Кінетика диспергування при відпалі у вакуумі ніобієвих та гафнієвих наноплівок, нанесених на неоксидні матеріали

Досліджено кінетику диспергування ніобієвих та гафнієвих наноплівок завтовшки 100 нм, які нанесені на зразки з кераміки на основі Si₃N₄ і скловуглецю та відпалені у вакуумі при температурах 1200—1400 °С впродовж різних часових проміжків (2—20 хв). Встановлено, що інтенсивність диспергування сполучен...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Адгезия расплавов и пайка материалов
Datum:2012
Hauptverfasser: Найдіч, Ю.В., Габ, І.І., Стецюк, Т.В., Костюк, Б.Д., Кузьменко, Є.Ф.
Format: Artikel
Sprache:Ukrainian
Veröffentlicht: Інститут проблем матеріалознавства ім. І.М. Францевича НАН України 2012
Schlagworte:
Online Zugang:https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/115870
Tags: Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
Назва журналу:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Zitieren:Кінетика диспергування при відпалі у вакуумі ніобієвих та гафнієвих наноплівок, нанесених на неоксидні матеріали / Ю.В. Найдіч, І.І. Габ, Т.В. Стецюк, Б.Д. Костюк, Є.Ф. Кузьменко // Адгезия расплавов и пайка материалов. — 2012. — Вып 45. — С. 71-78. — Бібліогр.: 16 назв. — укр.

