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Synthesis of thin-film Ta₂O₅ coatings by reactive magnetron sputtering

The investigation results of optimal conditions for synthesis of thin-film tantalum oxide dielectric coatings using the cluster multipurpose setup are presented. The set-up consist of DC magnetron, ICP source, and mediumenergy ion source. Tantalum oxide was deposited by reactive ma...

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Вопросы атомной науки и техники
Datum:	2016
Hauptverfasser:	Yakovin, S., Zykov, A., Dudin, S., Yefymenko, N.
Format:	Artikel
Sprache:	Englisch
Veröffentlicht:	Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України 2016
Schlagworte:	Low temperature plasma and plasma technologies
Online Zugang:	https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/115455
Tags:	Tag hinzufügen Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
Назва журналу:	Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Zitieren:	Synthesis of thin-film Ta₂O₅ coatings by reactive magnetron sputtering / S. Yakovin, A. Zykov, S. Dudin, N. Yefymenko // Вопросы атомной науки и техники. — 2016. — № 6. — С. 248-251. — Бібліогр.: 14 назв. — англ.

Institution

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine

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