Min’ko, V., Shepeliavyi, P., Indutnyy, I., & Litvin, O. (2007). Fabrication of silicon grating structures using interference lithography and chalcogenide inorganic photoresist. Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України.
Chicago-Zitierstil (17. Ausg.)Min’ko, V.I, P.E Shepeliavyi, I.Z Indutnyy, und O.S Litvin. Fabrication of Silicon Grating Structures Using Interference Lithography and Chalcogenide Inorganic Photoresist. Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України, 2007.
MLA-Zitierstil (8. Ausg.)Min’ko, V.I, et al. Fabrication of Silicon Grating Structures Using Interference Lithography and Chalcogenide Inorganic Photoresist. Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України, 2007.
Achtung: Diese Zitate sind unter Umständen nicht zu 100% korrekt.