Cover Image

Характеризация элементного распределения по глубине пленок и покрытий методами RF GD-OES и TOFMS™

Описаны методы оптической эмиссионной спектрометрии тлеющего ВЧ-разряда. Приведены характеристики плазмы тлеющего разряда, позволяющие выполнять эрозию поверхности с высокой скоростью. Описані методи оптичної емісійної спектрометрії тліючого ВЧ-розряду. Наведені характеристики плазми тліючого розря...

Full description

Saved in:
Bibliographic Details
Published in:Наука та інновації
Date:2012
Main Authors: Чапон, П., Костенко, О.К.
Format: Article
Language:Russian
Published: Видавничий дім "Академперіодика" НАН України 2012
Subjects:
Світ інновацій
Online Access:https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/116087
Tags: Add Tag
No Tags, Be the first to tag this record!
Journal Title:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Cite this:Характеризация элементного распределения по глубине пленок и покрытий методами RF GD-OES и TOFMS™ / П. Чапон, О.К. Костенко // Наука та інновації. — 2012. — Т. 8, № 2. — С. 34-38. — Бібліогр.: 6 назв. — рос.

Institution

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine

Similar Items

Similar Items