Влияние полупроводникового покрытия на электроперенос в аморфных и кристаллических пленках металлов

Исследовано влияние аморфного Sb-покрытия на удельное сопротивление аморфных и кристаллических пленок V, Yb и Bi. Для обоих фазовых состояний V и Bi значения уменьшаются, для Yb — увеличиваются. Влияние покрытия на ограничивается его толщиной d⁰cov=10–60 нм, зависящей от вида и фазового состоя...

Full description

Saved in:
Bibliographic Details
Published in:Физика низких температур
Date:2008
Main Author: Кузьменко, В.М.
Format: Article
Language:Russian
Published: Фізико-технічний інститут низьких температур ім. Б.І. Вєркіна НАН України 2008
Subjects:
Online Access:https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/117390
Tags: Add Tag
No Tags, Be the first to tag this record!
Journal Title:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Cite this:Влияние полупроводникового покрытия на электроперенос в аморфных и кристаллических пленках металлов / В.М. Кузьменко // Физика низких температур. — 2008. — Т. 34, № 8. — С. 781–789. — Бібліогр.: 32 назв. — рос.

Institution

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
id nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-117390
record_format dspace
spelling Кузьменко, В.М.
2017-05-23T10:05:10Z
2017-05-23T10:05:10Z
2008
Влияние полупроводникового покрытия на электроперенос в аморфных и кристаллических пленках металлов / В.М. Кузьменко // Физика низких температур. — 2008. — Т. 34, № 8. — С. 781–789. — Бібліогр.: 32 назв. — рос.
0132-6414
PACS: 61.43.Dq;64.70.P-
https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/117390
Исследовано влияние аморфного Sb-покрытия на удельное сопротивление аморфных и кристаллических пленок V, Yb и Bi. Для обоих фазовых состояний V и Bi значения уменьшаются, для Yb — увеличиваются. Влияние покрытия на ограничивается его толщиной d⁰cov=10–60 нм, зависящей от вида и фазового состояния базисного металла. Увеличение толщины покрытия до dcov>d⁰cov не приводит к дальнейшему изменению ρ. Наблюдаемые изменения приписываются перемещению части электронов из аморфной сурьмы в Bi и V, а из аморфных и кристаллических пленок Yb — в аморфную сурьму с образованием контактной разности потенциалов между слоями металла и полупроводника. При этом происходит изменение плотности состояний электронов проводимости металла, ответственное за изменение ρ.
Досліджено вплив аморфного Sb-покриття на питомий опір аморфних і кристалічних плівок V, Yb та Bi. Для обох фазових станів V та Bi значення зменшується, для Yb — збільшується. Вплив покриття на обмежується його товщиною d⁰cov=10–60 нм, залежною від виду й фазового стану базисного металу. Збільшення товщини покриття до dcov>d⁰cov не призводить до подальшої зміни . Спостережен і зміни приписуються переміщенню частини електронів з аморфної сурми в Bi і V, а з аморфних та кристалічних плівок Yb — в аморфну сурму з утворенням контактної різниці потенц іалів між шарами металу й напівпровідника. При цьому відбувається зміна щільності станів електрон ів провідності металу, яка відповідальна за зміну ρ.
The influence of an amorphous Sb-coating on resistivity (ρ) of amorphous and crystalline films of V, Yb and Bi is investigated. For both phase conditions of V and Bi the values decrease, while for Yb they increase. The influence of the coating on ρ is limited by its thickness dcov d⁰cov=10–60 nm, depending on kind and phase condition of the base metal. An increase in the coating thickness up to dcov>d⁰cov does not result in a further change ρ. The observed changes in ρ are attributed to the transfer of a part of the electrons from amorphous antimony to Bi and V, and from amorphous and crystalline films of Yb to amorphous antimony. In such cases a contact potential between layers of a metal and the semiconductor is formed, and the density of states of metal conduction electrons is changed implying for change of ρ.
Автор выражает глубокую благодарность А.Н. Стеценко за помощь в структурных исследованиях.
ru
Фізико-технічний інститут низьких температур ім. Б.І. Вєркіна НАН України
Физика низких температур
Свеpхпpоводимость, в том числе высокотемпеpатуpная
Влияние полупроводникового покрытия на электроперенос в аморфных и кристаллических пленках металлов
The influence of semiconductor coating on electron transport in amorphous and crystalline films of metals
Article
