Інтерференційна фотолітографія на основі ефекту фототравлення в тонких шарах халькогенідних стекол

Виявлено ефект фотостимульованого підвищення розчинності відпалених плівок халькогенідних скловидних напівпровідників (ХСН) в селективних протравлювачах на основі амінів. Встановлено, що швидкість травлення підвищується при збільшенні інтенсивності опромінення, а її спектральна залежність корелює з...

Повний опис

Збережено в:
Бібліографічні деталі
Опубліковано в: :Оптоэлектроника и полупроводниковая техника
Дата:2012
Автори: Данько, В.А., Індутний, І.З., Минько, В.І., Шепелявий, П.Є., Литвин, О.С., Луканюк, М.В.
Формат: Стаття
Мова:Ukrainian
Опубліковано: Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України 2012
Онлайн доступ:https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/116715
Теги: Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
Назва журналу:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Цитувати:Інтерференційна фотолітографія на основі ефекту фототравлення в тонких шарах халькогенідних стекол / В.А. Данько, І.З. Індутний, В.І. Минько, П.Є. Шепелявий, О.С. Литвин, М.В. Луканюк // Оптоэлектроника и полупроводниковая техника: Сб. научн. тр. — 2012. — Вип. 47. — С. 51-58. — Бібліогр.: 19 назв. — укр.

