Fabrication and characterization of ONO and tunnel oxide for 16k FLOTOX EEPROM cell
The EEPROM process is one the hardest process to be developed. The performance of the EEPROM devices is normally judged on the programming speed, which relates to program high (erase) and program low (write) operations. It is essential that the program high and program low speed of the EEPROM cell i...
Збережено в:
| Опубліковано в: : | Semiconductor Physics Quantum Electronics & Optoelectronics |
|---|---|
| Дата: | 2004 |
| Автори: | , , |
| Формат: | Стаття |
| Мова: | English |
| Опубліковано: |
Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України
2004
|
| Онлайн доступ: | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/118146 |
| Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
| Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Цитувати: | Fabrication and characterization of ONO and tunnel oxide for 16k FLOTOX EEPROM cell / U. Hashim, R.M. Ayub, K.S. On // Semiconductor Physics Quantum Electronics & Optoelectronics. — 2004. — Т. 7, № 1. — С. 112-117. — Бібліогр.: 7 назв. — англ. |
Репозитарії
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of UkraineБудьте першим, хто залишить коментар!