Зображення обкладинки

Vaporization of metallic macroparticles in the high temperature technology plasma

The possibility of evaporation of macroparticles (MP) in collisionless plasma as a result of MP heating due to collisions with the plasma particles is studied. The problem of determining the self-consistent values of stationary MP temperature and its potential as a function of the...

Повний опис

Збережено в:

Бібліографічні деталі
Опубліковано в: :	Вопросы атомной науки и техники
Дата:	2016
Автори:	Bizyukov, A.A., Chibisov, A.D., Romashchenko, E.V., Kolyada, Yu.E.
Формат:	Стаття
Мова:	Англійська
Опубліковано:	Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України 2016
Теми:	Low temperature plasma and plasma technologies
Онлайн доступ:	https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/115460
Теги:	Додати тег Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
Назва журналу:	Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Цитувати:	Vaporization of metallic macroparticles in the high temperature technology plasma / A.A. Bizyukov, A.D. Chibisov, E.V. Romashchenko, Yu.E. Kolyada // Вопросы атомной науки и техники. — 2016. — № 6. — С. 268-271. — Бібліогр.: 6 назв. — англ.

Репозитарії

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine

Схожі ресурси

Specific of interaction of the macroparticles with the plasma-beam systems
за авторством: Bizyukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2021)

Effect of electron emission processes on macroparticle charging in plasma systems with electron beam
за авторством: Romashchenko, E.V., та інші
Опубліковано: (2020)

Dynamics of macroparticle in a weakly collisional plasma
за авторством: Romashchenko, E.V., та інші
Опубліковано: (2019)

Emission characteristics and potential of macroparticle in beam-plasma discharge
за авторством: Bizyukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2008)

Plasma of underwater electric discharges with metal vapors
за авторством: Boretskij, V.F., та інші
Опубліковано: (2019)

Emission characteristics of gas discharge plasma on mixtures of cadmium diodide vapor, helium and xenon
за авторством: Malinina, A.A., та інші
Опубліковано: (2020)

Using of electron cyclotron resonance discharge in ion beam sputtering systems for space charge compensation
за авторством: Bizyukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2019)

Shock alloying of metals by cumulative plasma streams
за авторством: Ivanov, L.I., та інші
Опубліковано: (2006)

Dynamics of the ion energy distribution and plasma parameters in flows of the non-self-sustained arc discharge in molybdenum vapors
за авторством: Borisenko, A.G.
Опубліковано: (2023)

Features of high-current pulsed regimes in regimes in magnetron sputtering systems
за авторством: Bizyukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2005)

Electromagnetic dipolar modes in magnetized nonuniform plasma-vacuum-metal waveguide
за авторством: Azarenkov, N.A., та інші
Опубліковано: (2023)

The HF field pattern in the magnetized plasma cylinder of finfte lenght
за авторством: Grekov, D.L., та інші
Опубліковано: (2003)

Plasma technologies for manufacturing of micro-strip metal detectors of ionizing radiation
за авторством: Pugatch, V.M., та інші
Опубліковано: (2007)

Large-area surface wave plasma source
за авторством: Azarenkov, N.A., та інші
Опубліковано: (2002)

Deposition of refractory metal films with planar plasma ECR source
за авторством: Fedorchenko, V.D., та інші
Опубліковано: (2007)

TiN coating etching from a surface of the instrument in beam-plasma system
за авторством: Bizyukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2000)

The formation of the low-sized high density plasma structures in the self-maintained plasma-beam discharge
за авторством: Borisko, V.N., та інші
Опубліковано: (2006)

Investigation of characteristics of non-simultaneous arc discharge in titanium vapors in glow discharge electron evaporators
за авторством: Denbnovetskiy, S.V., та інші
Опубліковано: (2007)

Plasma devices for ion beam and plasma deposition applications
за авторством: Goncharov, A., та інші
Опубліковано: (2005)

Hall ion source with ballistic and magnetic beam focusing
за авторством: Bizyukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2008)

The formation of near anode double layer in highcurrent plasma diode of low pressure
за авторством: Tseluyko, A.F., та інші
Опубліковано: (2002)

Investigation of parameters of the working substance - low temperature plasma in the ionization resonator chamber of the RF reactive engine
за авторством: Vdovin, V.S., та інші
Опубліковано: (2003)

Coating in the arc discharges with plasma flow filtration
за авторством: Gasilin, V. V., та інші
Опубліковано: (2006)

Application of coatings on inner surfaces of metallic and dielectric pipes with the use of HF -plasma source
за авторством: Gasilin, V.V., та інші
Опубліковано: (2005)

Application of the modified plasma accelerator for amorphous diamond-like films production
за авторством: Bizukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2003)

Application of high energy plasma for smart thermal processing
за авторством: Kobayashi, A.
Опубліковано: (2005)

Optimization of the magnetic system of a vacuum-arc plasma source with a straight line filter
за авторством: Aksyonov, D.S., та інші
Опубліковано: (2021)

The optical characteristics of contaminating films on Mo, SS and Cu mirror samples exposed in plasma devices
за авторством: Bondarenko, V.N., та інші
Опубліковано: (2008)

Influence of multipolar magnetic field geometry of ECR planar plasma source on plasma parameters
за авторством: Fedorchenko, V.D., та інші
Опубліковано: (2008)

Modification of coating-substrate systems under the action of compression plasma flow
за авторством: Astashynski, V.M., та інші
Опубліковано: (2005)

Characteristics of the plasma created by ECR plasma source for thin films deposition
за авторством: Fedorchenko, V.D., та інші
Опубліковано: (2005)

Decay of liquid metallic macroparticles in plasma-beam systems due to rayleigh instability
за авторством: Bizyukov, A.A, та інші
Опубліковано: (2017)

Solid ion source based on hollow-cylindrical magnetron sputtering discharge
за авторством: Azarenkov, N.A., та інші
Опубліковано: (2003)

Plasma deposited diamond-like carbon films for large neural arrays
за авторством: Brown, I.G., та інші
Опубліковано: (2005)

Evaporation of micro-droplets in cathode arc plasma coating under formed electron beam
за авторством: Goncharov, A.A., та інші
Опубліковано: (2022)

Influence of gas mixture with various mass numbers of gases on operation pressure range of plasma electron source with hollow cathode
за авторством: Borisko, V.N., та інші
Опубліковано: (2002)

Low-pressure uniform plasma generator based on hollow cathode for ion plasma technologies
за авторством: Khomich, V.A., та інші
Опубліковано: (2022)

Operational characteristics of the electron accelerator based on the plasma-filled diode
за авторством: Skibenko, E.I., та інші
Опубліковано: (2021)

Plasma sterilizer with ultrasonic cavitation
за авторством: Krasnyj, V.V., та інші
Опубліковано: (2007)

Improvement of penning ion sources
за авторством: Bizyukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2000)