Неустойчивость поверхности жидкого водорода и гелия

Обсуждаются результаты проведенных исследований неустойчивости на заряженной и нейтральной поверхностях жидкого водорода и гелия. Заряженная поверхность жидкости теряет устойчивость в электрическом поле, когда его напряженность достигает критического значения, а нейтральная поверхность становится...

Повний опис

Збережено в:
Бібліографічні деталі
Опубліковано в: :Физика низких температур
Дата:2012
Автори: Абдурахимов, Л.В., Левченко, А.А., Межов-Деглин, Л.П., Халатников, И.М.
Формат: Стаття
Мова:Russian
Опубліковано: Фізико-технічний інститут низьких температур ім. Б.І. Вєркіна НАН України 2012
Теми:
Онлайн доступ:https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/117909
Теги: Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
Назва журналу:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Цитувати:Неустойчивость поверхности жидкого водорода и гелия / Л.В. Абдурахимов, А.А. Левченко, Л.П. Межов-Деглин, И.М. Халатников // Физика низких температур. — 2012. — Т. 38, № 11. — С. 1284–1299. — Бібліогр.: 35 назв. — рос.

Репозитарії

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Опис
Резюме:Обсуждаются результаты проведенных исследований неустойчивости на заряженной и нейтральной поверхностях жидкого водорода и гелия. Заряженная поверхность жидкости теряет устойчивость в электрическом поле, когда его напряженность достигает критического значения, а нейтральная поверхность становится неустойчивой, когда скорость потока жидкости под поверхностью достигает некоторого критического значения. В обоих случаях на поверхность действует дополнительное давление, которое и отвечает за развитие неустойчивости. Обговорюються результати проведених досліджень нестійкості на зарядженій і нейтральній поверхнях рідкого водню та гелію. Заряджена поверхня рідини втрачає стійкість в електричному полі, коли його напруженість досягає критичного значення, а нейтральна поверхня стає нестійкою, коли швидкість потоку рідини під поверхнею досягає деякого критичного значення. У обох випадках на поверхню діє додатковий тиск, який і відповідає за розвиток нестійкості.
ISSN:0132-6414