Зображення обкладинки

Comparison of optical properties of TiO₂ thin films prepared by reactive magnetron sputtering and electron-beam evaporation techniques

The envelope method was used to determine optical constants of TiO₂ thin films deposited by DC reactive magnetron sputtering and electron-beam evaporation techniques. The density and thickness of the thin films were calculated. Optical properties of the TiO₂ thin films were strongly dependent on...

Повний опис

Збережено в:

Бібліографічні деталі
Опубліковано в: :	Semiconductor Physics Quantum Electronics & Optoelectronics
Дата:	2011
Автори:	Brus, V.V., Kovalyuk, Z.D., Parfenyuk, O.A., Vakhnyak, N.D.
Формат:	Стаття
Мова:	Англійська
Опубліковано:	Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України 2011
Онлайн доступ:	https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/117790
Теги:	Додати тег Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
Назва журналу:	Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Цитувати:	Comparison of optical properties of TiO₂ thin films prepared by reactive magnetron sputtering and electron-beam evaporation techniques / V.V. Brus, Z.D. Kovalyuk, O.A. Parfenyuk, N.D. Vakhnyak // Semiconductor Physics Quantum Electronics & Optoelectronics. — 2011. — Т. 14, № 4. — С. 427-431. — Бібліогр.: 12 назв. — англ.

Репозитарії

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine

Схожі ресурси

Comparison of optical properties of TiO2 thin films prepared by reactive magnetron sputtering and electron-beam evaporation techniques
за авторством: V. V. Brus, та інші
Опубліковано: (2011)

Development of arc suppression technique for reactive magnetron sputtering
за авторством: S. V. Dudin, та інші
Опубліковано: (2005)

Deposition of the stoichiometric coatings by reactive magnetron sputtering
за авторством: Sagalovych, A., та інші
Опубліковано: (2012)

Deposition of the stoichiometric coatings by reactive magnetron sputtering
за авторством: A. Sagalovych, та інші
Опубліковано: (2012)

Synthesis of thin-film Ta₂O₅ coatings by reactive magnetron sputtering
за авторством: Yakovin, S., та інші
Опубліковано: (2016)

Structural and optical properties of Zn₁₋xCoxO thin films prepared by RF reactive sputtering technique
за авторством: Savchuk, A.I., та інші
Опубліковано: (2014)

Structural and optical properties of Zn1-xCoxO thin films prepared by RF reactive sputtering technique
за авторством: A. I. Savchuk, та інші
Опубліковано: (2014)

Synthesis of TiO₂ different phase by DC magnetron sputtering
за авторством: Dobrovolskiy, A., та інші
Опубліковано: (2014)

Photoelectrical analysis of n-TiO₂/p-CdTe heterojunction solar cells
за авторством: Brus, V.V., та інші
Опубліковано: (2013)

Structure and Photocatalytic Properties of Titania Nanofilms Deposited by Reactive Magnetron Sputtering
за авторством: A. A. Goncharov, та інші
Опубліковано: (2014)

Structure of Fe-Cu coatings prepared by the magnetron sputtering method
за авторством: Nowakowska-Langier, K., та інші
Опубліковано: (2010)

Comparison of physicochemical properties of nitride films produced by various reactive sputtering methods
за авторством: Василенко, Наталья Афанасьевна, та інші
Опубліковано: (2014)

Comparison of physicochemical properties of nitride films produced by various reactive sputtering methods
за авторством: Василенко, Наталья Афанасьевна, та інші
Опубліковано: (2014)

Comparison of physicochemical properties of nitride films produced by various reactive sputtering methods
за авторством: N. A. Vasilenko, та інші
Опубліковано: (2013)

Low-Temperature Synthesis and Structure of Hybrid Ni@C Nanomaterials Fabricated by Method of Reactive Magnetron Sputtering
за авторством: M. I. Mokhnenko, та інші
Опубліковано: (2015)

