Формування субмікронних періодичних плазмонних структур великої площі методом інтерференційної літографії з використанням вакуумних фоторезистів

Формування субмікронних періодичних плазмонних структур великої площі методом інтерференційної літографії з використанням вакуумних фоторезистів

У даній роботі наведено можливості використання інтерференційної літографії з фоторезистами на основі халькогенідних скловидних напівпровідників у комплексі з термічною обробкою для формування однорідних плазмонних структур з необхідними характеристиками на підкладках великої площі. У результаті дос...

Full description

Saved in:
Bibliographic Details
Published in:Оптоэлектроника и полупроводниковая техника
Date:2015
Main Authors: Данько, В.А., Дмитрук, М.Л., Індутний, І.З., Мамикін, С.В., Минько, В.І., Литвин, П.М., Луканюк, М.В., Шепелявий, П.Є.
Format: Article
Language:Ukrainian
Published: Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України 2015
Online Access:https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/116757
Tags: Add Tag
No Tags, Be the first to tag this record!
Journal Title:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Cite this:Формування субмікронних періодичних плазмонних структур великої площі методом інтерференційної літографії з використанням вакуумних фоторезистів / В.А. Данько, М.Л. Дмитрук, І.З. Індутний, С.В. Мамикін, В.І. Минько, П.М. Литвин, М.В. Луканюк, П.Є. Шепелявий // Оптоэлектроника и полупроводниковая техника: Сб. научн. тр. — 2015. — Вип. 50. — С. 109-116. — Бібліогр.: 24 назв. — укр.