published earlier
institution Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
collection DSpace DC
title Влияние полупроводникового покрытия на электроперенос в аморфных и кристаллических пленках металлов
spellingShingle Влияние полупроводникового покрытия на электроперенос в аморфных и кристаллических пленках металлов
Кузьменко, В.М.
Свеpхпpоводимость, в том числе высокотемпеpатуpная
title_short Влияние полупроводникового покрытия на электроперенос в аморфных и кристаллических пленках металлов
title_full Влияние полупроводникового покрытия на электроперенос в аморфных и кристаллических пленках металлов
title_fullStr Влияние полупроводникового покрытия на электроперенос в аморфных и кристаллических пленках металлов
title_full_unstemmed Влияние полупроводникового покрытия на электроперенос в аморфных и кристаллических пленках металлов
title_sort влияние полупроводникового покрытия на электроперенос в аморфных и кристаллических пленках металлов
author Кузьменко, В.М.
author_facet Кузьменко, В.М.
topic Свеpхпpоводимость, в том числе высокотемпеpатуpная
topic_facet Свеpхпpоводимость, в том числе высокотемпеpатуpная
publishDate 2008
language Russian
container_title Физика низких температур
publisher Фізико-технічний інститут низьких температур ім. Б.І. Вєркіна НАН України
format Article
title_alt The influence of semiconductor coating on electron transport in amorphous and crystalline films of metals
description Исследовано влияние аморфного Sb-покрытия на удельное сопротивление аморфных и кристаллических пленок V, Yb и Bi. Для обоих фазовых состояний V и Bi значения уменьшаются, для Yb — увеличиваются. Влияние покрытия на ограничивается его толщиной d⁰cov=10–60 нм, зависящей от вида и фазового состояния базисного металла. Увеличение толщины покрытия до dcov>d⁰cov не приводит к дальнейшему изменению ρ. Наблюдаемые изменения приписываются перемещению части электронов из аморфной сурьмы в Bi и V, а из аморфных и кристаллических пленок Yb — в аморфную сурьму с образованием контактной разности потенциалов между слоями металла и полупроводника. При этом происходит изменение плотности состояний электронов проводимости металла, ответственное за изменение ρ. Досліджено вплив аморфного Sb-покриття на питомий опір аморфних і кристалічних плівок V, Yb та Bi. Для обох фазових станів V та Bi значення зменшується, для Yb — збільшується. Вплив покриття на обмежується його товщиною d⁰cov=10–60 нм, залежною від виду й фазового стану базисного металу. Збільшення товщини покриття до dcov>d⁰cov не призводить до подальшої зміни . Спостережен і зміни приписуються переміщенню частини електронів з аморфної сурми в Bi і V, а з аморфних та кристалічних плівок Yb — в аморфну сурму з утворенням контактної різниці потенц іалів між шарами металу й напівпровідника. При цьому відбувається зміна щільності станів електрон ів провідності металу, яка відповідальна за зміну ρ. The influence of an amorphous Sb-coating on resistivity (ρ) of amorphous and crystalline films of V, Yb and Bi is investigated. For both phase conditions of V and Bi the values decrease, while for Yb they increase. The influence of the coating on ρ is limited by its thickness dcov d⁰cov=10–60 nm, depending on kind and phase condition of the base metal. An increase in the coating thickness up to dcov>d⁰cov does not result in a further change ρ. The observed changes in ρ are attributed to the transfer of a part of the electrons from amorphous antimony to Bi and V, and from amorphous and crystalline films of Yb to amorphous antimony. In such cases a contact potential between layers of a metal and the semiconductor is formed, and the density of states of metal conduction electrons is changed implying for change of ρ.
issn 0132-6414
url https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/117390
citation_txt Влияние полупроводникового покрытия на электроперенос в аморфных и кристаллических пленках металлов / В.М. Кузьменко // Физика низких температур. — 2008. — Т. 34, № 8. — С. 781–789. — Бібліогр.: 32 назв. — рос.
work_keys_str_mv AT kuzʹmenkovm vliâniepoluprovodnikovogopokrytiânaélektroperenosvamorfnyhikristalličeskihplenkahmetallov
AT kuzʹmenkovm theinfluenceofsemiconductorcoatingonelectrontransportinamorphousandcrystallinefilmsofmetals
first_indexed 2025-12-07T18:55:04Z
last_indexed 2025-12-07T18:55:04Z
_version_ 1850876839808991232