Рентгенографическое исследование структуры и напряженного состояния TIN покрытий, осажденных из фильтрованной вакуумно-дуговой плазмы в газовой смеси N₂ и Ar
Приведены результаты исследований структуры и напряженного состояния TiN покрытий, осажденных методом PIII & D из фильтрованной вакуумно-дуговой плазмы в условиях подачи на подложку высоковольтного импульсного потенциала смещения с амплитудой 1 кВ. Методом рентгеноструктурного анализа изучен...
Saved in:
| Published in: | Журнал физики и инженерии поверхности |
|---|---|
| Date: | 2016 |
| Main Authors: | , , , |
| Format: | Article |
| Language: | Russian |
| Published: |
Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України
2016
|
| Online Access: | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/117061 |
| Tags: |
Add Tag
No Tags, Be the first to tag this record!
|
| Journal Title: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Cite this: | Рентгенографическое исследование структуры и напряженного состояния TIN покрытий, осажденных из фильтрованной вакуумно-дуговой плазмы в газовой смеси N₂ и Ar / В.В. Васильев, А.А. Лучанинов, Е.Н. Решетняк, В.Е. Стрельницкий // Журнал физики и инженерии поверхности. — 2016. — Т. 1, № 4. — С. 387-397. — Бібліогр.: 19 назв. — рос. |
Institution
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine| _version_ | 1862715541389574144 |
|---|---|
| author | Васильев, В.В. Лучанинов, А.А. Решетняк, Е.Н. Стрельницкий, В.Е. |
| author_facet | Васильев, В.В. Лучанинов, А.А. Решетняк, Е.Н. Стрельницкий, В.Е. |
| citation_txt | Рентгенографическое исследование структуры и напряженного состояния TIN покрытий, осажденных из фильтрованной вакуумно-дуговой плазмы в газовой смеси N₂ и Ar / В.В. Васильев, А.А. Лучанинов, Е.Н. Решетняк, В.Е. Стрельницкий // Журнал физики и инженерии поверхности. — 2016. — Т. 1, № 4. — С. 387-397. — Бібліогр.: 19 назв. — рос. |
| collection | DSpace DC |
| container_title | Журнал физики и инженерии поверхности |
| description | Приведены результаты исследований структуры и напряженного состояния TiN покрытий, осажденных методом PIII & D из фильтрованной вакуумно-дуговой плазмы в условиях подачи на подложку высоковольтного импульсного потенциала смещения с амплитудой 1 кВ. Методом рентгеноструктурного анализа изучено влияние на характеристики покрытий введения в состав азота добавок аргона в диапазоне от 0 до 45 %. Установлено, что независимо от концентрации аргона в газовой смеси, покрытия имеют структуру TiN (структурный тип NaCl) с сильной аксиальной текстурой [110]. При увеличении содержания аргона уровень сжимающих напряжений в покрытиях существенно растет от 7 ГПа до 10 ГПа, размер кристаллитов TiN немного уменьшается от 8–9 нм до 7 нм, а твердость покрытий остается на высоком уровне 27–32 ГПа. Обсуждается влияние добавок аргона на процесс роста покрытий.
Наведено результати досліджень структури та напруженого стану TiN покриттів, осаджених методом PIII & D з фільтрованої вакуумно-дугової плазми в умовах подачі на підкладку високовольтного імпульсного потенціалу зміщення з амплітудою 1 кВ. Методом рентгеноструктурного аналізу вивчено вплив на характеристики покриттів введення до складу азоту добавок аргону у діапазоні від 0 до 45 %. Встановлено, що незалежно від концентрації аргону у газовій суміші, покриття мають структуру TiN (структурний тип NaCl) з сильною аксіальною текстурою [110]. При збільшенні вмісту аргону рівень напружень стиску в покриттях істотно зростає від 7 ГПа до 10 ГПа, розмір кристалітів TiN трохи зменшується від 8–9 нм до 7 нм, а твердість покриттів залишається на високому рівні 27–32 ГПа. Обговорюється вплив добавок аргону на процес зростання покриттів.
