The effect of substrate biasing is seen to be larger for MPs emitted at small angles to the cathode plane of arc evaporator. Наиболее важной технологической проблемой вакуумно-дугового осаждения покрытий является загрязне- ние макрочастицами (МЧ). Представлены результаты теоретического исследования зарядки и динамики МЧ в слое у подложки. Заряд и динамика МЧ определяются локальными параметрами ионных и электронных вторично-эмиссионных потоков в слое. Показано, что максимально возможная скорость отраженной МЧ возрастает с увеличением потенциала подложки. Эффект смещения потенциала подложки больше для МЧ, которые эмитируют под малыми углами к плоскости катода вакуумного испарителя. Найбільш важливою технологічною проблемою вакуумно-дугового осадження покриттів є забруднення ма- крочастинками (МЧ). Представлено результати теоретичного дослідження зарядки та динаміки МЧ у шарі біля підкладки. Заряд і динаміка МЧ визначаються локальними параметрами іонних та електронних вторин- но-емісійних потоків у шарі. Показано, що максимально можлива швидкість відбитої МЧ зростає зі збіль- шенням потенціалу підкладки. Ефект зсуву потенціалу підкладки більший для МЧ, які емітують під малими кутами к площині катоду вакуумного випарника. en Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України Вопросы атомной науки и техники Iter and fusion reactor aspects Macroparticles in beam-plasma systems Макрочастицы в пучково-плазменных системах Макрочастинки в пучково-плазмових системах Article published earlier |
| institution |
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| collection |
DSpace DC |
| title |
Macroparticles in beam-plasma systems |
| spellingShingle |
Macroparticles in beam-plasma systems Bizyukov, A.A. Girka, I.O. Romashchenko, E.V. Chibisov, O.D. Iter and fusion reactor aspects |
| title_short |
Macroparticles in beam-plasma systems |
| title_full |
Macroparticles in beam-plasma systems |
| title_fullStr |
Macroparticles in beam-plasma systems |
| title_full_unstemmed |
Macroparticles in beam-plasma systems |
| title_sort |
macroparticles in beam-plasma systems |
| author |
Bizyukov, A.A. Girka, I.O. Romashchenko, E.V. Chibisov, O.D. |
| author_facet |
Bizyukov, A.A. Girka, I.O. Romashchenko, E.V. Chibisov, O.D. |
| topic |
Iter and fusion reactor aspects |
| topic_facet |
Iter and fusion reactor aspects |
| publishDate |
2016 |
| language |
English |
| container_title |
Вопросы атомной науки и техники |
| publisher |
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України |
| format |
Article |
| title_alt |
Макрочастицы в пучково-плазменных системах Макрочастинки в пучково-плазмових системах |
| description |
The macroparticle (MP) contamination is the most important technological problem of vacuum arc deposition of
coatings. The results of theoretical study of MP charging and dynamics in the near-substrate sheath are presented.
The charge and dynamics of MP are governed by local parameters of ion and secondary electron emission fluxes in
the sheath. It is shown that the maximum possible velocity of repelled MP increases with increasing substrate bias
voltage. The effect of substrate biasing is seen to be larger for MPs emitted at small angles to the cathode plane of
arc evaporator.
Наиболее важной технологической проблемой вакуумно-дугового осаждения покрытий является загрязне-
ние макрочастицами (МЧ). Представлены результаты теоретического исследования зарядки и динамики МЧ
в слое у подложки. Заряд и динамика МЧ определяются локальными параметрами ионных и электронных
вторично-эмиссионных потоков в слое. Показано, что максимально возможная скорость отраженной МЧ
возрастает с увеличением потенциала подложки. Эффект смещения потенциала подложки больше для МЧ,
которые эмитируют под малыми углами к плоскости катода вакуумного испарителя.
Найбільш важливою технологічною проблемою вакуумно-дугового осадження покриттів є забруднення ма-
крочастинками (МЧ). Представлено результати теоретичного дослідження зарядки та динаміки МЧ у шарі
біля підкладки. Заряд і динаміка МЧ визначаються локальними параметрами іонних та електронних вторин-
но-емісійних потоків у шарі. Показано, що максимально можлива швидкість відбитої МЧ зростає зі збіль-
шенням потенціалу підкладки. Ефект зсуву потенціалу підкладки більший для МЧ, які емітують під малими
кутами к площині катоду вакуумного випарника.
|
| issn |
1562-6016 |
| url |
https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/115448 |
| citation_txt |
Macroparticles in beam-plasma systems / A.A. Bizyukov, I.О. Girka, E.V. Romashchenko, O.D. Chibisov // Вопросы атомной науки и техники. — 2016. — № 6. — С. 187-190. — Бібліогр.: 24 назв. — англ. |
| work_keys_str_mv |
AT bizyukovaa macroparticlesinbeamplasmasystems AT girkaio macroparticlesinbeamplasmasystems AT romashchenkoev macroparticlesinbeamplasmasystems AT chibisovod macroparticlesinbeamplasmasystems AT bizyukovaa makročasticyvpučkovoplazmennyhsistemah AT girkaio makročasticyvpučkovoplazmennyhsistemah AT romashchenkoev makročasticyvpučkovoplazmennyhsistemah AT chibisovod makročasticyvpučkovoplazmennyhsistemah AT bizyukovaa makročastinkivpučkovoplazmovihsistemah AT girkaio makročastinkivpučkovoplazmovihsistemah AT romashchenkoev makročastinkivpučkovoplazmovihsistemah AT chibisovod makročastinkivpučkovoplazmovihsistemah |
| first_indexed |
2025-12-07T16:00:04Z |
| last_indexed |
2025-12-07T16:00:04Z |
| _version_ |
1850865829004967936 |