Graded refraction index antireflection coatings based on silicon and titanium oxides
Thin films with a graded refraction index constituted from silicon and titanium
 oxides were deposited by plasma enhanced chemical vapor deposition using electron
 cyclotron resonance. A plasma of oxygen reacted with two precursors: the
 tetraethoxysilane (TEOS) and the titan...
Збережено в:
| Опубліковано в: : | Semiconductor Physics Quantum Electronics & Optoelectronics |
|---|---|
| Дата: | 2007 |
| Автор: | |
| Формат: | Стаття |
| Мова: | Англійська |
| Опубліковано: |
Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України
2007
|
| Онлайн доступ: | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/117776 |
| Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
| Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Цитувати: | Graded refraction index antireflection coatings based on silicon and titanium oxides / Abdelhakim Mahdjoub // Semiconductor Physics Quantum Electronics & Optoelectronics. — 2007. — Т. 10, № 1. — С. 60-66. — Бібліогр.: 31 назв. — англ. |