Фотоелектричні властивості подвійних гетеропереходів p+-InP/n-InGaAsP/n-InP

Розглянуто вплив технологічних режимів вирощування подвійних гетеропереходів p⁺-InP/n-InGaAsP/n-InP методом РФЕ на їх фотоелектричні властивост і. Показано, що вирощування додаткового буферного шару n-InP на шарі n-InGaAsP, а також зменшення часу вирощування емітерного p⁺-InP шару, легованого цинком...

Повний опис

Збережено в:
Бібліографічні деталі
Опубліковано в: :Оптоэлектроника и полупроводниковая техника
Дата:2012
Автори: Круковський, C.I., Сукач, А.В., Тетьоркін, В.В., Мрихін, І.О., Михащук, Ю.С.
Формат: Стаття
Мова:Ukrainian
Опубліковано: Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України 2012
Онлайн доступ:https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/116717
Теги: Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
Назва журналу:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Цитувати:Фотоелектричні властивості подвійних гетеропереходів p+-InP/n-InGaAsP/n-InP / C.I. Круковський, А.В. Сукач, В.В. Тетьоркін, І.О. Мрихін, Ю.С. Михащук // Оптоэлектроника и полупроводниковая техника: Сб. научн. тр. — 2012. — Вип. 47. — С. 64-69. — Бібліогр.: 15 назв. — рос.