Optical properties of AlN/n-Si(111) films obtained by method of HF reactive magnetron sputtering
за авторством: Zayats, M.S., та інші
Опубліковано: (2010)

Photoelectrical analysis of n-TiO2/p-CdTe heterojunction solar cells
за авторством: V. V. Brus, та інші
Опубліковано: (2013)

Deposition and characterization of thin Si–B–C–N films by dc reactive magnetron sputtering of composed Si/B4C target
за авторством: A. A. Onoprienko, та інші
Опубліковано: (2019)

Chemical composition and light emission properties of Si-rich-SiOx layers prepared by magnetron sputtering
за авторством: Khomenkova, L., та інші
Опубліковано: (2007)

Ion-plasma system for reactive magnetron deposition
за авторством: S. D. Yakovin, та інші
Опубліковано: (2014)

Hybrid systems for electron beam evaporation and ion sputtering
за авторством: A. I. Kuzmichev, та інші
Опубліковано: (2019)

Solid ion accelerator based on magnetron sputtering discharge
за авторством: Azarenkov, N.A., та інші
Опубліковано: (2004)

Formation of antibacterial coatings on chitosan matrices by magnetron sputtering
за авторством: O. V. Kalinkevich, та інші
Опубліковано: (2017)

The flow density of atoms sputtered from a cathode of cylinder magnetron
за авторством: Panchenko, O.A., та інші
Опубліковано: (2005)

Infrared heaters with thin-film conductive layers were synthesized on the glass by the magnetron sputtering
за авторством: Lytvynenko, V.V., та інші
Опубліковано: (2017)

Effect of nitrogen partial pressure on reactive magnetron sputtering from Ti13Cu87 metalloid target: simulation of chemical composition
за авторством: A. Rahmati, та інші
Опубліковано: (2012)

Effect of nitrogen partial pressure on reactive magnetron sputtering from Ti13Cu87 metalloid target: simulation of chemical composition
за авторством: A. Rahmati, та інші
Опубліковано: (2012)

Thin niobium superconducting film prepared by modified cylindrical magnetron
за авторством: Langner, J., та інші
Опубліковано: (2000)

Magnetron sputtered coatings of AlN-TiCrB₂ system
за авторством: Panasyuk, A.D., та інші
Опубліковано: (2009)

Structural and optical studies of Cu₆PSe₅I-based thin film deposited by magnetron sputtering
за авторством: Studenyak, I.P., та інші
Опубліковано: (2017)

Oxygen activation effect on reactive magnetron synthesis of alumina coatings
за авторством: Walkowicz, J., та інші
Опубліковано: (2007)

Oxygen activation effect on reactive magnetron synthesis of alumina coatings
за авторством: Walkowicz, J., та інші
Опубліковано: (2007)

Digital processing of optical emission spectra of magnetron sputtering plasma system
за авторством: Afanasіeva, I.A., та інші
Опубліковано: (2019)

Gas magnetron deposition of structured TiO₂ nanofilms
за авторством: Dobrovolskiy, A.M., та інші
Опубліковано: (2013)

Effect of the nitrogen flow on the properties of Si–C–N amorphous thin films produced by magnetron sputtering
за авторством: A. O. Kozak, та інші
Опубліковано: (2015)

Electrical and optical parameters of Cu₆PS₅I-based thin films deposited using magnetron sputtering
за авторством: Studenyak, I.P., та інші
Опубліковано: (2016)

Evolution of the structure of Mo films obtained by magnetron sputtering on a-Si
за авторством: V. A. Sevrjukova, та інші
Опубліковано: (2011)

Features of high-current pulsed regimes in regimes in magnetron sputtering systems
за авторством: Bizyukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2005)

The Vacuub Device for Receiving Coatings on the Inner Surface of the Pipes by Magnetron Sputtering
за авторством: V. M. Kolomiiets, та інші
Опубліковано: (2020)

Plasma assisted deposition of TaB₂ coatings by magnetron sputtering system
за авторством: Yakovin, S., та інші
Опубліковано: (2017)