Параметры решетки и тепловое расширение силана SiH₄

Проведены рентгеновские исследования температурных зависимостей параметров и объемов решетки
 низкотемпературной и высокотемпературной фаз легкого силана SiH₄. Определены коэффициенты
 линейного и объемного теплового расширения. Установлена анизотропия теплового расширения
 н...

Повний опис

Збережено в:
Бібліографічні деталі
Опубліковано в: :Физика низких температур
Дата:2008
Автори: Гальцов, Н.Н., Клименко, Н.А., Прохватилов, А.И.
Формат: Стаття
Мова:Російська
Опубліковано: Фізико-технічний інститут низьких температур ім. Б.І. Вєркіна НАН України 2008
Теми:
Онлайн доступ:https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/116852
Теги: Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
Назва журналу:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Цитувати:Параметры решетки и тепловое расширение
 силана SiH₄ / Н.Н. Гальцов, Н.А. Клименко, А.И. Прохватилов
 // Физика низких температур. — 2008. — Т. 34, № 3. — С. 293–299. — Бібліогр.: 25 назв. — рос.

Репозитарії

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
_version_ 1862539361790197760
author Гальцов, Н.Н.
Клименко, Н.А.
Прохватилов, А.И.
author_facet Гальцов, Н.Н.
Клименко, Н.А.
Прохватилов, А.И.
citation_txt Параметры решетки и тепловое расширение
 силана SiH₄ / Н.Н. Гальцов, Н.А. Клименко, А.И. Прохватилов
 // Физика низких температур. — 2008. — Т. 34, № 3. — С. 293–299. — Бібліогр.: 25 назв. — рос.
collection DSpace DC
container_title Физика низких температур
description Проведены рентгеновские исследования температурных зависимостей параметров и объемов решетки
 низкотемпературной и высокотемпературной фаз легкого силана SiH₄. Определены коэффициенты
 линейного и объемного теплового расширения. Установлена анизотропия теплового расширения
 низкотемпературной фазы, существенно возрастающая с приближением к точке ориентационного
 фазового перехода. На базе полученных результатов и литературных данных о теплоемкости CP и
 сжимаемости проведен анализ теплоемкости CV силана и выделены вклады трансляционного и вращательного
 движения молекул. Показано, что вклад либрационной подсистемы в теплоемкость силана
 становится заметным только при температурах выше 25 К. Рассчитаны коэффициенты Грюнейзена γ
 . Показано, что в низкотемпературной фазе их величина заметно зависит от температуры, в то же
 время в высокотемпературной фазе γ практически постоянно и близко к значению, характерному для
 кристаллов инертных элементов. Проведено рентгенівські дослідження температурних залежностей параметрів та об’ємів гратки
 низькотемпературної й високотемпературної фаз легкого силану SiH₄. Визначено коефіцієнти лінійного
 та об’ємного теплового розширення. Встановлено анізотропію теплового розширення низькотемпературно
 ї фази, що суттєво зростає з наближенням до точки орієнтаційного фазового переходу.
 На базі отриманих результатів та літературних даних щодо теплоємності CP та стисненню проведено
 аналіз теплоємності CV силану та виділено внесок трансляційного й обертового руху молекул. Показано,
 що внесок лібраційної підсистеми у теплоємність силану стає помітним тільки при температурах
 вище 25 К. Розраховано коефіцієнти Грюнейзена γ. Показано, що в низькотемпературній фазі їх
 величина помітно залежить від температури, в той же час в високотемпературній фазі γ практично пост
 ійне й близьке до значення, що характерне для кристалів інертних елементів. The x-ray investigations of thermal dependences
 of lattice parameter and volume of low- and hightemperature
 phases of light SiH₄ were carried out.
 The coefficients of linear and volume thermal expansion
 were defined. The anisotropy of thermal expansion
 of the low temperature phase, which considerably
 increases with approaching the point of
 orientational phase transition, were determined. The
 measurement results and literature data on heat capacity
 CP and compressibility were used to analyse
 the heat capacity CV of SiH₂ and to determine contributions
 of translational and rotational motion of
 the molecules. It is shown that the contribution of a
 librational subsystem to the heat capacity of SiH₄
 becomes appreciable only at temperatures above
 25 K. The Gr neisen coefficients of γ are calculated.
 It is found that in the low temperature phase their
 value depends noticeably on temperature, while in
 the high temperature phase γ is almost constant and
 is close to a value typical of rare-gas crystals.
first_indexed 2025-11-24T15:46:38Z
format Article
fulltext
id nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-116852
institution Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
issn 0132-6414
language Russian
last_indexed 2025-11-24T15:46:38Z
publishDate 2008
publisher Фізико-технічний інститут низьких температур ім. Б.І. Вєркіна НАН України
