Synthesis of thin-film Ta₂O₅ coatings by reactive magnetron sputtering
The investigation results of optimal conditions for synthesis of thin-film tantalum oxide dielectric coatings using
 the cluster multipurpose setup are presented. The set-up consist of DC magnetron, ICP source, and mediumenergy
 ion source. Tantalum oxide was deposited by reactive ma...
Gespeichert in:
| Veröffentlicht in: | Вопросы атомной науки и техники |
|---|---|
| Datum: | 2016 |
| Hauptverfasser: | , , , |
| Format: | Artikel |
| Sprache: | Englisch |
| Veröffentlicht: |
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
2016
|
| Schlagworte: | |
| Online Zugang: | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/115455 |
| Tags: |
Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
|
| Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Zitieren: | Synthesis of thin-film Ta₂O₅ coatings by reactive magnetron sputtering / S. Yakovin, A. Zykov, S. Dudin, N. Yefymenko // Вопросы атомной науки и техники. — 2016. — № 6. — С. 248-251. — Бібліогр.: 14 назв. — англ. |
Institution
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine| _version_ | 1862711092224983040 |
|---|---|
| author | Yakovin, S. Zykov, A. Dudin, S. Yefymenko, N. |
| author_facet | Yakovin, S. Zykov, A. Dudin, S. Yefymenko, N. |
| citation_txt | Synthesis of thin-film Ta₂O₅ coatings by reactive magnetron sputtering / S. Yakovin, A. Zykov, S. Dudin, N. Yefymenko // Вопросы атомной науки и техники. — 2016. — № 6. — С. 248-251. — Бібліогр.: 14 назв. — англ. |
| collection | DSpace DC |
| container_title | Вопросы атомной науки и техники |
| description | The investigation results of optimal conditions for synthesis of thin-film tantalum oxide dielectric coatings using
the cluster multipurpose setup are presented. The set-up consist of DC magnetron, ICP source, and mediumenergy
ion source. Tantalum oxide was deposited by reactive magnetron sputtering using DC magnetron in atmosphere
of argon and oxygen. The oxygen flow was activated by passing trough the ICP source. The described equipment
allows independent control of the flows of metal atoms, of reactive particles, and of ions of rare and reactive
gas. The current-voltage characteristics of the magnetron discharge were measured as well as teir dependencies on
argon pressure and oxygen flow.
Представлены результаты исследований для нахождения оптимальных условий синтеза диэлектрических
тонких плёнок оксида тантала в кластерной многофункциональной установке. В установку входят: магне-
трон постоянного тока, индукционный источник плазмы и источник ионов средних энергий. Оксид тантала
наносили реактивным магнетронным распылением с помощью магнетрона постоянного тока в смеси аргона
и кислорода. Для активации поток кислорода пропускали через индукционный источник плазмы. Данное
оборудование позволяет независимо контролировать потоки атомов металла, активированных частиц и
ионов инертного или реактивного газов. Были измерены вольт-амперные характеристики магнетронного
разряда, зависимости тока и напряжения разряда от давления аргона и потока кислорода. Покрытия Ta₂O₅ 
были синтезированы при различных условиях.
Представлено результати досліджень для знаходження оптимальних умов синтезу діелектричних тонких
плівок оксиду танталу в кластерній багатофункціональній установці. В установку входять: магнетрон пос-
тійного струму, індукційне джерело плазми і джерело іонів середніх енергій. Оксид танталу наносили реак-
тивним магнетронним розпиленням за допомогою магнетрона постійного струму в суміші аргону і кисню.
Для активації потік кисню пропускали через індукційне джерело плазми. Дане обладнання дозволяє незале-
жно контролювати потоки атомів металу, активованих частинок та іонів інертного або реактивного газів.
Були виміряні вольт-амперні характеристики магнетронного розряду, залежності струму та напруги розряду
від тиску аргону і потоку кисню. Покриття Ta₂O₅ були синтезовані при різних умовах.
