Зображення обкладинки

Low-temperature deposition of silicon dioxide films in high-density plasma

One of the basic operations in the LED (light-emitting diode) chip fabrication technique is formation of dielectric coatings for the purpose of insulation and surface passivation of the LED structure. Oxides and nitrides of silicon obtained by physical or chemical vapor de...

Повний опис

Збережено в:

Бібліографічні деталі
Опубліковано в: :	Semiconductor Physics Quantum Electronics & Optoelectronics
Дата:	2013
Автори:	Yasunas, A., Kotov, D., Shiripov, V., Radzionay, U.
Формат:	Стаття
Мова:	Англійська
Опубліковано:	Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України 2013
Онлайн доступ:	https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/117696
Теги:	Додати тег Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
Назва журналу:	Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Цитувати:	Low-temperature deposition of silicon dioxide films in high-density plasma / A. Yasunas, D. Kotov, V. Shiripov, U. Radzionay // Semiconductor Physics Quantum Electronics & Optoelectronics. — 2013. — Т. 16, № 2. — С. 216-219. — Бібліогр.: 2 назв. — англ.

Репозитарії

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine

Схожі ресурси

Low-temperature deposition of silicon dioxide films in high-density plasma
за авторством: A. Yasunas, та інші
Опубліковано: (2013)

Low-temperature ion-plasma deposition technology of nanostructured films of aluminum and boron nitrides
за авторством: M. S. Zaiats, та інші
Опубліковано: (2021)

Deposition of nanocrystalline silicon films into low frequency induction RF discharge
за авторством: Deryzemlia, A.M., та інші
Опубліковано: (2014)

Conversion of carbon dioxide in low-pressure plasma
за авторством: Dudin, S.V., та інші
Опубліковано: (2018)

The formation of the low-sized high density plasma structures in the self-maintained plasma-beam discharge
за авторством: Borisko, V.N., та інші
Опубліковано: (2006)

Low-temperature thermal conductivity of solid carbon dioxide
за авторством: Sumarokov, V.V., та інші
Опубліковано: (2003)

Transitions from low-density state towards high-density state in stochastic bistable plasma-condensate systems
за авторством: Dvornichenko, A.V., та інші
Опубліковано: (2018)

Plasma treatment of titanium dioxide film for black TiO₂
за авторством: Frolova, E.K., та інші
Опубліковано: (2023)

Refractive indices and density of cryovacuum-deposited thin films of methane in the vicinity of the α–β-transition temperature
за авторством: A. Drobyshev, та інші
Опубліковано: (2017)

Refractive indices and density of cryovacuum-deposited thin films of methane in the vicinity of the α–β-transition temperature
за авторством: Drobyshev, A., та інші
Опубліковано: (2017)

Prospects for the Use of Carbon Dioxide in Low-Temperature Devices for Cryogenic Technologies
за авторством: V. A. Potapov, та інші
Опубліковано: (2018)

Friction-wear behaviors of chemical vapor deposited diamond films at high temperatures
за авторством: D. Kong, та інші
Опубліковано: (2019)

Optical properties of submicron silicon oxide films after high-temperature processing
за авторством: V. V. Litvinenko, та інші
Опубліковано: (2011)

Friction-wear behaviors of chemical vapor deposited diamond films at high temperatures
за авторством: Kong Dejun, та інші
Опубліковано: (2019)

Impedance disturbance of the inductive coil interacting with low density plasma
за авторством: D. V. Rafalskij, та інші
Опубліковано: (2008)

Physical mechanisms of microstructure formation in niobium films under low temperature ionic-atomic deposition
за авторством: Marchenko, I.G., та інші
Опубліковано: (2006)

Stimulation of the diamond nucleation on silicon substrates with a layer of polymeric precursor in deposition of diamond films by microwave plasma
за авторством: V. S. Sedov, та інші
Опубліковано: (2012)

Spectroscopy of fullerene-like molecules of silicon dioxide
за авторством: O. V. Filonenko, та інші
Опубліковано: (2013)

Synthesis of hollow silicon/titanium dioxide nanospheres
за авторством: P. P. Horbyk, та інші
Опубліковано: (2011)

Heteronanopraticles of silicon dioxide with shell of Pt nanocrystals
за авторством: Matveevskaya, N.A., та інші
Опубліковано: (2008)

Characteristics of the plasma created by ECR plasma source for thin films deposition
за авторством: Fedorchenko, V.D., та інші
Опубліковано: (2005)

Influence of high temperature annealing on the structure and the intrinsic absorption edge of thin-film silicon doped with tin
за авторством: R. M. Rudenko, та інші
Опубліковано: (2013)

Influence of high temperature annealing on the structure and the intrinsic absorption edge of thin-film silicon doped with tin
за авторством: R. M. Rudenko, та інші
Опубліковано: (2013)

Application of arc plasma for a deposition of superconducting films
за авторством: Langner, J., та інші
Опубліковано: (2002)

Charging processes of metal macroparticles in the low-temperature plasma at presence of high-energy electron beam
за авторством: Bizyukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2011)

Hot electrons in metal films at low temperatures
за авторством: V. A. Shklovskij
Опубліковано: (2018)

EA density functional study of the adsorption of carbon dioxide molecule on graphene
за авторством: D. P. Thakur, та інші
Опубліковано: (2013)

EA density functional study of the adsorption of carbon dioxide molecule on graphene
за авторством: D. P. Thakur, та інші
Опубліковано: (2013)

Deposition of refractory metal films with planar plasma ECR source
за авторством: Fedorchenko, V.D., та інші
Опубліковано: (2007)

Features of low-temperature tunneling magnetoresistance of pressed nanopowders of chromium dioxide CrO2
за авторством: Ju. A. Kolesnichenko, та інші
Опубліковано: (2017)

High-temperature quantum kinetic effect in silicon nanosandwiches
за авторством: N. T. Bagraev, та інші
Опубліковано: (2017)

High-temperature quantum kinetic effect in silicon nanosandwiches
за авторством: Bagraev, N.T., та інші
Опубліковано: (2017)

Electrical and light-emitting properties of silicon dioxide co-implanted by carbon and silicon ions
за авторством: Nazarov, A.N., та інші
Опубліковано: (2008)

Film of titanium dioxide for photo catalysis and medicine
за авторством: V. M. Khoroshikh, та інші
Опубліковано: (2009)

Obtaining colloidal silicon dioxide (Sio2) from quartz
за авторством: L. Y. Shvartsman, та інші
Опубліковано: (2023)

Ion plasma deposition and optical properties of SiC films
за авторством: Semenov, A.V., та інші
Опубліковано: (2005)

Erratum: Electrical and light-emitting properties of silicon dioxide co-implanted by carbon and silicon ions
за авторством: Nazarov, A.N., та інші
Опубліковано: (2009)

Decomposition of ethelene in low temperature plasma of barrierless discharge
за авторством: Golota, V.I., та інші
Опубліковано: (2018)

Strain induced effects in p-type silicon whiskers at low temperatures
за авторством: Druzhinin, A.A., та інші
Опубліковано: (2012)

Dynamics of transformation of conduction electrons into charge-density-wave soliton at low temperatures
за авторством: Kovavev, A.S., та інші
Опубліковано: (1996)