Yasunas, A., Kotov, D., Shiripov, V., & Radzionay, U. (2013). Low-temperature deposition of silicon dioxide films in high-density plasma. Semiconductor Physics Quantum Electronics & Optoelectronics.
Чикаго стиль цитування (17-те видання)Yasunas, A., D. Kotov, V. Shiripov, та U. Radzionay. "Low-temperature Deposition of Silicon Dioxide Films in High-density Plasma." Semiconductor Physics Quantum Electronics & Optoelectronics 2013.
Стиль цитування MLA (8-ме видання)Yasunas, A., et al. "Low-temperature Deposition of Silicon Dioxide Films in High-density Plasma." Semiconductor Physics Quantum Electronics & Optoelectronics, 2013.
Попередження: стилі цитування не завжди правильні на всі 100%.