Характеризация элементного распределения по глубине пленок и покрытий методами RF GD-OES и TOFMS™
Описаны методы оптической эмиссионной спектрометрии тлеющего ВЧ-разряда. Приведены характеристики плазмы тлеющего разряда, позволяющие выполнять эрозию поверхности с высокой скоростью. Описані методи оптичної емісійної спектрометрії тліючого ВЧ-розряду. Наведені характеристики плазми тліючого розря...
Saved in:
| Published in: | Наука та інновації |
|---|---|
| Date: | 2012 |
| Main Authors: | , |
| Format: | Article |
| Language: | Russian |
| Published: |
Видавничий дім "Академперіодика" НАН України
2012
|
| Subjects: | |
| Online Access: | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/116087 |
| Tags: |
Add Tag
No Tags, Be the first to tag this record!
|
| Journal Title: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Cite this: | Характеризация элементного распределения по глубине пленок и покрытий методами RF GD-OES и TOFMS™ / П. Чапон, О.К. Костенко // Наука та інновації. — 2012. — Т. 8, № 2. — С. 34-38. — Бібліогр.: 6 назв. — рос. |
Institution
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine| id |
nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-116087 |
|---|---|
| record_format |
dspace |
| spelling |
Чапон, П. Костенко, О.К. 2017-04-20T13:15:54Z 2017-04-20T13:15:54Z 2012 Характеризация элементного распределения по глубине пленок и покрытий методами RF GD-OES и TOFMS™ / П. Чапон, О.К. Костенко // Наука та інновації. — 2012. — Т. 8, № 2. — С. 34-38. — Бібліогр.: 6 назв. — рос. 1815-2066 DOI: doi.org/10.15407/scin8.02.034 https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/116087 Описаны методы оптической эмиссионной спектрометрии тлеющего ВЧ-разряда. Приведены характеристики плазмы тлеющего разряда, позволяющие выполнять эрозию поверхности с высокой скоростью. Описані методи оптичної емісійної спектрометрії тліючого ВЧ-розряду. Наведені характеристики плазми тліючого розряду, що дозволяють виконувати ерозію поверхні з високою швидкістю. Methods of optical emission spectrometry of grow HFdis charge are described. The unique characteristics of GD plasma, which allow performing very fast surface erosion, are presented. ru Видавничий дім "Академперіодика" НАН України Наука та інновації Світ інновацій Характеризация элементного распределения по глубине пленок и покрытий методами RF GD-OES и TOFMS™ Характеризація елементного розподілу по глибині плівок та покриттів методами RF GD-OES та TOFMS™ Characterisation of Element Distribution in Films and Coatings with RF GD-OES and TOFMS™ Methods Article published earlier |
| institution |
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| collection |
DSpace DC |
| title |
Характеризация элементного распределения по глубине пленок и покрытий методами RF GD-OES и TOFMS™ |
| spellingShingle |
Характеризация элементного распределения по глубине пленок и покрытий методами RF GD-OES и TOFMS™ Чапон, П. Костенко, О.К. Світ інновацій |
| title_short |
Характеризация элементного распределения по глубине пленок и покрытий методами RF GD-OES и TOFMS™ |
| title_full |
Характеризация элементного распределения по глубине пленок и покрытий методами RF GD-OES и TOFMS™ |
| title_fullStr |
Характеризация элементного распределения по глубине пленок и покрытий методами RF GD-OES и TOFMS™ |
| title_full_unstemmed |
Характеризация элементного распределения по глубине пленок и покрытий методами RF GD-OES и TOFMS™ |
| title_sort |
характеризация элементного распределения по глубине пленок и покрытий методами rf gd-oes и tofms™ |
| author |
Чапон, П. Костенко, О.К. |
| author_facet |
Чапон, П. Костенко, О.К. |
| topic |
Світ інновацій |
| topic_facet |
Світ інновацій |
| publishDate |
2012 |
| language |
Russian |
| container_title |
Наука та інновації |
| publisher |
Видавничий дім "Академперіодика" НАН України |
| format |
Article |
| title_alt |
Характеризація елементного розподілу по глибині плівок та покриттів методами RF GD-OES та TOFMS™ Characterisation of Element Distribution in Films and Coatings with RF GD-OES and TOFMS™ Methods |
| description |
Описаны методы оптической эмиссионной спектрометрии тлеющего ВЧ-разряда. Приведены характеристики
плазмы тлеющего разряда, позволяющие выполнять эрозию поверхности с высокой скоростью.
Описані методи оптичної емісійної спектрометрії тліючого ВЧ-розряду. Наведені характеристики плазми тліючого розряду, що дозволяють виконувати ерозію поверхні з високою швидкістю.
Methods of optical emission spectrometry of grow HFdis
charge are described. The unique characteristics of GD
plasma, which allow performing very fast surface erosion, are presented.
|
| issn |
1815-2066 |
| url |
https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/116087 |
| citation_txt |
Характеризация элементного распределения по глубине пленок и покрытий методами RF GD-OES и TOFMS™ / П. Чапон, О.К. Костенко // Наука та інновації. — 2012. — Т. 8, № 2. — С. 34-38. — Бібліогр.: 6 назв. — рос. |
| work_keys_str_mv |
AT čaponp harakterizaciâélementnogoraspredeleniâpoglubineplenokipokrytiimetodamirfgdoesitofms AT kostenkook harakterizaciâélementnogoraspredeleniâpoglubineplenokipokrytiimetodamirfgdoesitofms AT čaponp harakterizacíâelementnogorozpodílupoglibiníplívoktapokrittívmetodamirfgdoestatofms AT kostenkook harakterizacíâelementnogorozpodílupoglibiníplívoktapokrittívmetodamirfgdoestatofms AT čaponp characterisationofelementdistributioninfilmsandcoatingswithrfgdoesandtofmsmethods AT kostenkook characterisationofelementdistributioninfilmsandcoatingswithrfgdoesandtofmsmethods |
| first_indexed |
2025-12-01T06:23:06Z |
| last_indexed |
2025-12-01T06:23:06Z |
| _version_ |
1850859467786158080 |