Формування субмікронних періодичних плазмонних структур великої площі методом інтерференційної літографії з використанням вакуумних фоторезистів
У даній роботі наведено можливості використання інтерференційної літографії з фоторезистами на основі халькогенідних скловидних напівпровідників у комплексі з термічною обробкою для формування однорідних плазмонних структур з необхідними характеристиками на підкладках великої площі. У результаті дос...
Gespeichert in:
| Veröffentlicht in: | Оптоэлектроника и полупроводниковая техника |
|---|---|
| Datum: | 2015 |
| Hauptverfasser: | , , , , , , , |
| Format: | Artikel |
| Sprache: | Ukrainisch |
| Veröffentlicht: |
Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України
2015
|
| Online Zugang: | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/116757 |
| Tags: |
Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
|
| Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Zitieren: | Формування субмікронних періодичних плазмонних структур великої площі методом інтерференційної літографії з використанням вакуумних фоторезистів / В.А. Данько, М.Л. Дмитрук, І.З. Індутний, С.В. Мамикін, В.І. Минько, П.М. Литвин, М.В. Луканюк, П.Є. Шепелявий // Оптоэлектроника и полупроводниковая техника: Сб. научн. тр. — 2015. — Вип. 50. — С. 109-116. — Бібліогр.: 24 назв. — укр. |
Institution
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine| _version_ | 1862708234252451840 |
|---|---|
| author | Данько, В.А. Дмитрук, М.Л. Індутний, І.З. Мамикін, С.В. Минько, В.І. Литвин, П.М. Луканюк, М.В. Шепелявий, П.Є. |
| author_facet | Данько, В.А. Дмитрук, М.Л. Індутний, І.З. Мамикін, С.В. Минько, В.І. Литвин, П.М. Луканюк, М.В. Шепелявий, П.Є. |
| citation_txt | Формування субмікронних періодичних плазмонних структур великої площі методом інтерференційної літографії з використанням вакуумних фоторезистів / В.А. Данько, М.Л. Дмитрук, І.З. Індутний, С.В. Мамикін, В.І. Минько, П.М. Литвин, М.В. Луканюк, П.Є. Шепелявий // Оптоэлектроника и полупроводниковая техника: Сб. научн. тр. — 2015. — Вип. 50. — С. 109-116. — Бібліогр.: 24 назв. — укр. |
| collection | DSpace DC |
| container_title | Оптоэлектроника и полупроводниковая техника |
| description | У даній роботі наведено можливості використання інтерференційної літографії з фоторезистами на основі халькогенідних скловидних напівпровідників у комплексі з термічною обробкою для формування однорідних плазмонних структур з необхідними характеристиками на підкладках великої площі. У результаті досліджень було підтверджено наявність поверхневих плазмон-поляритонних і локальних поверхневих плазмонних резонансів на виготовлених зразках, які можуть контролюватися в широких межах вибором геометричних параметрів структур і технологічними режимами їх виготовлення.
This paper shows the possibility of using interference lithography with photoresists based on chalcogenide glassy semiconductors in combination with heat treatment to form homogeneous plasmon structures with desired characteristics for large area substrates. As a result of our investigations, it has been confirmed the presence of the surface plasmon polariton and local surface plasmon resonances in the prepared samples that can be controlled in a wide range by selection of geometric parameters of structures and technological modes of their production.
|
| first_indexed | 2025-12-07T17:10:17Z |
| format | Article |
| fulltext | |
| id | nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-116757 |
| institution | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| issn | 0233-7577 |
| language | Ukrainian |
| last_indexed | 2025-12-07T17:10:17Z |
| publishDate | 2015 |
| publisher | Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України |
| record_format | dspace |
| spelling | Данько, В.А. Дмитрук, М.Л. Індутний, І.З. Мамикін, С.В. Минько, В.І. Литвин, П.М. Луканюк, М.В. Шепелявий, П.Є. 2017-05-14T20:44:37Z 2017-05-14T20:44:37Z 2015 Формування субмікронних періодичних плазмонних структур великої площі методом інтерференційної літографії з використанням вакуумних фоторезистів / В.А. Данько, М.Л. Дмитрук, І.З. Індутний, С.В. Мамикін, В.І. Минько, П.М. Литвин, М.В. Луканюк, П.