Репозитарії

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
id nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-116717
record_format dspace
spelling Круковський, C.I.
Сукач, А.В.
Тетьоркін, В.В.
Мрихін, І.О.
Михащук, Ю.С.
2017-05-14T12:22:35Z
2017-05-14T12:22:35Z
2012
Фотоелектричні властивості подвійних гетеропереходів p+-InP/n-InGaAsP/n-InP / C.I. Круковський, А.В. Сукач, В.В. Тетьоркін, І.О. Мрихін, Ю.С. Михащук // Оптоэлектроника и полупроводниковая техника: Сб. научн. тр. — 2012. — Вип. 47. — С. 64-69. — Бібліогр.: 15 назв. — рос.
0233-7577
https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/116717
621.315.592
Розглянуто вплив технологічних режимів вирощування подвійних гетеропереходів p⁺-InP/n-InGaAsP/n-InP методом РФЕ на їх фотоелектричні властивост і. Показано, що вирощування додаткового буферного шару n-InP на шарі n-InGaAsP, а також зменшення часу вирощування емітерного p⁺-InP шару, легованого цинком, призводить до збігу металургійної та електричної гетеромеж, що обумовлю є реалізацію ефекту «широкозонного вікна» на спектрах фоточутливості гетеропереход ів. Проаналізовано еволюцію спектрів електролюмінесценції гетеропереход ів залежно від технологічних режимів їх вирощування і показано можливість їх використання для створення ефективних ІЧ-світлодіодів з λmax = 1,06 мкм.
The effect of technological regimes of growing of double heterojunctions p⁺-InP/n-InGaAsP/n-InP by LPE on their photovoltaic properties is investigated. It is shown that growing of additional buffer layer of n-InP on n-InGaAsP and reducing the growth time of emitter p⁺-InP layer doped with zinc leads to match metallurgical and electrical heterojunctions, which makes the implementation of «wide-window» effect in the photosensitivity spectra of heterojunctions. The evolution of electroluminescence spectra of heterojunctions is analyzed, depending on thechnological regime of growth and possibility of using them to create efficient IR LED with λmax = 1,06 microns is shown.
uk
Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України
Оптоэлектроника и полупроводниковая техника
Фотоелектричні властивості подвійних гетеропереходів p+-InP/n-InGaAsP/n-InP
Photoelectrical properties of p+-InP/n-InGaAsP/n-InP double heterojunctions
Article
published earlier
institution Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
collection DSpace DC
title Фотоелектричні властивості подвійних гетеропереходів p+-InP/n-InGaAsP/n-InP
spellingShingle Фотоелектричні властивості подвійних гетеропереходів p+-InP/n-InGaAsP/n-InP
Круковський, C.I.
Сукач, А.В.
Тетьоркін, В.В.
Мрихін, І.О.
Михащук, Ю.С.
title_short Фотоелектричні властивості подвійних гетеропереходів p+-InP/n-InGaAsP/n-InP
title_full Фотоелектричні властивості подвійних гетеропереходів p+-InP/n-InGaAsP/n-InP
title_fullStr Фотоелектричні властивості подвійних гетеропереходів p+-InP/n-InGaAsP/n-InP
title_full_unstemmed Фотоелектричні властивості подвійних гетеропереходів p+-InP/n-InGaAsP/n-InP
title_sort фотоелектричні властивості подвійних гетеропереходів p+-inp/n-ingaasp/n-inp
author Круковський, C.I.
Сукач, А.В.
Тетьоркін, В.В.
Мрихін, І.О.
Михащук, Ю.С.
author_facet Круковський, C.I.
Сукач, А.В.
Тетьоркін, В.В.
Мрихін, І.О.
Михащук, Ю.С.
publishDate 2012
language Ukrainian
container_title Оптоэлектроника и полупроводниковая техника
publisher Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України
format Article
title_alt Photoelectrical properties of p+-InP/n-InGaAsP/n-InP double heterojunctions
description Розглянуто вплив технологічних режимів вирощування подвійних гетеропереходів p⁺-InP/n-InGaAsP/n-InP методом РФЕ на їх фотоелектричні властивост і. Показано, що вирощування додаткового буферного шару n-InP на шарі n-InGaAsP, а також зменшення часу вирощування емітерного p⁺-InP шару, легованого цинком, призводить до збігу металургійної та електричної гетеромеж, що обумовлю є реалізацію ефекту «широкозонного вікна» на спектрах фоточутливості гетеропереход ів. Проаналізовано еволюцію спектрів електролюмінесценції гетеропереход ів залежно від технологічних режимів їх вирощування і показано можливість їх використання для створення ефективних ІЧ-світлодіодів з λmax = 1,06 мкм. The effect of technological regimes of growing of double heterojunctions p⁺-InP/n-InGaAsP/n-InP by LPE on their photovoltaic properties is investigated. It is shown that growing of additional buffer layer of n-InP on n-InGaAsP and reducing the growth time of emitter p⁺-InP layer doped with zinc leads to match metallurgical and electrical heterojunctions, which makes the implementation of «wide-window» effect in the photosensitivity spectra of heterojunctions. The evolution of electroluminescence spectra of heterojunctions is analyzed, depending on thechnological regime of growth and possibility of using them to create efficient IR LED with λmax = 1,06 microns is shown.
issn 0233-7577
url https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/116717
citation_txt Фотоелектричні властивості подвійних гетеропереходів p+-InP/n-InGaAsP/n-InP / C.I. Круковський, А.В. Сукач, В.В. Тетьоркін, І.О. Мрихін, Ю.С. Михащук // Оптоэлектроника и полупроводниковая техника: Сб. научн. тр. — 2012. — Вип. 47. — С. 64-69. — Бібліогр.: 15 назв. — рос.
work_keys_str_mv AT krukovsʹkiici fotoelektričnívlastivostípodvíinihgeteroperehodívpinpningaaspninp
AT sukačav fotoelektričnívlastivostípodvíinihgeteroperehodívpinpningaaspninp
AT tetʹorkínvv fotoelektričnívlastivostípodvíinihgeteroperehodívpinpningaaspninp
AT mrihínío fotoelektričnívlastivostípodvíinihgeteroperehodívpinpningaaspninp
AT mihaŝukûs fotoelektričnívlastivostípodvíinihgeteroperehodívpinpningaaspninp
AT krukovsʹkiici photoelectricalpropertiesofpinpningaaspninpdoubleheterojunctions
AT sukačav photoelectricalpropertiesofpinpningaaspninpdoubleheterojunctions
AT tetʹorkínvv photoelectricalpropertiesofpinpningaaspninpdoubleheterojunctions
AT mrihínío photoelectricalpropertiesofpinpningaaspninpdoubleheterojunctions
AT mihaŝukûs photoelectricalpropertiesofpinpningaaspninpdoubleheterojunctions
first_indexed 2025-12-07T19:00:40Z
last_indexed 2025-12-07T19:00:40Z
_version_ 1850877191387086848