Хіміко-механічне полірування монокристалів CdTe бромвиділяючими розчинами H₂O₂—HBr—етиленгліколь
Досліджено процес хіміко-механічного полірування напівпровідникових монокристалів CdTe бромвиділяючими травильними композиціями на основі водних розчинів H₂O₂–HBr–етиленгліколь. З’ясовано вплив природи в’язкого органічного компоненту на швидкість травлення і якість полірування поверхні кристалів. Оп...
Gespeichert in:
| Veröffentlicht in: | Оптоэлектроника и полупроводниковая техника |
|---|---|
| Datum: | 2011 |
| 1. Verfasser: | |
| Format: | Artikel |
| Sprache: | Ukrainisch |
| Veröffentlicht: |
Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України
2011
|
| Online Zugang: | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/116708 |
| Tags: |
Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
|
| Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Zitieren: | Хіміко-механічне полірування монокристалів CdTe бромвиділяючими розчинами H₂O₂—HBr—етиленгліколь / І.Б. Стратійчук // Оптоэлектроника и полупроводниковая техника: Сб. научн. тр. — 2011. — Вип. 46. — С. 134-139. — Бібліогр.: 10 назв. — укр. |
Institution
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine| _version_ | 1862717706089791488 |
|---|---|
| author | Стратійчук, І.Б. |
| author_facet | Стратійчук, І.Б. |
| citation_txt | Хіміко-механічне полірування монокристалів CdTe бромвиділяючими розчинами H₂O₂—HBr—етиленгліколь / І.Б. Стратійчук // Оптоэлектроника и полупроводниковая техника: Сб. научн. тр. — 2011. — Вип. 46. — С. 134-139. — Бібліогр.: 10 назв. — укр. |
| collection | DSpace DC |
| container_title | Оптоэлектроника и полупроводниковая техника |
| description | Досліджено процес хіміко-механічного полірування напівпровідникових монокристалів CdTe бромвиділяючими травильними композиціями на основі водних розчинів H₂O₂–HBr–етиленгліколь. З’ясовано вплив природи в’язкого органічного компоненту на швидкість травлення і якість полірування поверхні кристалів. Оптимізовано склади полірувальних травильних композицій та розроблено режими хіміко-механічного полірування кадмій телуриду. За допомогою профілографічного та металографічного аналізів досліджено стан полірованої поверхні та визначено її шорсткість.
Chemical-mechanical polishing of the CdTe semiconductor single crystals by the bromine-releasing etchant compositions based on the H₂O₂–HBr–ethylene glycol aqueous solutions has been investigated. The influence of the viscous organic component on the etching rate and surface crystals polishing quality has been determined. The compositions of polishing etchants have been optimized and the conditions of the CdTe chemical mechanic polishing have been developed. The polishing surfaces and their roughness have been investigated using surface profilogram and metallography.
|
| first_indexed | 2025-12-07T18:11:46Z |
| format | Article |
| fulltext | |
| id | nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-116708 |
| institution | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| issn | 0233-7577 |
| language | Ukrainian |
| last_indexed | 2025-12-07T18:11:46Z |
| publishDate | 2011 |
| publisher | Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України |
| record_format | dspace |
| spelling | Стратійчук, І.Б. 2017-05-13T20:41:31Z 2017-05-13T20:41:31Z 2011 Хіміко-механічне полірування монокристалів CdTe бромвиділяючими розчинами H₂O₂—HBr—етиленгліколь / І.Б. Стратійчук // Оптоэлектроника и полупроводниковая техника: Сб. научн. тр. — 2011. — Вип. 46. — С. 134-139. — Бібліогр.: 10 назв. — укр. 0233-7577 https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/116708 621.794.4 : 546.48/24 Досліджено процес хіміко-механічного полірування напівпровідникових монокристалів CdTe бромвиділяючими травильними композиціями на основі водних розчинів H₂O₂–HBr–етиленгліколь. З’ясовано вплив природи в’язкого органічного компоненту на швидкість травлення і якість полірування поверхні кристалів. Оптимізовано склади полірувальних травильних композицій та розроблено режими хіміко-механічного полірування кадмій телуриду. За допомогою профілографічного та металографічного аналізів досліджено стан полірованої поверхні та визначено її шорсткість. Chemical-mechanical polishing of the CdTe semiconductor single crystals by the bromine-releasing etchant compositions based on the H₂O₂–HBr–ethylene glycol aqueous solutions has been investigated. The influence of the viscous organic component on the etching rate and surface crystals polishing quality has been determined. The compositions of polishing etchants have been optimized and the conditions of the CdTe chemical mechanic polishing have been developed. The polishing surfaces and their roughness have been investigated using surface profilogram and metallography. uk Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України Оптоэлектроника и полупроводниковая техника Хіміко-механічне полірування монокристалів CdTe бромвиділяючими розчинами H₂O₂—HBr—етиленгліколь Chemical-mechanical polishing of CdTe single crystals by bromine emerging solutions H₂O₂—HBr—ethylene glycol Article published earlier |
| spellingShingle | Хіміко-механічне полірування монокристалів CdTe бромвиділяючими розчинами H₂O₂—HBr—етиленгліколь Стратійчук, І.Б. |
| title | Хіміко-механічне полірування монокристалів CdTe бромвиділяючими розчинами H₂O₂—HBr—етиленгліколь |
| title_alt | Chemical-mechanical polishing of CdTe single crystals by bromine emerging solutions H₂O₂—HBr—ethylene glycol |
| title_full | Хіміко-механічне полірування монокристалів CdTe бромвиділяючими розчинами H₂O₂—HBr—етиленгліколь |
| title_fullStr | Хіміко-механічне полірування монокристалів CdTe бромвиділяючими розчинами H₂O₂—HBr—етиленгліколь |
| title_full_unstemmed | Хіміко-механічне полірування монокристалів CdTe бромвиділяючими розчинами H₂O₂—HBr—етиленгліколь |
| title_short | Хіміко-механічне полірування монокристалів CdTe бромвиділяючими розчинами H₂O₂—HBr—етиленгліколь |
| title_sort | хіміко-механічне полірування монокристалів cdte бромвиділяючими розчинами h₂o₂—hbr—етиленгліколь |
| url | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/116708 |
| work_keys_str_mv | AT stratíičukíb hímíkomehaníčnepolíruvannâmonokristalívcdtebromvidílâûčimirozčinamih2o2hbretilenglíkolʹ AT stratíičukíb chemicalmechanicalpolishingofcdtesinglecrystalsbybromineemergingsolutionsh2o2hbrethyleneglycol |