record_format dspace
spelling Гальцов, Н.Н.
Клименко, Н.А.
Прохватилов, А.И.
2017-05-16T19:16:52Z
2017-05-16T19:16:52Z
2008
Параметры решетки и тепловое расширение
 силана SiH₄ / Н.Н. Гальцов, Н.А. Клименко, А.И. Прохватилов
 // Физика низких температур. — 2008. — Т. 34, № 3. — С. 293–299. — Бібліогр.: 25 назв. — рос.
0132-6414
PACS: 31.70 Ks;64.70 Kb;65.60.+a
https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/116852
Проведены рентгеновские исследования температурных зависимостей параметров и объемов решетки
 низкотемпературной и высокотемпературной фаз легкого силана SiH₄. Определены коэффициенты
 линейного и объемного теплового расширения. Установлена анизотропия теплового расширения
 низкотемпературной фазы, существенно возрастающая с приближением к точке ориентационного
 фазового перехода. На базе полученных результатов и литературных данных о теплоемкости CP и
 сжимаемости проведен анализ теплоемкости CV силана и выделены вклады трансляционного и вращательного
 движения молекул. Показано, что вклад либрационной подсистемы в теплоемкость силана
 становится заметным только при температурах выше 25 К. Рассчитаны коэффициенты Грюнейзена γ
 . Показано, что в низкотемпературной фазе их величина заметно зависит от температуры, в то же
 время в высокотемпературной фазе γ практически постоянно и близко к значению, характерному для
 кристаллов инертных элементов.
Проведено рентгенівські дослідження температурних залежностей параметрів та об’ємів гратки
 низькотемпературної й високотемпературної фаз легкого силану SiH₄. Визначено коефіцієнти лінійного
 та об’ємного теплового розширення. Встановлено анізотропію теплового розширення низькотемпературно
 ї фази, що суттєво зростає з наближенням до точки орієнтаційного фазового переходу.
 На базі отриманих результатів та літературних даних щодо теплоємності CP та стисненню проведено
 аналіз теплоємності CV силану та виділено внесок трансляційного й обертового руху молекул. Показано,
 що внесок лібраційної підсистеми у теплоємність силану стає помітним тільки при температурах
 вище 25 К. Розраховано коефіцієнти Грюнейзена γ. Показано, що в низькотемпературній фазі їх
 величина помітно залежить від температури, в той же час в високотемпературній фазі γ практично пост
 ійне й близьке до значення, що характерне для кристалів інертних елементів.
The x-ray investigations of thermal dependences
 of lattice parameter and volume of low- and hightemperature
 phases of light SiH₄ were carried out.
 The coefficients of linear and volume thermal expansion
 were defined. The anisotropy of thermal expansion
 of the low temperature phase, which considerably
 increases with approaching the point of
 orientational phase transition, were determined. The
 measurement results and literature data on heat capacity
 CP and compressibility were used to analyse
 the heat capacity CV of SiH₂ and to determine contributions
 of translational and rotational motion of
 the molecules. It is shown that the contribution of a
 librational subsystem to the heat capacity of SiH₄
 becomes appreciable only at temperatures above
 25 K. The Gr neisen coefficients of γ are calculated.
 It is found that in the low temperature phase their
 value depends noticeably on temperature, while in
 the high temperature phase γ is almost constant and
 is close to a value typical of rare-gas crystals.
ru
Фізико-технічний інститут низьких температур ім. Б.І. Вєркіна НАН України
Физика низких температур
Динамика кристаллической решетки
Параметры решетки и тепловое расширение силана SiH₄
Lattice parameters and thermal expansion of silane SiH₄
Article
published earlier
spellingShingle Параметры решетки и тепловое расширение силана SiH₄
Гальцов, Н.Н.
Клименко, Н.А.
Прохватилов, А.И.
Динамика кристаллической решетки
title Параметры решетки и тепловое расширение силана SiH₄
title_alt Lattice parameters and thermal expansion of silane SiH₄
title_full Параметры решетки и тепловое расширение силана SiH₄
title_fullStr Параметры решетки и тепловое расширение силана SiH₄
title_full_unstemmed Параметры решетки и тепловое расширение силана SiH₄
title_short Параметры решетки и тепловое расширение силана SiH₄
title_sort параметры решетки и тепловое расширение силана sih₄
topic Динамика кристаллической решетки
topic_facet Динамика кристаллической решетки
url https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/116852
work_keys_str_mv AT galʹcovnn parametryrešetkiiteplovoerasšireniesilanasih4
AT klimenkona parametryrešetkiiteplovoerasšireniesilanasih4
AT prohvatilovai parametryrešetkiiteplovoerasšireniesilanasih4
AT galʹcovnn latticeparametersandthermalexpansionofsilanesih4
AT klimenkona latticeparametersandthermalexpansionofsilanesih4
AT prohvatilovai latticeparametersandthermalexpansionofsilanesih4