Results of studies of the structure and stress state of coatings deposited by PIII & D method from the filtered cathodic vaccum-arc plasma flow with a high-voltage pulse bias potential with an amplitude of 1 kV applied to the substrate have been discussed. The influence on the characteristics of the TiN coatings additives of Ar in the range 0 to 45 % to N2 medium have been studied with the help of the X-ray diffraction method. The coatings irrespective of the concentration of argon in the gas mixture have a TiN structure (structure type NaCl) with a strong axial texture [110]. With an increase of argon content the level of compressive stresses in the coatings substantially increases from 7 GPa to 10 GPa, the crystallite size decreases slightly from 8.9 nm to 7 nm, and the hardness of the coating remains on an enough high level of 27–32 GPa. The effect of the argon additives on the coatings growth process has been discussed.
|
| first_indexed | 2025-12-07T17:59:10Z |
| format | Article |
| fulltext | |
| id | nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-117061 |
| institution | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| issn | 2519-2485 |
| language | Russian |
| last_indexed | 2025-12-07T17:59:10Z |
| publishDate | 2016 |
| publisher | Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України |
| record_format | dspace |
| spelling | Васильев, В.В. Лучанинов, А.А. Решетняк, Е.Н. Стрельницкий, В.Е. 2017-05-19T13:03:47Z 2017-05-19T13:03:47Z 2016 Рентгенографическое исследование структуры и напряженного состояния TIN покрытий, осажденных из фильтрованной вакуумно-дуговой плазмы в газовой смеси N₂ и Ar / В.В. Васильев, А.А. Лучанинов, Е.Н. Решетняк, В.Е. Стрельницкий // Журнал физики и инженерии поверхности. — 2016. — Т. 1, № 4. — С. 387-397. — Бібліогр.: 19 назв. — рос. 2519-2485 https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/117061 539.26: 621.793 Приведены результаты исследований структуры и напряженного состояния TiN покрытий, осажденных методом PIII & D из фильтрованной вакуумно-дуговой плазмы в условиях подачи на подложку высоковольтного импульсного потенциала смещения с амплитудой 1 кВ. Методом рентгеноструктурного анализа изучено влияние на характеристики покрытий введения в состав азота добавок аргона в диапазоне от 0 до 45 %. Установлено, что независимо от концентрации аргона в газовой смеси, покрытия имеют структуру TiN (структурный тип NaCl) с сильной аксиальной текстурой [110]. При увеличении содержания аргона уровень сжимающих напряжений в покрытиях существенно растет от 7 ГПа до 10 ГПа, размер кристаллитов TiN немного уменьшается от 8–9 нм до 7 нм, а твердость покрытий остается на высоком уровне 27–32 ГПа. Обсуждается влияние добавок аргона на процесс роста покрытий. Наведено результати досліджень структури та напруженого стану TiN покриттів, осаджених методом PIII & D з фільтрованої вакуумно-дугової плазми в умовах подачі на підкладку високовольтного імпульсного потенціалу зміщення з амплітудою 1 кВ. Методом рентгеноструктурного аналізу вивчено вплив на характеристики покриттів введення до складу азоту добавок аргону у діапазоні від 0 до 45 %. Встановлено, що незалежно від концентрації аргону у газовій суміші, покриття мають структуру TiN (структурний тип NaCl) з сильною аксіальною текстурою [110]. При збільшенні вмісту аргону рівень напружень стиску в покриттях істотно зростає від 7 ГПа до 10 ГПа, розмір кристалітів TiN трохи зменшується від 8–9 нм до 7 нм, а твердість покриттів залишається на високому рівні 27–32 ГПа. Обговорюється вплив добавок аргону на процес зростання покриттів. Results of studies of the structure and stress state of coatings deposited by PIII & D method from the filtered cathodic vaccum-arc plasma flow with a high-voltage pulse bias potential with an amplitude of 1 kV applied to the substrate have been discussed. The influence on the characteristics of the TiN coatings additives of Ar in the range 0 to 45 % to N2 medium have been studied with the help of the X-ray diffraction method. The coatings irrespective of the concentration of argon in the gas mixture have a TiN structure (structure type NaCl) with a strong axial texture [110]. With an increase of argon content the level of compressive stresses in