Institution

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
id nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-115870
record_format dspace
spelling Найдіч, Ю.В.
Габ, І.І.
Стецюк, Т.В.
Костюк, Б.Д.
Кузьменко, Є.Ф.
2017-04-15T10:14:02Z
2017-04-15T10:14:02Z
2012
Кінетика диспергування при відпалі у вакуумі ніобієвих та гафнієвих наноплівок, нанесених на неоксидні матеріали / Ю.В. Найдіч, І.І. Габ, Т.В. Стецюк, Б.Д. Костюк, Є.Ф. Кузьменко // Адгезия расплавов и пайка материалов. — 2012. — Вып 45. — С. 71-78. — Бібліогр.: 16 назв. — укр.
0136-1732
https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/115870
539.216.2: 546.882:546.83
Досліджено кінетику диспергування ніобієвих та гафнієвих наноплівок завтовшки 100 нм, які нанесені на зразки з кераміки на основі Si₃N₄ і скловуглецю та відпалені у вакуумі при температурах 1200—1400 °С впродовж різних часових проміжків (2—20 хв). Встановлено, що інтенсивність диспергування сполучень плівка—неметал в однакових режимах відпалу різна. В наноплівках на кераміці на основі Si₃N₄ певні структурні зміни спостерігаються вже після відпалу при 1200 °С, а при температурі 1300 °С ці плівки вже значно диспергують, в той час як плівки на скловуглеці зазнають зміни лише після відпалу при 1400 °С.
Исследована кинетика диспергирования ниобиевых и гафниевых нанопленок толщиной 100 нм, нанесенных на поверхность керамики на основе Si₃N₄ и стеклоутлерода и отожженных в вакууме при температурах 1200—1400 °С в течение различных промежутков времени (2—20 мин). Установлено, что интенсивность диспергирования соединений пленка—неметалл при одинаковых режимах отжига разная. В нанопленках на керамике на основе Si₃N₄ определенные структурные изменения наблюдаются уже после отжига при 1200 °С, а при температуре 1300 °С эти пленки уже значительно диспергируют, в то время как пленки на стеклоуглероде изменяются только после отжига при 1400 °С.
Dispersion kinetics which is proceeds in niobium and hafnium nanofilms by thickness of 100 nm deposited onto oxygen-free inorganic materials as a result of them annealing in vacuum at temperatures 1200—1400 °C during various time (2—20 min) is investigated. It is established, that dispergation intensity of film—nonmetal joints at identical modes annealing is different. In nanofilms which were deposited onto ceramics on basis Si₃N₄ the certain structural changes are observed already after annealing at 1200 °C, and at temperature 1300 °C these films already are considerably dispergated while the films deposited onto carbon glass are changed only after annealing at 1400 °C.
uk
Інститут проблем матеріалознавства ім. І.М. Францевича НАН України
Адгезия расплавов и пайка материалов
Контактное взаимодействие твердых тел на границе с твердыми и жидкими фазами
Кінетика диспергування при відпалі у вакуумі ніобієвих та гафнієвих наноплівок, нанесених на неоксидні матеріали
Kinetics of dispersion of niobium and hafnium nanofilms deposited onto oxygen-free inorganic materials which was a result of annealing them in vacuum
Article
published earlier
institution Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
collection DSpace DC
title Кінетика диспергування при відпалі у вакуумі ніобієвих та гафнієвих наноплівок, нанесених на неоксидні матеріали
spellingShingle Кінетика диспергування при відпалі у вакуумі ніобієвих та гафнієвих наноплівок, нанесених на неоксидні матеріали
Найдіч, Ю.В.
Габ, І.І.
Стецюк, Т.В.
Костюк, Б.Д.
Кузьменко, Є.Ф.
Контактное взаимодействие твердых тел на границе с твердыми и жидкими фазами
title_short Кінетика диспергування при відпалі у вакуумі ніобієвих та гафнієвих наноплівок, нанесених на неоксидні матеріали
title_full Кінетика диспергування при відпалі у вакуумі ніобієвих та гафнієвих наноплівок, нанесених на неоксидні матеріали
title_fullStr Кінетика диспергування при відпалі у вакуумі ніобієвих та гафнієвих наноплівок, нанесених на неоксидні матеріали
title_full_unstemmed Кінетика диспергування при відпалі у вакуумі ніобієвих та гафнієвих наноплівок, нанесених на неоксидні матеріали
title_sort кінетика диспергування при відпалі у вакуумі ніобієвих та гафнієвих наноплівок, нанесених на неоксидні матеріали
author Найдіч, Ю.В.
Габ, І.І.
Стецюк, Т.В.
Костюк, Б.Д.
Кузьменко, Є.Ф.
author_facet Найдіч, Ю.В.
Габ, І.І.
Стецюк, Т.В.
Костюк, Б.Д.
Кузьменко, Є.Ф.
topic Контактное взаимодействие твердых тел на границе с твердыми и жидкими фазами
topic_facet Контактное взаимодействие твердых тел на границе с твердыми и жидкими фазами
publishDate 2012
language Ukrainian
container_title Адгезия расплавов и пайка материалов
publisher Інститут проблем матеріалознавства ім. І.М. Францевича НАН України
format Article
title_alt Kinetics of dispersion of niobium and hafnium nanofilms deposited onto oxygen-free inorganic materials which was a result of annealing them in vacuum
description Досліджено кінетику диспергування ніобієвих та гафнієвих наноплівок завтовшки 100 нм, які нанесені на зразки з кераміки на основі Si₃N₄ і скловуглецю та відпалені у вакуумі при температурах 1200—1400 °С впродовж різних часових проміжків (2—20 хв). Встановлено, що інтенсивність диспергування сполучень плівка—неметал в однакових режимах відпалу різна. В наноплівках на кераміці на основі Si₃N₄ певні структурні зміни спостерігаються вже після відпалу при 1200 °С, а при температурі 1300 °С ці плівки вже значно диспергують, в той час як плівки на скловуглеці зазнають зміни лише після відпалу при 1400 °С. Исследована кинетика диспергирования ниобиевых и гафниевых нанопленок толщиной 100 нм, нанесенных на поверхность керамики на основе Si₃N₄ и стеклоутлерода и отожженных в вакууме при температурах 1200—1400 °С в течение различных промежутков времени (2—20 мин). Установлено, что интенсивность диспергирования соединений пленка—неметалл при одинаковых режимах отжига разная. В нанопленках на керамике на основе Si₃N₄ определенные структурные изменения наблюдаются уже после отжига при 1200 °С, а при температуре 1300 °С эти пленки уже значительно диспергируют, в то время как пленки на стеклоуглероде изменяются только после отжига при 1400 °С. Dispersion kinetics which is proceeds in niobium and hafnium nanofilms by thickness of 100 nm deposited onto oxygen-free inorganic materials as a result of them annealing in vacuum at temperatures 1200—1400 °C during various time (2—20 min) is investigated. It is established, that dispergation intensity of film—nonmetal joints at identical modes annealing is different. In nanofilms which were deposited onto ceramics on basis Si₃N₄ the certain structural changes are observed already after annealing at 1200 °C, and at temperature 1300 °C these films already are considerably dispergated while the films deposited onto carbon glass are changed only after annealing at 1400 °C.
issn 0136-1732
url https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/115870
citation_txt Кінетика диспергування при відпалі у вакуумі ніобієвих та гафнієвих наноплівок, нанесених на неоксидні матеріали / Ю.В. Найдіч, І.І. Габ, Т.В. Стецюк, Б.Д. Костюк, Є.Ф. Кузьменко // Адгезия расплавов и пайка материалов. — 2012. — Вып 45. — С. 71-78. — Бібліогр.: 16 назв. — укр.
work_keys_str_mv AT naidíčûv kínetikadisperguvannâprivídpalíuvakuumíníobíêvihtagafníêvihnanoplívoknanesenihnaneoksidnímateríali
AT gabíí kínetikadisperguvannâprivídpalíuvakuumíníobíêvihtagafníêvihnanoplívoknanesenihnaneoksidnímateríali
AT stecûktv kínetikadisperguvannâprivídpalíuvakuumíníobíêvihtagafníêvihnanoplívoknanesenihnaneoksidnímateríali
AT kostûkbd kínetikadisperguvannâprivídpalíuvakuumíníobíêvihtagafníêvihnanoplívoknanesenihnaneoksidnímateríali
AT kuzʹmenkoêf kínetikadisperguvannâprivídpalíuvakuumíníobíêvihtagafníêvihnanoplívoknanesenihnaneoksidnímateríali
AT naidíčûv kineticsofdispersionofniobiumandhafniumnanofilmsdepositedontooxygenfreeinorganicmaterialswhichwasaresultofannealingtheminvacuum
AT gabíí kineticsofdispersionofniobiumandhafniumnanofilmsdepositedontooxygenfreeinorganicmaterialswhichwasaresultofannealingtheminvacuum
AT stecûktv kineticsofdispersionofniobiumandhafniumnanofilmsdepositedontooxygenfreeinorganicmaterialswhichwasaresultofannealingtheminvacuum
AT kostûkbd kineticsofdispersionofniobiumandhafniumnanofilmsdepositedontooxygenfreeinorganicmaterialswhichwasaresultofannealingtheminvacuum
AT kuzʹmenkoêf kineticsofdispersionofniobiumandhafniumnanofilmsdepositedontooxygenfreeinorganicmaterialswhichwasaresultofannealingtheminvacuum
first_indexed 2025-12-07T17:16:34Z
last_indexed 2025-12-07T17:16:34Z
_version_ 1850870641824104448