Про акустостимульовану самоорганізацію дефектно-домішкових структур напівпровідника в процесі йонної мплантації

Коротко проаналізовано основні механізми дії акустичної хвилі (АХ) при іонній імплантації на перерозподіл домішок і дефектну структуру напівпровідникового кристала. На експериментальних прикладах показано, що здебільшого дія АХ не виявляється в процесі імплантації, а є відкладеною. Роль АХ в окремих...

Full description

Saved in:
Bibliographic Details
Published in:Оптоэлектроника и полупроводниковая техника
Date:2013
Main Author: Оліх, Я.М.
Format: Article
Language:Ukrainian
Published: Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України 2013
Online Access:https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/116734
Tags: Add Tag
No Tags, Be the first to tag this record!
Journal Title:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Cite this:Про акустостимульовану самоорганізацію дефектно-домішкових структур напівпровідника в процесі йонної мплантації / Я.М. Оліх // Оптоэлектроника и полупроводниковая техника: Сб. научн. тр. — 2013. — Вип. 48. — С. 113-120. — Бібліогр.: 15 назв. — укр.

Institution

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
_version_ 1862707804408643584
author Оліх, Я.М.
author_facet Оліх, Я.М.
citation_txt Про акустостимульовану самоорганізацію дефектно-домішкових структур напівпровідника в процесі йонної мплантації / Я.М. Оліх // Оптоэлектроника и полупроводниковая техника: Сб. научн. тр. — 2013. — Вип. 48. — С. 113-120. — Бібліогр.: 15 назв. — укр.
collection DSpace DC
container_title Оптоэлектроника и полупроводниковая техника
description Коротко проаналізовано основні механізми дії акустичної хвилі (АХ) при іонній імплантації на перерозподіл домішок і дефектну структуру напівпровідникового кристала. На експериментальних прикладах показано, що здебільшого дія АХ не виявляється в процесі імплантації, а є відкладеною. Роль АХ в окремих експериментальних умовах є особливою, інтелектуальною, і зводиться до інформаційної модуляції процесів релаксації енергетично збудженої нерівноважної структури дефектів та утворення просторово-динамічної матриці об’єму, яка може запам’ятовуватися. Запропоновано доповнити традиційні механізми дії АХ на процеси релаксації структури дефектів кристала інформаційним з урахуванням реалізації дисипативного резонансу в системі домішково-дефектної структури, механізм якого забезпечує не тільки накопичення зовнішнього акустичного збурення з часом, а й стимулює просторову самоорганізацію точкових дефектів напівпровідникового кристала. The short analysis of basic mechanisms of acoustic wave (AW) action at ionic implantation on the redistribution of impurities and defect structure of semiconductor crystal is conducted. On experimental examples were showed that action results of AW does not appear in the process of implantation, mainly, but is delayed. The action of AW in separate experimental conditions is the special, intellectual, and take to informative modulation a relaxation processes of power disturbance non-equilibrium structure of defects and formation of spatially-dynamic matrix, which can be memorized. It is suggested to complement the traditional mechanisms of action AW on the relaxation processes of crystal defect structure the informative. Such approach take into account a new possibility a realization of dissipation resonance in the system of impurity-defect structures; the mechanism of which provides not only the accumulation of external acoustic perturburation in time out, but stimulates a spatial self-organization of point defects in semiconductor crystal.
first_indexed 2025-12-07T17:07:30Z
format Article
fulltext
id nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-116734
institution Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
issn 0233-7577
language Ukrainian
last_indexed 2025-12-07T17:07:30Z
publishDate 2013
publisher Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України
record_format dspace
spelling Оліх, Я.М.
2017-05-14T14:48:50Z
2017-05-14T14:48:50Z
2013
Про акустостимульовану самоорганізацію дефектно-домішкових структур напівпровідника в процесі йонної мплантації / Я.М. Оліх // Оптоэлектроника и полупроводниковая техника: Сб. научн. тр. — 2013. — Вип. 48. — С. 113-120. — Бібліогр.: 15 назв. — укр.
0233-7577
https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/116734
537.534.2:679.826; 621.315.592
Коротко проаналізовано основні механізми дії акустичної хвилі (АХ) при іонній імплантації на перерозподіл домішок і дефектну структуру напівпровідникового кристала. На експериментальних прикладах показано, що здебільшого дія АХ не виявляється в процесі імплантації, а є відкладеною. Роль АХ в окремих експериментальних умовах є особливою, інтелектуальною, і зводиться до інформаційної модуляції процесів релаксації енергетично збудженої нерівноважної структури дефектів та утворення просторово-динамічної матриці об’єму, яка може запам’ятовуватися. Запропоновано доповнити традиційні механізми дії АХ на процеси релаксації структури дефектів кристала інформаційним з урахуванням реалізації дисипативного резонансу в системі домішково-дефектної структури, механізм якого забезпечує не тільки накопичення зовнішнього акустичного збурення з часом, а й стимулює просторову самоорганізацію точкових дефектів напівпровідникового кристала.
The short analysis of basic mechanisms of acoustic wave (AW) action at ionic implantation on the redistribution of impurities and defect structure of semiconductor crystal is conducted. On experimental examples were showed that action results of AW does not appear in the process of implantation, mainly, but is delayed. The action of AW in separate experimental conditions is the special, intellectual, and take to informative modulation a relaxation processes of power disturbance non-equilibrium structure of defects and formation of spatially-dynamic matrix, which can be memorized. It is suggested to complement the traditional mechanisms of action AW on the relaxation processes of crystal defect structure the informative. Such approach take into account a new possibility a realization of dissipation resonance in the system of impurity-defect structures; the mechanism of which provides not only the accumulation of external acoustic perturburation in time out, but stimulates a spatial self-organization of point defects in semiconductor crystal.
Роботу виконано за часткової підтримки ДЦНТП «Нанотехнології та наноматеріали» (проект №3.5.1.30).
uk
Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України
Оптоэлектроника и полупроводниковая техника
Про акустостимульовану самоорганізацію дефектно-домішкових структур напівпровідника в процесі йонної мплантації
About ultrasound-stimulated a self-organization of defect structures in semiconductors during ion implantation
Article
published earlier
spellingShingle Про акустостимульовану самоорганізацію дефектно-домішкових структур напівпровідника в процесі йонної мплантації
Оліх, Я.М.
title Про акустостимульовану самоорганізацію дефектно-домішкових структур напівпровідника в процесі йонної мплантації
title_alt About ultrasound-stimulated a self-organization of defect structures in semiconductors during ion implantation
title_full Про акустостимульовану самоорганізацію дефектно-домішкових структур напівпровідника в процесі йонної мплантації
title_fullStr Про акустостимульовану самоорганізацію дефектно-домішкових структур напівпровідника в процесі йонної мплантації
title_full_unstemmed Про акустостимульовану самоорганізацію дефектно-домішкових структур напівпровідника в процесі йонної мплантації
title_short Про акустостимульовану самоорганізацію дефектно-домішкових структур напівпровідника в процесі йонної мплантації
title_sort про акустостимульовану самоорганізацію дефектно-домішкових структур напівпровідника в процесі йонної мплантації
url https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/116734
work_keys_str_mv AT olíhâm proakustostimulʹovanusamoorganízacíûdefektnodomíškovihstrukturnapívprovídnikavprocesíionnoímplantacíí
AT olíhâm aboutultrasoundstimulatedaselforganizationofdefectstructuresinsemiconductorsduringionimplantation