Химико-механическое полирование кристаллов твердых растворов на основе теллуридов висмута и сурьмы бромвыделяющими композициями
Исследован процесс химико-механического полирования (ХМП) поверхности полупроводниковых кристаллов Ві₂Te₃ и твердых растворов n-(Bi₂Te₃)₀,₉ (Sb₂Te₃)₀,₀₅(Sb₂Se₃)₀,₀₅ и p-(Bi₂Te₃)₀,₂₅(Sb₂Te₃)₀,₇₂(Sb₂Se₃)₀,₀₃ бромвыделяющими травителями. Изучены зависимости скоростей ХМП от разбавления базового полирую...
Збережено в:
| Опубліковано в: : | Оптоэлектроника и полупроводниковая техника |
|---|---|
| Дата: | 2011 |
| Автори: | , , , , |
| Формат: | Стаття |
| Мова: | Російська |
| Опубліковано: |
Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України
2011
|
| Онлайн доступ: | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/116699 |
| Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
| Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Цитувати: | Химико-механическое полирование кристаллов твердых растворов на основе теллуридов висмута и сурьмы бромвыделяющими композициями / И.И. Павлович, В.Н. Томашик, З.Ф. Томашик, И.Б. Стратийчук, А.И. Копыл // Оптоэлектроника и полупроводниковая техника: Сб. научн. тр. — 2011. — Вип. 46. — С. 68-73. — Бібліогр.: 7 назв. — рос. |
Репозитарії
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine| _version_ | 1862619842880733184 |
|---|---|
| author | Павлович, И.И. Томашик, В.Н. Томашик, З.Ф. Стратийчук, И.Б. Копыл, А.И. |
| author_facet | Павлович, И.И. Томашик, В.Н. Томашик, З.Ф. Стратийчук, И.Б. Копыл, А.И. |
| citation_txt | Химико-механическое полирование кристаллов твердых растворов на основе теллуридов висмута и сурьмы бромвыделяющими композициями / И.И. Павлович, В.Н. Томашик, З.Ф. Томашик, И.Б. Стратийчук, А.И. Копыл // Оптоэлектроника и полупроводниковая техника: Сб. научн. тр. — 2011. — Вип. 46. — С. 68-73. — Бібліогр.: 7 назв. — рос. |
| collection | DSpace DC |
| container_title | Оптоэлектроника и полупроводниковая техника |
| description | Исследован процесс химико-механического полирования (ХМП) поверхности полупроводниковых кристаллов Ві₂Te₃ и твердых растворов n-(Bi₂Te₃)₀,₉ (Sb₂Te₃)₀,₀₅(Sb₂Se₃)₀,₀₅ и p-(Bi₂Te₃)₀,₂₅(Sb₂Te₃)₀,₇₂(Sb₂Se₃)₀,₀₃ бромвыделяющими травителями. Изучены зависимости скоростей ХМП от разбавления базового полирующего травителя органическими компонентами, а также состояние поверхности после полирования. Оптимизированы составы полирующих смесей и режимы проведения операций для формирования высококачественной полированной поверхности.
The process of chemical-mechanical polishing (CMP) of the surface of semiconductor crystals of Bi₂Te₃, n-(Bi₂Te₃)₀,₉(Sb₂Te₃)₀,₀₅(Sb₂Se₃)₀,₀₅ and p-(Bi₂Te₃)₀,₂₅(Sb₂Te₃)₀,₇₂ (Sb₂Se₃)₀,₀₃ by etchants, which release bromine, was investigated. The dependence of CMP rate on dissolution of basic polishing etchant by organic compounds and the state of the surface after polishing was studied. The compositions of polishing compounds and modes of operation for the formation of high-quality polished surface were optimized.
