Характеризация элементного распределения по глубине пленок и покрытий методами RF GD-OES и TOFMS™
Описаны методы оптической эмиссионной спектрометрии тлеющего ВЧ-разряда. Приведены характеристики плазмы тлеющего разряда, позволяющие выполнять эрозию поверхности с высокой скоростью. Описані методи оптичної емісійної спектрометрії тліючого ВЧ-розряду. Наведені характеристики плазми тліючого розря...
Gespeichert in:
| Veröffentlicht in: | Наука та інновації |
|---|---|
| Datum: | 2012 |
| Hauptverfasser: | , |
| Format: | Artikel |
| Sprache: | Russian |
| Veröffentlicht: |
Видавничий дім "Академперіодика" НАН України
2012
|
| Schlagworte: | |
| Online Zugang: | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/116087 |
| Tags: |
Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
|
| Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Zitieren: | Характеризация элементного распределения по глубине пленок и покрытий методами RF GD-OES и TOFMS™ / П. Чапон, О.К. Костенко // Наука та інновації. — 2012. — Т. 8, № 2. — С. 34-38. — Бібліогр.: 6 назв. — рос. |