Institution

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
id nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-116757
record_format dspace
spelling Данько, В.А.
Дмитрук, М.Л.
Індутний, І.З.
Мамикін, С.В.
Минько, В.І.
Литвин, П.М.
Луканюк, М.В.
Шепелявий, П.Є.
2017-05-14T20:44:37Z
2017-05-14T20:44:37Z
2015
Формування субмікронних періодичних плазмонних структур великої площі методом інтерференційної літографії з використанням вакуумних фоторезистів / В.А. Данько, М.Л. Дмитрук, І.З. Індутний, С.В. Мамикін, В.І. Минько, П.М. Литвин, М.В. Луканюк, П.Є. Шепелявий // Оптоэлектроника и полупроводниковая техника: Сб. научн. тр. — 2015. — Вип. 50. — С. 109-116. — Бібліогр.: 24 назв. — укр.
0233-7577
https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/116757
535.394.421; 621.793/.794
У даній роботі наведено можливості використання інтерференційної літографії з фоторезистами на основі халькогенідних скловидних напівпровідників у комплексі з термічною обробкою для формування однорідних плазмонних структур з необхідними характеристиками на підкладках великої площі. У результаті досліджень було підтверджено наявність поверхневих плазмон-поляритонних і локальних поверхневих плазмонних резонансів на виготовлених зразках, які можуть контролюватися в широких межах вибором геометричних параметрів структур і технологічними режимами їх виготовлення.
This paper shows the possibility of using interference lithography with photoresists based on chalcogenide glassy semiconductors in combination with heat treatment to form homogeneous plasmon structures with desired characteristics for large area substrates. As a result of our investigations, it has been confirmed the presence of the surface plasmon polariton and local surface plasmon resonances in the prepared samples that can be controlled in a wide range by selection of geometric parameters of structures and technological modes of their production.
uk
Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України
Оптоэлектроника и полупроводниковая техника
Формування субмікронних періодичних плазмонних структур великої площі методом інтерференційної літографії з використанням вакуумних фоторезистів
Formation of submicron periodic plasmon structures of large area by using the interference lithography method with vacuum photoresists
Article
published earlier
institution Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
collection DSpace DC
title Формування субмікронних періодичних плазмонних структур великої площі методом інтерференційної літографії з використанням вакуумних фоторезистів
spellingShingle Формування субмікронних періодичних плазмонних структур великої площі методом інтерференційної літографії з використанням вакуумних фоторезистів
Данько, В.А.
Дмитрук, М.Л.
Індутний, І.З.
Мамикін, С.В.
Минько, В.І.
Литвин, П.М.
Луканюк, М.В.
Шепелявий, П.Є.
title_short Формування субмікронних періодичних плазмонних структур великої площі методом інтерференційної літографії з використанням вакуумних фоторезистів
title_full Формування субмікронних періодичних плазмонних структур великої площі методом інтерференційної літографії з використанням вакуумних фоторезистів
title_fullStr Формування субмікронних періодичних плазмонних структур великої площі методом інтерференційної літографії з використанням вакуумних фоторезистів
title_full_unstemmed Формування субмікронних періодичних плазмонних структур великої площі методом інтерференційної літографії з використанням вакуумних фоторезистів
title_sort формування субмікронних періодичних плазмонних структур великої площі методом інтерференційної літографії з використанням вакуумних фоторезистів
author Данько, В.А.
Дмитрук, М.Л.
Індутний, І.З.
Мамикін, С.В.
Минько, В.І.
Литвин, П.М.
Луканюк, М.В.
Шепелявий, П.Є.
author_facet Данько, В.А.
Дмитрук, М.Л.
Індутний, І.З.
Мамикін, С.В.
Минько, В.І.
Литвин, П.М.
Луканюк, М.В.
Шепелявий, П.Є.
publishDate 2015
language Ukrainian
container_title Оптоэлектроника и полупроводниковая техника
publisher Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України
format Article
title_alt Formation of submicron periodic plasmon structures of large area by using the interference lithography method with vacuum photoresists
description У даній роботі наведено можливості використання інтерференційної літографії з фоторезистами на основі халькогенідних скловидних напівпровідників у комплексі з термічною обробкою для формування однорідних плазмонних структур з необхідними характеристиками на підкладках великої площі. У результаті досліджень було підтверджено наявність поверхневих плазмон-поляритонних і локальних поверхневих плазмонних резонансів на виготовлених зразках, які можуть контролюватися в широких межах вибором геометричних параметрів структур і технологічними режимами їх виготовлення. This paper shows the possibility of using interference lithography with photoresists based on chalcogenide glassy semiconductors in combination with heat treatment to form homogeneous plasmon structures with desired characteristics for large area substrates. As a result of our investigations, it has been confirmed the presence of the surface plasmon polariton and local surface plasmon resonances in the prepared samples that can be controlled in a wide range by selection of geometric parameters of structures and technological modes of their production.
issn 0233-7577
url https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/116757
citation_txt Формування субмікронних періодичних плазмонних структур великої площі методом інтерференційної літографії з використанням вакуумних фоторезистів / В.А. Данько, М.Л. Дмитрук, І.З. Індутний, С.В. Мамикін, В.І. Минько, П.М. Литвин, М.В. Луканюк, П.Є. Шепелявий // Оптоэлектроника и полупроводниковая техника: Сб. научн. тр. — 2015. — Вип. 50. — С. 109-116. — Бібліогр.: 24 назв. — укр.
work_keys_str_mv AT danʹkova formuvannâsubmíkronnihperíodičnihplazmonnihstrukturvelikoíploŝímetodomínterferencíinoílítografíízvikoristannâmvakuumnihfotorezistív
AT dmitrukml formuvannâsubmíkronnihperíodičnihplazmonnihstrukturvelikoíploŝímetodomínterferencíinoílítografíízvikoristannâmvakuumnihfotorezistív
AT índutniiíz formuvannâsubmíkronnihperíodičnihplazmonnihstrukturvelikoíploŝímetodomínterferencíinoílítografíízvikoristannâmvakuumnihfotorezistív
AT mamikínsv formuvannâsubmíkronnihperíodičnihplazmonnihstrukturvelikoíploŝímetodomínterferencíinoílítografíízvikoristannâmvakuumnihfotorezistív
AT minʹkoví formuvannâsubmíkronnihperíodičnihplazmonnihstrukturvelikoíploŝímetodomínterferencíinoílítografíízvikoristannâmvakuumnihfotorezistív
AT litvinpm formuvannâsubmíkronnihperíodičnihplazmonnihstrukturvelikoíploŝímetodomínterferencíinoílítografíízvikoristannâmvakuumnihfotorezistív
AT lukanûkmv formuvannâsubmíkronnihperíodičnihplazmonnihstrukturvelikoíploŝímetodomínterferencíinoílítografíízvikoristannâmvakuumnihfotorezistív
AT šepelâviipê formuvannâsubmíkronnihperíodičnihplazmonnihstrukturvelikoíploŝímetodomínterferencíinoílítografíízvikoristannâmvakuumnihfotorezistív
AT danʹkova formationofsubmicronperiodicplasmonstructuresoflargeareabyusingtheinterferencelithographymethodwithvacuumphotoresists
AT dmitrukml formationofsubmicronperiodicplasmonstructuresoflargeareabyusingtheinterferencelithographymethodwithvacuumphotoresists
AT índutniiíz formationofsubmicronperiodicplasmonstructuresoflargeareabyusingtheinterferencelithographymethodwithvacuumphotoresists
AT mamikínsv formationofsubmicronperiodicplasmonstructuresoflargeareabyusingtheinterferencelithographymethodwithvacuumphotoresists
AT minʹkoví formationofsubmicronperiodicplasmonstructuresoflargeareabyusingtheinterferencelithographymethodwithvacuumphotoresists
AT litvinpm formationofsubmicronperiodicplasmonstructuresoflargeareabyusingtheinterferencelithographymethodwithvacuumphotoresists
AT lukanûkmv formationofsubmicronperiodicplasmonstructuresoflargeareabyusingtheinterferencelithographymethodwithvacuumphotoresists
AT šepelâviipê formationofsubmicronperiodicplasmonstructuresoflargeareabyusingtheinterferencelithographymethodwithvacuumphotoresists
first_indexed 2025-12-07T17:10:17Z
last_indexed 2025-12-07T17:10:17Z
_version_ 1850870247273267200

Similar Items