Yasunas, A., Kotov, D., Shiripov, V., & Radzionay, U. (2013). Low-temperature deposition of silicon dioxide films in high-density plasma. Semiconductor Physics Quantum Electronics & Optoelectronics.
Chicago-Zitierstil (17. Ausg.)Yasunas, A., D. Kotov, V. Shiripov, und U. Radzionay. "Low-temperature Deposition of Silicon Dioxide Films in High-density Plasma." Semiconductor Physics Quantum Electronics & Optoelectronics 2013.
MLA-Zitierstil (8. Ausg.)Yasunas, A., et al. "Low-temperature Deposition of Silicon Dioxide Films in High-density Plasma." Semiconductor Physics Quantum Electronics & Optoelectronics, 2013.
Achtung: Diese Zitate sind unter Umständen nicht zu 100% korrekt.