the coatings substantially increases from 7 GPa to 10 GPa, the crystallite size decreases slightly from 8.9 nm to 7 nm, and the hardness of the coating remains on an enough high level of 27–32 GPa. The effect of the argon additives on the coatings growth process has been discussed. ru Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України Журнал физики и инженерии поверхности Рентгенографическое исследование структуры и напряженного состояния TIN покрытий, осажденных из фильтрованной вакуумно-дуговой плазмы в газовой смеси N₂ и Ar Рентгенографічне дослідження структури і напруженого стану TiN покриттів, осаджених з фільтрованої вакуумно-дугової плазми у газовій суміші N₂ та Ar X-ray study of the structure and stress state of TIN coatings deposited from filtered cathodic-arc plasma in the gas mixture N₂ with Ar Article published earlier |
| spellingShingle | Рентгенографическое исследование структуры и напряженного состояния TIN покрытий, осажденных из фильтрованной вакуумно-дуговой плазмы в газовой смеси N₂ и Ar Васильев, В.В. Лучанинов, А.А. Решетняк, Е.Н. Стрельницкий, В.Е. |
| title | Рентгенографическое исследование структуры и напряженного состояния TIN покрытий, осажденных из фильтрованной вакуумно-дуговой плазмы в газовой смеси N₂ и Ar |
| title_alt | Рентгенографічне дослідження структури і напруженого стану TiN покриттів, осаджених з фільтрованої вакуумно-дугової плазми у газовій суміші N₂ та Ar X-ray study of the structure and stress state of TIN coatings deposited from filtered cathodic-arc plasma in the gas mixture N₂ with Ar |
| title_full | Рентгенографическое исследование структуры и напряженного состояния TIN покрытий, осажденных из фильтрованной вакуумно-дуговой плазмы в газовой смеси N₂ и Ar |
| title_fullStr | Рентгенографическое исследование структуры и напряженного состояния TIN покрытий, осажденных из фильтрованной вакуумно-дуговой плазмы в газовой смеси N₂ и Ar |
| title_full_unstemmed | Рентгенографическое исследование структуры и напряженного состояния TIN покрытий, осажденных из фильтрованной вакуумно-дуговой плазмы в газовой смеси N₂ и Ar |
| title_short | Рентгенографическое исследование структуры и напряженного состояния TIN покрытий, осажденных из фильтрованной вакуумно-дуговой плазмы в газовой смеси N₂ и Ar |
| title_sort | рентгенографическое исследование структуры и напряженного состояния tin покрытий, осажденных из фильтрованной вакуумно-дуговой плазмы в газовой смеси n₂ и ar |
| url | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/117061 |
| work_keys_str_mv | AT vasilʹevvv rentgenografičeskoeissledovaniestrukturyinaprâžennogosostoâniâtinpokrytiiosaždennyhizfilʹtrovannoivakuumnodugovoiplazmyvgazovoismesin2iar AT lučaninovaa rentgenografičeskoeissledovaniestrukturyinaprâžennogosostoâniâtinpokrytiiosaždennyhizfilʹtrovannoivakuumnodugovoiplazmyvgazovoismesin2iar AT rešetnâken rentgenografičeskoeissledovaniestrukturyinaprâžennogosostoâniâtinpokrytiiosaždennyhizfilʹtrovannoivakuumnodugovoiplazmyvgazovoismesin2iar AT strelʹnickiive rentgenografičeskoeissledovaniestrukturyinaprâžennogosostoâniâtinpokrytiiosaždennyhizfilʹtrovannoivakuumnodugovoiplazmyvgazovoismesin2iar AT vasilʹevvv rentgenografíčnedoslídžennâstrukturiínapruženogostanutinpokrittívosadženihzfílʹtrovanoívakuumnodugovoíplazmiugazovíisumíšín2taar AT lučaninovaa rentgenografíčnedoslídžennâstrukturiínapruženogostanutinpokrittívosadženihzfílʹtrovanoívakuumnodugovoíplazmiugazovíisumíšín2taar AT rešetnâken rentgenografíčnedoslídžennâstrukturiínapruženogostanutinpokrittívosadženihzfílʹtrovanoívakuumnodugovoíplazmiugazovíisumíšín2taar AT strelʹnickiive rentgenografíčnedoslídžennâstrukturiínapruženogostanutinpokrittívosadženihzfílʹtrovanoívakuumnodugovoíplazmiugazovíisumíšín2taar AT vasilʹevvv xraystudyofthestructureandstressstateoftincoatingsdepositedfromfilteredcathodicarcplasmainthegasmixturen2withar AT lučaninovaa xraystudyofthestructureandstressstateoftincoatingsdepositedfromfilteredcathodicarcplasmainthegasmixturen2withar AT rešetnâken xraystudyofthestructureandstressstateoftincoatingsdepositedfromfilteredcathodicarcplasmainthegasmixturen2withar AT strelʹnickiive xraystudyofthestructureandstressstateoftincoatingsdepositedfromfilteredcathodicarcplasmainthegasmixturen2withar |