Репозитарії

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
id nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-116715
record_format dspace
spelling Данько, В.А.
Індутний, І.З.
Минько, В.І.
Шепелявий, П.Є.
Литвин, О.С.
Луканюк, М.В.
2017-05-14T12:18:17Z
2017-05-14T12:18:17Z
2012
Інтерференційна фотолітографія на основі ефекту фототравлення в тонких шарах халькогенідних стекол / В.А. Данько, І.З. Індутний, В.І. Минько, П.Є. Шепелявий, О.С. Литвин, М.В. Луканюк // Оптоэлектроника и полупроводниковая техника: Сб. научн. тр. — 2012. — Вип. 47. — С. 51-58. — Бібліогр.: 19 назв. — укр.
0233-7577
https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/116715
535.421;621.793/794
Виявлено ефект фотостимульованого підвищення розчинності відпалених плівок халькогенідних скловидних напівпровідників (ХСН) в селективних протравлювачах на основі амінів. Встановлено, що швидкість травлення підвищується при збільшенні інтенсивності опромінення, а її спектральна залежність корелює з поглинанням у плівці ХСН в області краю міжзонних переходів. Показано, що новий фотостимульований ефект дає змогу реалізувати фотолітографічний процес (у тому числі процес інтерференційної фотолітографії) на шарах ХСН, відпалених за температури, близької до температури розм’якшення халькогенідного скла, шляхом одночасного експонування та селективного протравлювання таких шарів. Обговорюється можливий механізм фототравлення ХСН.
It is found the photoinduced enhancement in solubility of annealed films of chalcogenide glasses (ChG) in amine-based selective etchants. With increasing of irradiation intensity the rate of the films etching rises, and its spectral dependence correlates with absorption of ChG films in the spectral range near absorption edge. The new photoinduced effect allows realize a photolithography (including the process of interference photolithography) on the ChG layers, annealed near the glass-transition temperature, by the simultaneous exposure and selective etching of such layers. The possible mechanism of photo-induced etching of ChG films is discussed.
uk
Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України
Оптоэлектроника и полупроводниковая техника
Інтерференційна фотолітографія на основі ефекту фототравлення в тонких шарах халькогенідних стекол
Photoinduced etching of thin films of chalcogenide glasses
Article
published earlier
institution Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
collection DSpace DC
title Інтерференційна фотолітографія на основі ефекту фототравлення в тонких шарах халькогенідних стекол
spellingShingle Інтерференційна фотолітографія на основі ефекту фототравлення в тонких шарах халькогенідних стекол
Данько, В.А.
Індутний, І.З.
Минько, В.І.
Шепелявий, П.Є.
Литвин, О.С.
Луканюк, М.В.
title_short Інтерференційна фотолітографія на основі ефекту фототравлення в тонких шарах халькогенідних стекол
title_full Інтерференційна фотолітографія на основі ефекту фототравлення в тонких шарах халькогенідних стекол
title_fullStr Інтерференційна фотолітографія на основі ефекту фототравлення в тонких шарах халькогенідних стекол
title_full_unstemmed Інтерференційна фотолітографія на основі ефекту фототравлення в тонких шарах халькогенідних стекол
title_sort інтерференційна фотолітографія на основі ефекту фототравлення в тонких шарах халькогенідних стекол
author Данько, В.А.
Індутний, І.З.
Минько, В.І.
Шепелявий, П.Є.
Литвин, О.С.
Луканюк, М.В.
author_facet Данько, В.А.
Індутний, І.З.
Минько, В.І.
Шепелявий, П.Є.
Литвин, О.С.
Луканюк, М.В.
publishDate 2012
language Ukrainian
container_title Оптоэлектроника и полупроводниковая техника
publisher Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України
format Article
title_alt Photoinduced etching of thin films of chalcogenide glasses
description Виявлено ефект фотостимульованого підвищення розчинності відпалених плівок халькогенідних скловидних напівпровідників (ХСН) в селективних протравлювачах на основі амінів. Встановлено, що швидкість травлення підвищується при збільшенні інтенсивності опромінення, а її спектральна залежність корелює з поглинанням у плівці ХСН в області краю міжзонних переходів. Показано, що новий фотостимульований ефект дає змогу реалізувати фотолітографічний процес (у тому числі процес інтерференційної фотолітографії) на шарах ХСН, відпалених за температури, близької до температури розм’якшення халькогенідного скла, шляхом одночасного експонування та селективного протравлювання таких шарів. Обговорюється можливий механізм фототравлення ХСН. It is found the photoinduced enhancement in solubility of annealed films of chalcogenide glasses (ChG) in amine-based selective etchants. With increasing of irradiation intensity the rate of the films etching rises, and its spectral dependence correlates with absorption of ChG films in the spectral range near absorption edge. The new photoinduced effect allows realize a photolithography (including the process of interference photolithography) on the ChG layers, annealed near the glass-transition temperature, by the simultaneous exposure and selective etching of such layers. The possible mechanism of photo-induced etching of ChG films is discussed.
issn 0233-7577
url https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/116715
citation_txt Інтерференційна фотолітографія на основі ефекту фототравлення в тонких шарах халькогенідних стекол / В.А. Данько, І.З. Індутний, В.І. Минько, П.Є. Шепелявий, О.С. Литвин, М.В. Луканюк // Оптоэлектроника и полупроводниковая техника: Сб. научн. тр. — 2012. — Вип. 47. — С. 51-58. — Бібліогр.: 19 назв. — укр.
work_keys_str_mv AT danʹkova ínterferencíinafotolítografíânaosnovíefektufototravlennâvtonkihšarahhalʹkogenídnihstekol
AT índutniiíz ínterferencíinafotolítografíânaosnovíefektufototravlennâvtonkihšarahhalʹkogenídnihstekol
AT minʹkoví ínterferencíinafotolítografíânaosnovíefektufototravlennâvtonkihšarahhalʹkogenídnihstekol
AT šepelâviipê ínterferencíinafotolítografíânaosnovíefektufototravlennâvtonkihšarahhalʹkogenídnihstekol
AT litvinos ínterferencíinafotolítografíânaosnovíefektufototravlennâvtonkihšarahhalʹkogenídnihstekol
AT lukanûkmv ínterferencíinafotolítografíânaosnovíefektufototravlennâvtonkihšarahhalʹkogenídnihstekol
AT danʹkova photoinducedetchingofthinfilmsofchalcogenideglasses
AT índutniiíz photoinducedetchingofthinfilmsofchalcogenideglasses
AT minʹkoví photoinducedetchingofthinfilmsofchalcogenideglasses
AT šepelâviipê photoinducedetchingofthinfilmsofchalcogenideglasses
AT litvinos photoinducedetchingofthinfilmsofchalcogenideglasses
AT lukanûkmv photoinducedetchingofthinfilmsofchalcogenideglasses
first_indexed 2025-12-07T19:02:49Z
last_indexed 2025-12-07T19:02:49Z
_version_ 1850877326476181504