|
| first_indexed | 2025-12-07T13:19:26Z |
| format | Article |
| fulltext | |
| id | nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-116699 |
| institution | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| issn | 0233-7577 |
| language | Russian |
| last_indexed | 2025-12-07T13:19:26Z |
| publishDate | 2011 |
| publisher | Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України |
| record_format | dspace |
| spelling | Павлович, И.И. Томашик, В.Н. Томашик, З.Ф. Стратийчук, И.Б. Копыл, А.И. 2017-05-13T20:40:38Z 2017-05-13T20:40:38Z 2011 Химико-механическое полирование кристаллов твердых растворов на основе теллуридов висмута и сурьмы бромвыделяющими композициями / И.И. Павлович, В.Н. Томашик, З.Ф. Томашик, И.Б. Стратийчук, А.И. Копыл // Оптоэлектроника и полупроводниковая техника: Сб. научн. тр. — 2011. — Вип. 46. — С. 68-73. — Бібліогр.: 7 назв. — рос. 0233-7577 https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/116699 621.794.4 : 546.87'24 Исследован процесс химико-механического полирования (ХМП) поверхности полупроводниковых кристаллов Ві₂Te₃ и твердых растворов n-(Bi₂Te₃)₀,₉ (Sb₂Te₃)₀,₀₅(Sb₂Se₃)₀,₀₅ и p-(Bi₂Te₃)₀,₂₅(Sb₂Te₃)₀,₇₂(Sb₂Se₃)₀,₀₃ бромвыделяющими травителями. Изучены зависимости скоростей ХМП от разбавления базового полирующего травителя органическими компонентами, а также состояние поверхности после полирования. Оптимизированы составы полирующих смесей и режимы проведения операций для формирования высококачественной полированной поверхности. The process of chemical-mechanical polishing (CMP) of the surface of semiconductor crystals of Bi₂Te₃, n-(Bi₂Te₃)₀,₉(Sb₂Te₃)₀,₀₅(Sb₂Se₃)₀,₀₅ and p-(Bi₂Te₃)₀,₂₅(Sb₂Te₃)₀,₇₂ (Sb₂Se₃)₀,₀₃ by etchants, which release bromine, was investigated. The dependence of CMP rate on dissolution of basic polishing etchant by organic compounds and the state of the surface after polishing was studied. The compositions of polishing compounds and modes of operation for the formation of high-quality polished surface were optimized. ru Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України Оптоэлектроника и полупроводниковая техника Химико-механическое полирование кристаллов твердых растворов на основе теллуридов висмута и сурьмы бромвыделяющими композициями Chemical-mechanical polishing of solid solutions crystals based on bismuth and antimony tellurides by compositions, which release bromine Article published earlier |
| spellingShingle | Химико-механическое полирование кристаллов твердых растворов на основе теллуридов висмута и сурьмы бромвыделяющими композициями Павлович, И.И. Томашик, В.Н. Томашик, З.Ф. Стратийчук, И.Б. Копыл, А.И. |
| title | Химико-механическое полирование кристаллов твердых растворов на основе теллуридов висмута и сурьмы бромвыделяющими композициями |
| title_alt | Chemical-mechanical polishing of solid solutions crystals based on bismuth and antimony tellurides by compositions, which release bromine |
| title_full | Химико-механическое полирование кристаллов твердых растворов на основе теллуридов висмута и сурьмы бромвыделяющими композициями |
| title_fullStr | Химико-механическое полирование кристаллов твердых растворов на основе теллуридов висмута и сурьмы бромвыделяющими композициями |
| title_full_unstemmed | Химико-механическое полирование кристаллов твердых растворов на основе теллуридов висмута и сурьмы бромвыделяющими композициями |
| title_short | Химико-механическое полирование кристаллов твердых растворов на основе теллуридов висмута и сурьмы бромвыделяющими композициями |
| title_sort | химико-механическое полирование кристаллов твердых растворов на основе теллуридов висмута и сурьмы бромвыделяющими композициями |
| url | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/116699 |
| work_keys_str_mv | AT pavlovičii himikomehaničeskoepolirovaniekristallovtverdyhrastvorovnaosnovetelluridovvismutaisurʹmybromvydelâûŝimikompoziciâmi AT tomašikvn himikomehaničeskoepolirovaniekristallovtverdyhrastvorovnaosnovetelluridovvismutaisurʹmybromvydelâûŝimikompoziciâmi AT tomašikzf himikomehaničeskoepolirovaniekristallovtverdyhrastvorovnaosnovetelluridovvismutaisurʹmybromvydelâûŝimikompoziciâmi AT stratiičukib himikomehaničeskoepolirovaniekristallovtverdyhrastvorovnaosnovetelluridovvismutaisurʹmybromvydelâûŝimikompoziciâmi AT kopylai himikomehaničeskoepolirovaniekristallovtverdyhrastvorovnaosnovetelluridovvismutaisurʹmybromvydelâûŝimikompoziciâmi AT pavlovičii chemicalmechanicalpolishingofsolidsolutionscrystalsbasedonbismuthandantimonytelluridesbycompositionswhichreleasebromine AT tomašikvn chemicalmechanicalpolishingofsolidsolutionscrystalsbasedonbismuthandantimonytelluridesbycompositionswhichreleasebromine AT tomašikzf chemicalmechanicalpolishingofsolidsolutionscrystalsbasedonbismuthandantimonytelluridesbycompositionswhichreleasebromine AT stratiičukib chemicalmechanicalpolishingofsolidsolutionscrystalsbasedonbismuthandantimonytelluridesbycompositionswhichreleasebromine AT kopylai chemicalmechanicalpolishingofsolidsolutionscrystalsbasedonbismuthandantimonytelluridesbycompositionswhichreleasebromine |