|
| first_indexed | 2025-12-07T17:29:06Z |
| format | Article |
| fulltext | |
| id | nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-115455 |
| institution | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| issn | 1562-6016 |
| language | English |
| last_indexed | 2025-12-07T17:29:06Z |
| publishDate | 2016 |
| publisher | Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України |
| record_format | dspace |
| spelling | Yakovin, S. Zykov, A. Dudin, S. Yefymenko, N. 2017-04-05T06:33:04Z 2017-04-05T06:33:04Z 2016 Synthesis of thin-film Ta₂O₅ coatings by reactive magnetron sputtering / S. Yakovin, A. Zykov, S. Dudin, N. Yefymenko // Вопросы атомной науки и техники. — 2016. — № 6. — С. 248-251. — Бібліогр.: 14 назв. — англ. 1562-6016 PACS: 52.77.-j, 81.15.-z https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/115455 The investigation results of optimal conditions for synthesis of thin-film tantalum oxide dielectric coatings using
 the cluster multipurpose setup are presented. The set-up consist of DC magnetron, ICP source, and mediumenergy
 ion source. Tantalum oxide was deposited by reactive magnetron sputtering using DC magnetron in atmosphere
 of argon and oxygen. The oxygen flow was activated by passing trough the ICP source. The described equipment
 allows independent control of the flows of metal atoms, of reactive particles, and of ions of rare and reactive
 gas. The current-voltage characteristics of the magnetron discharge were measured as well as teir dependencies on
 argon pressure and oxygen flow. Представлены результаты исследований для нахождения оптимальных условий синтеза диэлектрических
 тонких плёнок оксида тантала в кластерной многофункциональной установке. В установку входят: магне-
 трон постоянного тока, индукционный источник плазмы и источник ионов средних энергий. Оксид тантала
 наносили реактивным магнетронным распылением с помощью магнетрона постоянного тока в смеси аргона
 и кислорода. Для активации поток кислорода пропускали через индукционный источник плазмы. Данное
 оборудование позволяет независимо контролировать потоки атомов металла, активированных частиц и
 ионов инертного или реактивного газов. Были измерены вольт-амперные характеристики магнетронного
 разряда, зависимости тока и напряжения разряда от давления аргона и потока кислорода. Покрытия Ta₂O₅ 
 были синтезированы при различных условиях. Представлено результати досліджень для знаходження оптимальних умов синтезу діелектричних тонких
 плівок оксиду танталу в кластерній багатофункціональній установці. В установку входять: магнетрон пос-
 тійного струму, індукційне джерело плазми і джерело іонів середніх енергій. Оксид танталу наносили реак-
 тивним магнетронним розпиленням за допомогою магнетрона постійного струму в суміші аргону і кисню.
 Для активації потік кисню пропускали через індукційне джерело плазми. Дане обладнання дозволяє незале-
 жно контролювати потоки атомів металу, активованих частинок та іонів інертного або реактивного газів.
 Були виміряні вольт-амперні характеристики магнетронного розряду, залежності струму та напруги розряду
 від тиску аргону і потоку кисню. Покриття Ta₂O₅ були синтезовані при різних умовах. en Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України Вопросы атомной науки и техники Low temperature plasma and plasma technologies Synthesis of thin-film Ta₂O₅ coatings by reactive magnetron sputtering Синтез тонких плёнок Ta₂O₅ методом реактивного магнетронного распыления Синтез тонких плівок Ta₂O₅ методом реактивного магнетронного розпилювання Article published earlier |
| spellingShingle | Synthesis of thin-film Ta₂O₅ coatings by reactive magnetron sputtering Yakovin, S. Zykov, A. Dudin, S. Yefymenko, N. Low temperature plasma and plasma technologies |
| title | Synthesis of thin-film Ta₂O₅ coatings by reactive magnetron sputtering |
| title_alt | Синтез тонких плёнок Ta₂O₅ методом реактивного магнетронного распыления Синтез тонких плівок Ta₂O₅ методом реактивного магнетронного розпилювання |
| title_full | Synthesis of thin-film Ta₂O₅ coatings by reactive magnetron sputtering |
| title_fullStr | Synthesis of thin-film Ta₂O₅ coatings by reactive magnetron sputtering |
| title_full_unstemmed | Synthesis of thin-film Ta₂O₅ coatings by reactive magnetron sputtering |
| title_short | Synthesis of thin-film Ta₂O₅ coatings by reactive magnetron sputtering |
| title_sort | synthesis of thin-film ta₂o₅ coatings by reactive magnetron sputtering |
| topic | Low temperature plasma and plasma technologies |
| topic_facet | Low temperature plasma and plasma technologies |
| url | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/115455 |
| work_keys_str_mv | AT yakovins synthesisofthinfilmta2o5coatingsbyreactivemagnetronsputtering AT zykova synthesisofthinfilmta2o5coatingsbyreactivemagnetronsputtering AT dudins synthesisofthinfilmta2o5coatingsbyreactivemagnetronsputtering AT yefymenkon synthesisofthinfilmta2o5coatingsbyreactivemagnetronsputtering AT yakovins sinteztonkihplenokta2o5metodomreaktivnogomagnetronnogoraspyleniâ AT zykova sinteztonkihplenokta2o5metodomreaktivnogomagnetronnogoraspyleniâ AT dudins sinteztonkihplenokta2o5metodomreaktivnogomagnetronnogoraspyleniâ AT yefymenkon sinteztonkihplenokta2o5metodomreaktivnogomagnetronnogoraspyleniâ AT yakovins sinteztonkihplívokta2o5metodomreaktivnogomagnetronnogorozpilûvannâ AT zykova sinteztonkihplívokta2o5metodomreaktivnogomagnetronnogorozpilûvannâ AT dudins sinteztonkihplívokta2o5metodomreaktivnogomagnetronnogorozpilûvannâ AT yefymenkon sinteztonkihplívokta2o5metodomreaktivnogomagnetronnogorozpilûvannâ |