Охрименко, О. (2012). Влияние буферного слоя пористого карбида кремния на формирование границы раздела с оксидным слоем (обзор). Оптоэлектроника и полупроводниковая техника.
Chicago Style (17th ed.) CitationОхрименко, О.Б. "Влияние буферного слоя пористого карбида кремния на формирование границы раздела с оксидным слоем (обзор)." Оптоэлектроника и полупроводниковая техника 2012.
MLA (8th ed.) CitationОхрименко, О.Б. "Влияние буферного слоя пористого карбида кремния на формирование границы раздела с оксидным слоем (обзор)." Оптоэлектроника и полупроводниковая техника, 2012.
Warning: These citations may not always be 100% accurate.