Методи створення і властивості омічних контактів до фосфіду індію (огляд)

Систематизовано результати дослідження питомого опору омічних контактів до фосфіду індію. Розглянуто методи формування, матеріали омічних контактів, міжфазні взаємодії у процесі термічного відпалу та вказано оптимальну температуру відпалу для кожного з розглянутих типів металізації. На основі провед...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Оптоэлектроника и полупроводниковая техника
Datum:2015
1. Verfasser: Кудрик, Я.Я.
Format: Artikel
Sprache:Ukrainisch
Veröffentlicht: Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України 2015
Online Zugang:https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/116751
Tags: Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
Назва журналу:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Zitieren:Методи створення і властивості омічних контактів до фосфіду індію (огляд) / Я.Я. Кудрик // Оптоэлектроника и полупроводниковая техника: Сб. научн. тр. — 2015. — Вип. 50. — С. 58-72. — Бібліогр.: 11 назв. — укр.

Institution

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
_version_ 1862619843375661056
author Кудрик, Я.Я.
author_facet Кудрик, Я.Я.
citation_txt Методи створення і властивості омічних контактів до фосфіду індію (огляд) / Я.Я. Кудрик // Оптоэлектроника и полупроводниковая техника: Сб. научн. тр. — 2015. — Вип. 50. — С. 58-72. — Бібліогр.: 11 назв. — укр.
collection DSpace DC
container_title Оптоэлектроника и полупроводниковая техника
description Систематизовано результати дослідження питомого опору омічних контактів до фосфіду індію. Розглянуто методи формування, матеріали омічних контактів, міжфазні взаємодії у процесі термічного відпалу та вказано оптимальну температуру відпалу для кожного з розглянутих типів металізації. На основі проведеного аналізу дано рекомендації щодо оптимізації шарових структур омічного контакту в залежності від області його використання і необхідних параметрів. The investigation results of specific resistivity of ohmic contacts to InP have been systematized. The comparison of different formation methods, materials to the ohmic contacts, interfacial interactions during thermal annealing have been considered and the optimal annealing temperature for each type of considered metallization has been obtained. Being based on the performed analysis, recommendations have been given to optimize the ohmic contact layer structures, depending on the area of their application and required parameters.
first_indexed 2025-12-07T13:19:26Z
format Article
fulltext
id nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-116751
institution Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
issn 0233-7577
language Ukrainian
last_indexed 2025-12-07T13:19:26Z
publishDate 2015
publisher Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України
record_format dspace
spelling Кудрик, Я.Я.
2017-05-14T20:31:41Z
2017-05-14T20:31:41Z
2015
Методи створення і властивості омічних контактів до фосфіду індію (огляд) / Я.Я. Кудрик // Оптоэлектроника и полупроводниковая техника: Сб. научн. тр. — 2015. — Вип. 50. — С. 58-72. — Бібліогр.: 11 назв. — укр.
0233-7577
https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/116751
621.382
Систематизовано результати дослідження питомого опору омічних контактів до фосфіду індію. Розглянуто методи формування, матеріали омічних контактів, міжфазні взаємодії у процесі термічного відпалу та вказано оптимальну температуру відпалу для кожного з розглянутих типів металізації. На основі проведеного аналізу дано рекомендації щодо оптимізації шарових структур омічного контакту в залежності від області його використання і необхідних параметрів.
The investigation results of specific resistivity of ohmic contacts to InP have been systematized. The comparison of different formation methods, materials to the ohmic contacts, interfacial interactions during thermal annealing have been considered and the optimal annealing temperature for each type of considered metallization has been obtained. Being based on the performed analysis, recommendations have been given to optimize the ohmic contact layer structures, depending on the area of their application and required parameters.
uk
Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України
Оптоэлектроника и полупроводниковая техника
Методи створення і властивості омічних контактів до фосфіду індію (огляд)
Methods for creation and properties of ohmic contacts to indium phosphide (rewiev)
Article
published earlier
spellingShingle Методи створення і властивості омічних контактів до фосфіду індію (огляд)
Кудрик, Я.Я.
title Методи створення і властивості омічних контактів до фосфіду індію (огляд)
title_alt Methods for creation and properties of ohmic contacts to indium phosphide (rewiev)
title_full Методи створення і властивості омічних контактів до фосфіду індію (огляд)
title_fullStr Методи створення і властивості омічних контактів до фосфіду індію (огляд)
title_full_unstemmed Методи створення і властивості омічних контактів до фосфіду індію (огляд)
title_short Методи створення і властивості омічних контактів до фосфіду індію (огляд)
title_sort методи створення і властивості омічних контактів до фосфіду індію (огляд)
url https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/116751
work_keys_str_mv AT kudrikââ metodistvorennâívlastivostíomíčnihkontaktívdofosfíduíndíûoglâd
AT kudrikââ methodsforcreationandpropertiesofohmiccontactstoindiumphosphiderewiev