X-ray diffraction study of deformation state in InGaN/GaN multilayered structures
High resolution X-ray diffractometry (HRXRD) was used to investigate InxGa₁₋xN/GaN multilayered structures grown by the metal-organic chemical vapor
 deposition (MOCVD) method. Deformation conditions in the superlattice (SL) and its
 separate layers, degree of relaxation in the struc...
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| Veröffentlicht in: | Semiconductor Physics Quantum Electronics & Optoelectronics |
|---|---|
| Datum: | 2010 |
| Hauptverfasser: | Kladko, V.P., Kuchuk, A.V., Safryuk, N.V., Machulin, V.F., Belyaev, A.E., Konakova, R.V., Yavich, B.S. |
| Format: | Artikel |
| Sprache: | Englisch |
| Veröffentlicht: |
Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України
2010
|
| Online Zugang: | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/117701 |
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| Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Zitieren: | X-ray diffraction study of deformation state in InGaN/GaN
 multilayered structures / V.P. Kladko, A.V. Kuchuk, N.V. Safryuk, V.F. Machulin, A.E. Belyaev, R.V. Konakova, B.S. Yavich // Semiconductor Physics Quantum Electronics & Optoelectronics. — 2010. — Т. 13, № 1. — С. 1-7. — Бібліогр.: 21 назв. — англ. |
Institution
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