Характеризация элементного распределения по глубине пленок и покрытий методами RF GD-OES и TOFMS™
Описаны методы оптической эмиссионной спектрометрии тлеющего ВЧ-разряда. Приведены характеристики
 плазмы тлеющего разряда, позволяющие выполнять эрозию поверхности с высокой скоростью. Описані методи оптичної емісійної спектрометрії тліючого ВЧ-розряду. Наведені характеристики плазми тліючо...
Збережено в:
| Опубліковано в: : | Наука та інновації |
|---|---|
| Дата: | 2012 |
| Автори: | , |
| Формат: | Стаття |
| Мова: | Російська |
| Опубліковано: |
Видавничий дім "Академперіодика" НАН України
2012
|
| Теми: | |
| Онлайн доступ: | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/116087 |
| Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
| Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Цитувати: | Характеризация элементного распределения по глубине пленок и покрытий методами RF GD-OES и TOFMS™ / П. Чапон, О.К. Костенко // Наука та інновації. — 2012. — Т. 8, № 2. — С. 34-38. — Бібліогр.: 6 назв. — рос. |
Репозитарії
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine| _version_ | 1862642301593976832 |
|---|---|
| author | Чапон, П. Костенко, О.К. |
| author_facet | Чапон, П. Костенко, О.К. |
| citation_txt | Характеризация элементного распределения по глубине пленок и покрытий методами RF GD-OES и TOFMS™ / П. Чапон, О.К. Костенко // Наука та інновації. — 2012. — Т. 8, № 2. — С. 34-38. — Бібліогр.: 6 назв. — рос. |
| collection | DSpace DC |
| container_title | Наука та інновації |
| description | Описаны методы оптической эмиссионной спектрометрии тлеющего ВЧ-разряда. Приведены характеристики
плазмы тлеющего разряда, позволяющие выполнять эрозию поверхности с высокой скоростью.
Описані методи оптичної емісійної спектрометрії тліючого ВЧ-розряду. Наведені характеристики плазми тліючого розряду, що дозволяють виконувати ерозію поверхні з високою швидкістю.
Methods of optical emission spectrometry of grow HFdis
charge are described. The unique characteristics of GD
plasma, which allow performing very fast surface erosion, are presented.
|
| first_indexed | 2025-12-01T06:23:06Z |
| format | Article |
| fulltext | |
| id | nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-116087 |
| institution | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| issn | 1815-2066 |
| language | Russian |
| last_indexed | 2025-12-01T06:23:06Z |
| publishDate | 2012 |
| publisher | Видавничий дім "Академперіодика" НАН України |
| record_format | dspace |
| spelling | Чапон, П. Костенко, О.К. 2017-04-20T13:15:54Z 2017-04-20T13:15:54Z 2012 Характеризация элементного распределения по глубине пленок и покрытий методами RF GD-OES и TOFMS™ / П. Чапон, О.К. Костенко // Наука та інновації. — 2012. — Т. 8, № 2. — С. 34-38. — Бібліогр.: 6 назв. — рос. 1815-2066 DOI: doi.org/10.15407/scin8.02.034 https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/116087 Описаны методы оптической эмиссионной спектрометрии тлеющего ВЧ-разряда. Приведены характеристики
 плазмы тлеющего разряда, позволяющие выполнять эрозию поверхности с высокой скоростью. Описані методи оптичної емісійної спектрометрії тліючого ВЧ-розряду. Наведені характеристики плазми тліючого розряду, що дозволяють виконувати ерозію поверхні з високою швидкістю. Methods of optical emission spectrometry of grow HFdis
 charge are described. The unique characteristics of GD
 plasma, which allow performing very fast surface erosion, are presented. ru Видавничий дім "Академперіодика" НАН України Наука та інновації Світ інновацій Характеризация элементного распределения по глубине пленок и покрытий методами RF GD-OES и TOFMS™ Характеризація елементного розподілу по глибині плівок та покриттів методами RF GD-OES та TOFMS™ Characterisation of Element Distribution in Films and Coatings with RF GD-OES and TOFMS™ Methods Article published earlier |
| spellingShingle | Характеризация элементного распределения по глубине пленок и покрытий методами RF GD-OES и TOFMS™ Чапон, П. Костенко, О.К. Світ інновацій |
| title | Характеризация элементного распределения по глубине пленок и покрытий методами RF GD-OES и TOFMS™ |
| title_alt | Характеризація елементного розподілу по глибині плівок та покриттів методами RF GD-OES та TOFMS™ Characterisation of Element Distribution in Films and Coatings with RF GD-OES and TOFMS™ Methods |
| title_full | Характеризация элементного распределения по глубине пленок и покрытий методами RF GD-OES и TOFMS™ |
| title_fullStr | Характеризация элементного распределения по глубине пленок и покрытий методами RF GD-OES и TOFMS™ |
| title_full_unstemmed | Характеризация элементного распределения по глубине пленок и покрытий методами RF GD-OES и TOFMS™ |
| title_short | Характеризация элементного распределения по глубине пленок и покрытий методами RF GD-OES и TOFMS™ |
| title_sort | характеризация элементного распределения по глубине пленок и покрытий методами rf gd-oes и tofms™ |
| topic | Світ інновацій |
| topic_facet | Світ інновацій |
| url | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/116087 |
| work_keys_str_mv | AT čaponp harakterizaciâélementnogoraspredeleniâpoglubineplenokipokrytiimetodamirfgdoesitofms AT kostenkook harakterizaciâélementnogoraspredeleniâpoglubineplenokipokrytiimetodamirfgdoesitofms AT čaponp harakterizacíâelementnogorozpodílupoglibiníplívoktapokrittívmetodamirfgdoestatofms AT kostenkook harakterizacíâelementnogorozpodílupoglibiníplívoktapokrittívmetodamirfgdoestatofms AT čaponp characterisationofelementdistributioninfilmsandcoatingswithrfgdoesandtofmsmethods AT kostenkook characterisationofelementdistributioninfilmsandcoatingswithrfgdoesandtofmsmethods |