InSb фотодіоди (Огляд. Частина II)

Проаналізовано найбільш важливі технологічні операції виготовлення дифузійних InSb фотодіодів – хіміко-механічне та хіміко-динамічне полірування поверхні підкладок, пасивацію активної області фотодіодів та способи її реалізації, дифузію акцепторної домішки кадмію. Детально описано способи виготовлен...

Повний опис

Збережено в:
Бібліографічні деталі
Опубліковано в: :Оптоэлектроника и полупроводниковая техника
Дата:2016
Автори: Сукач, А.В., Тетьоркін, В.В., Матіюк, І.М., Ткачук, А.І.
Формат: Стаття
Мова:Українська
Опубліковано: Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України 2016
Онлайн доступ:https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/116783
Теги: Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
Назва журналу:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Цитувати:InSb фотодіоди (Огляд. Частина II) / А.В. Сукач, В.В. Тетьоркін, І.М. Матіюк, А.І. Ткачук // Оптоэлектроника и полупроводниковая техника: Сб. научн. тр. — 2016. — Вип. 51. — С. 69-90. — Бібліогр.: 82 назв. — укр.

Репозитарії

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
_version_ 1862707804889939968
author Сукач, А.В.
Тетьоркін, В.В.
Матіюк, І.М.
Ткачук, А.І.
author_facet Сукач, А.В.
Тетьоркін, В.В.
Матіюк, І.М.
Ткачук, А.І.
citation_txt InSb фотодіоди (Огляд. Частина II) / А.В. Сукач, В.В. Тетьоркін, І.М. Матіюк, А.І. Ткачук // Оптоэлектроника и полупроводниковая техника: Сб. научн. тр. — 2016. — Вип. 51. — С. 69-90. — Бібліогр.: 82 назв. — укр.
collection DSpace DC
container_title Оптоэлектроника и полупроводниковая техника
description Проаналізовано найбільш важливі технологічні операції виготовлення дифузійних InSb фотодіодів – хіміко-механічне та хіміко-динамічне полірування поверхні підкладок, пасивацію активної області фотодіодів та способи її реалізації, дифузію акцепторної домішки кадмію. Детально описано способи виготовлення дифузійних InSb p-n-переходів, у яких загальний темновий струм визначається сумою генераційно-рекомбінаційної та дифузійної складових. Узагальнено літературні дані з технології виготовлення InSb фотодіодів. Analyzed have been the most important technological operations used for preparing the diffusion InSb photodiodes, namely: chemical-mechanical and chemical-dynamic polishing the surface of substrates, passivation of photodiode active area and methods of its realization, diffusion of cadmium as an acceptor impurity. The methods of manufacturing the diffusion InSb p-n junctions, in which the total dark current is determined by summing the generation-recombination and diffusion components have been described in details. The published data on manufacturing technology of InSb photodiodes have been generalized.
first_indexed 2025-12-07T17:07:09Z
format Article
fulltext
id nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-116783
institution Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
issn 0233-7577
language Ukrainian
last_indexed 2025-12-07T17:07:09Z
publishDate 2016
publisher Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України
record_format dspace
spelling Сукач, А.В.
Тетьоркін, В.В.
Матіюк, І.М.
Ткачук, А.І.
2017-05-15T14:55:47Z
2017-05-15T14:55:47Z
2016
InSb фотодіоди (Огляд. Частина II) / А.В. Сукач, В.В. Тетьоркін, І.М. Матіюк, А.І. Ткачук // Оптоэлектроника и полупроводниковая техника: Сб. научн. тр. — 2016. — Вип. 51. — С. 69-90. — Бібліогр.: 82 назв. — укр.
0233-7577
https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/116783
621.315.592
Проаналізовано найбільш важливі технологічні операції виготовлення дифузійних InSb фотодіодів – хіміко-механічне та хіміко-динамічне полірування поверхні підкладок, пасивацію активної області фотодіодів та способи її реалізації, дифузію акцепторної домішки кадмію. Детально описано способи виготовлення дифузійних InSb p-n-переходів, у яких загальний темновий струм визначається сумою генераційно-рекомбінаційної та дифузійної складових. Узагальнено літературні дані з технології виготовлення InSb фотодіодів.
Analyzed have been the most important technological operations used for preparing the diffusion InSb photodiodes, namely: chemical-mechanical and chemical-dynamic polishing the surface of substrates, passivation of photodiode active area and methods of its realization, diffusion of cadmium as an acceptor impurity. The methods of manufacturing the diffusion InSb p-n junctions, in which the total dark current is determined by summing the generation-recombination and diffusion components have been described in details. The published data on manufacturing technology of InSb photodiodes have been generalized.
uk
Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України
Оптоэлектроника и полупроводниковая техника
InSb фотодіоди (Огляд. Частина II)
InSb Photodiodes (Review, Part II)
Article
published earlier
spellingShingle InSb фотодіоди (Огляд. Частина II)
Сукач, А.В.
Тетьоркін, В.В.
Матіюк, І.М.
Ткачук, А.І.
title InSb фотодіоди (Огляд. Частина II)
title_alt InSb Photodiodes (Review, Part II)
title_full InSb фотодіоди (Огляд. Частина II)
title_fullStr InSb фотодіоди (Огляд. Частина II)
title_full_unstemmed InSb фотодіоди (Огляд. Частина II)
title_short InSb фотодіоди (Огляд. Частина II)
title_sort insb фотодіоди (огляд. частина ii)
url https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/116783
work_keys_str_mv AT sukačav insbfotodíodioglâdčastinaii
AT tetʹorkínvv insbfotodíodioglâdčastinaii
AT matíûkím insbfotodíodioglâdčastinaii
AT tkačukaí insbfotodíodioglâdčastinaii
AT sukačav insbphotodiodesreviewpartii
AT tetʹorkínvv insbphotodiodesreviewpartii
AT matíûkím insbphotodiodesreviewpartii
AT tkačukaí insbphotodiodesreviewpartii