Є. Шепелявий // Оптоэлектроника и полупроводниковая техника: Сб. научн. тр. — 2015. — Вип. 50. — С. 109-116. — Бібліогр.: 24 назв. — укр. 0233-7577 https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/116757 535.394.421; 621.793/.794 У даній роботі наведено можливості використання інтерференційної літографії з фоторезистами на основі халькогенідних скловидних напівпровідників у комплексі з термічною обробкою для формування однорідних плазмонних структур з необхідними характеристиками на підкладках великої площі. У результаті досліджень було підтверджено наявність поверхневих плазмон-поляритонних і локальних поверхневих плазмонних резонансів на виготовлених зразках, які можуть контролюватися в широких межах вибором геометричних параметрів структур і технологічними режимами їх виготовлення. This paper shows the possibility of using interference lithography with photoresists based on chalcogenide glassy semiconductors in combination with heat treatment to form homogeneous plasmon structures with desired characteristics for large area substrates. As a result of our investigations, it has been confirmed the presence of the surface plasmon polariton and local surface plasmon resonances in the prepared samples that can be controlled in a wide range by selection of geometric parameters of structures and technological modes of their production. uk Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України Оптоэлектроника и полупроводниковая техника Формування субмікронних періодичних плазмонних структур великої площі методом інтерференційної літографії з використанням вакуумних фоторезистів Formation of submicron periodic plasmon structures of large area by using the interference lithography method with vacuum photoresists Article published earlier |
| spellingShingle | Формування субмікронних періодичних плазмонних структур великої площі методом інтерференційної літографії з використанням вакуумних фоторезистів Данько, В.А. Дмитрук, М.Л. Індутний, І.З. Мамикін, С.В. Минько, В.І. Литвин, П.М. Луканюк, М.В. Шепелявий, П.Є. |
| title | Формування субмікронних періодичних плазмонних структур великої площі методом інтерференційної літографії з використанням вакуумних фоторезистів |
| title_alt | Formation of submicron periodic plasmon structures of large area by using the interference lithography method with vacuum photoresists |
| title_full | Формування субмікронних періодичних плазмонних структур великої площі методом інтерференційної літографії з використанням вакуумних фоторезистів |
| title_fullStr | Формування субмікронних періодичних плазмонних структур великої площі методом інтерференційної літографії з використанням вакуумних фоторезистів |
| title_full_unstemmed | Формування субмікронних періодичних плазмонних структур великої площі методом інтерференційної літографії з використанням вакуумних фоторезистів |
| title_short | Формування субмікронних періодичних плазмонних структур великої площі методом інтерференційної літографії з використанням вакуумних фоторезистів |
| title_sort | формування субмікронних періодичних плазмонних структур великої площі методом інтерференційної літографії з використанням вакуумних фоторезистів |
| url | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/116757 |
| work_keys_str_mv | AT danʹkova formuvannâsubmíkronnihperíodičnihplazmonnihstrukturvelikoíploŝímetodomínterferencíinoílítografíízvikoristannâmvakuumnihfotorezistív AT dmitrukml formuvannâsubmíkronnihperíodičnihplazmonnihstrukturvelikoíploŝímetodomínterferencíinoílítografíízvikoristannâmvakuumnihfotorezistív AT índutniiíz formuvannâsubmíkronnihperíodičnihplazmonnihstrukturvelikoíploŝímetodomínterferencíinoílítografíízvikoristannâmvakuumnihfotorezistív AT mamikínsv formuvannâsubmíkronnihperíodičnihplazmonnihstrukturvelikoíploŝímetodomínterferencíinoílítografíízvikoristannâmvakuumnihfotorezistív AT minʹkoví formuvannâsubmíkronnihperíodičnihplazmonnihstrukturvelikoíploŝímetodomínterferencíinoílítografíízvikoristannâmvakuumnihfotorezistív AT litvinpm formuvannâsubmíkronnihperíodičnihplazmonnihstrukturvelikoíploŝímetodomínterferencíinoílítografíízvikoristannâmvakuumnihfotorezistív AT lukanûkmv formuvannâsubmíkronnihperíodičnihplazmonnihstrukturvelikoíploŝímetodomínterferencíinoílítografíízvikoristannâmvakuumnihfotorezistív AT šepelâviipê formuvannâsubmíkronnihperíodičnihplazmonnihstrukturvelikoíploŝímetodomínterferencíinoílítografíízvikoristannâmvakuumnihfotorezistív AT danʹkova formationofsubmicronperiodicplasmonstructuresoflargeareabyusingtheinterferencelithographymethodwithvacuumphotoresists AT dmitrukml formationofsubmicronperiodicplasmonstructuresoflargeareabyusingtheinterferencelithographymethodwithvacuumphotoresists AT índutniiíz formationofsubmicronperiodicplasmonstructuresoflargeareabyusingtheinterferencelithographymethodwithvacuumphotoresists AT mamikínsv formationofsubmicronperiodicplasmonstructuresoflargeareabyusingtheinterferencelithographymethodwithvacuumphotoresists AT minʹkoví formationofsubmicronperiodicplasmonstructuresoflargeareabyusingtheinterferencelithographymethodwithvacuumphotoresists AT litvinpm formationofsubmicronperiodicplasmonstructuresoflargeareabyusingtheinterferencelithographymethodwithvacuumphotoresists AT lukanûkmv formationofsubmicronperiodicplasmonstructuresoflargeareabyusingtheinterferencelithographymethodwithvacuumphotoresists AT šepelâviipê formationofsubmicronperiodicplasmonstructuresoflargeareabyusingtheinterferencelithographymethodwithvacuumphotoresists |