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Optical properties of ion implanted thin Ni films on lithium niobate

Ion implantation by keV Ar⁺ ions creates blisters on the surface of thin Ni films deposited on lithium niobate and causes changes in optical properties and structure of Ni film and lithium niobate substrate. Processes of ion implantation and effects of increasing absorption, adhesion, damage thresho...

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Semiconductor Physics Quantum Electronics & Optoelectronics
Datum:	2011
Hauptverfasser:	Lysiuk, V.O., Staschuk, V.S., Androsyuk, I.G., Moskalenko, N.L.
Format:	Artikel
Sprache:	Englisch
Veröffentlicht:	Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України 2011
Online Zugang:	https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/117623
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Назва журналу:	Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Zitieren:	Optical properties of ion implanted thin Ni films on lithium niobate / V.O. Lysiuk, V.S. Staschuk, I.G. Androsyuk, N.L. Moskalenko // Semiconductor Physics Quantum Electronics & Optoelectronics. — 2011. — Т. 14, № 1. — С. 59-61. — Бібліогр.: 9 назв. — англ.

Institution

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine

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