Электросопротивление интерфейса ВТСП–нормальный металл

Аналитически показано, что удельное электросопротивление ρ приконтактного слоя дырочного
 ВТСП, граничащего с металлом Ме с электронной проводимостью, является немонотонной функцией
 расстояния от интерфейса. Максимальное значение ρ соответствует ρAF ВТСП в антиферромагнитном&#xd...

Full description

Saved in:
Bibliographic Details
Published in:Физика низких температур
Date:2013
Main Authors: Соколенко, В.И., Фролов, В.А.
Language:Russian
Published: 2013
Subjects:
Online Access:https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/118160
Tags: Add Tag
No Tags, Be the first to tag this record!
Journal Title:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Cite this:Электросопротивление интерфейса ВТСП–нормальный металл / В.И. Соколенко, В.А. Фролов // Физика низких температур. — 2013. — Т. 39, № 2. — С. 134–138. — Бібліогр.: 24 назв. — рос.

Institution

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
_version_ 1862743745869381632
author Соколенко, В.И.
Фролов, В.А.
author_facet Соколенко, В.И.
Фролов, В.А.
citation_txt Электросопротивление интерфейса ВТСП–нормальный металл / В.И. Соколенко, В.А. Фролов // Физика низких температур. — 2013. — Т. 39, № 2. — С. 134–138. — Бібліогр.: 24 назв. — рос.
collection DSpace DC
container_title Физика низких температур
description Аналитически показано, что удельное электросопротивление ρ приконтактного слоя дырочного
 ВТСП, граничащего с металлом Ме с электронной проводимостью, является немонотонной функцией
 расстояния от интерфейса. Максимальное значение ρ соответствует ρAF ВТСП в антиферромагнитном
 диэлектрическом состоянии на расстоянии x, где разность концентраций фермиевских «гостевых» электронов и «аборигенных» дырок nf
 е(x) – nf
 h = 0. При условии nf
 е = соnst величина контактного сопротивления rc интерфейса ВТСП/Ме может быть индикатором изменений nf
 h, в частности, температурных. Для
 оптимально и слабодопированных двухфазных висмутовых керамик BiSrPbCaCuO измерены температурные зависимости rc(Т) интерфейсов ВТСП/Pb и ВТСП/In. Их особенности соответствуют концепции
 локальных пар, существующих в псевдощелевой фазе до температуры распаривания, представлению о
 флуктуационной сверхпроводимости, а также переходу в сверхпроводящее состояние. Аналітично показано, що питомий електроопір ρ приконтактного шару діркового ВТНП, що граничить з металом Ме з електронною провідністю, є немонотонною функцією відстані від інтерфейсу. Максимальне значення ρ відповідає ρAF ВТНП в антиферомагнітному діелектричному стані на відстані x, де
 різниця концентрацій ферміївських «гостьових» електронів і «аборигенних» дірок nf
 е(x) – nf
 h = 0. За умови nf
 е = соnst величина контактного опору rc інтерфейсу ВТНП/Ме може бути індикатором змін nf
 h, зокрема, температурних. Для оптимально і слабодопованих двофазних вісмутових керамік BiSrPbCaCuO
 виміряно температурні залежності rc(Т) інтерфейсів ВТНП/Pb та ВТНП/In. Їх особливості відповідають
 концепції локальних пар, які існують в псевдощілинній фазі до температури розпарування, уявленню про
 флуктуаційну надпровідність, а також переходу в надпровідний стан. It is analytically shown that the specific resistivity
 ρ of a hole-type HTSC a contact layer abutting upon
 an electron-type conductivity metal Ме is a nonmonotonic
 function of distance from interface. A maximum
 value of ρ corresponds to ρAF of HTSC in the antiferromagnetic
 dielectric state at a distance x, where the
 difference in densities of Fermi guest electrons and native
 holes is e ( ) h 0.
 n f x − n f = For (0) соnst ef
 n = the
 value of rc can be an indicator of changes of hf
 n , in particular,
 temperature. The temperature dependences rc(Т)
 of HTSC/Pb and HТSС/In interfaces in optimally and
 slightly doped diphasiс Bi ceramics BiSrPbCaCuO are
 measured. Their features correspond: concept of local
 pairs, existing in a pseudogap phase till the temperature
 of depairing, the idea of fluctuation superconductivity
 and the transition to a superconducting state.
first_indexed 2025-12-07T20:32:05Z
fulltext
id nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-118160
institution Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
language Russian
last_indexed 2025-12-07T20:32:05Z
publishDate 2013
record_format dspace
spelling Соколенко, В.И.
Фролов, В.А.
2017-05-29T05:17:23Z
2017-05-29T05:17:23Z
2013
Электросопротивление интерфейса ВТСП–нормальный металл / В.И. Соколенко, В.А. Фролов // Физика низких температур. — 2013. — Т. 39, № 2. — С. 134–138. — Бібліогр.: 24 назв. — рос.
PACS: 74.72.–h, 74.25.F–, 73.40.Сg
https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/118160
Аналитически показано, что удельное электросопротивление ρ приконтактного слоя дырочного
 ВТСП, граничащего с металлом Ме с электронной проводимостью, является немонотонной функцией
 расстояния от интерфейса. Максимальное значение ρ соответствует ρAF ВТСП в антиферромагнитном
 диэлектрическом состоянии на расстоянии x, где разность концентраций фермиевских «гостевых» электронов и «аборигенных» дырок nf
 е(x) – nf
 h = 0. При условии nf
 е = соnst величина контактного сопротивления rc интерфейса ВТСП/Ме может быть индикатором изменений nf
 h, в частности, температурных. Для
 оптимально и слабодопированных двухфазных висмутовых керамик BiSrPbCaCuO измерены температурные зависимости rc(Т) интерфейсов ВТСП/Pb и ВТСП/In. Их особенности соответствуют концепции
 локальных пар, существующих в псевдощелевой фазе до температуры распаривания, представлению о
 флуктуационной сверхпроводимости, а также переходу в сверхпроводящее состояние.
Аналітично показано, що питомий електроопір ρ приконтактного шару діркового ВТНП, що граничить з металом Ме з електронною провідністю, є немонотонною функцією відстані від інтерфейсу. Максимальне значення ρ відповідає ρAF ВТНП в антиферомагнітному діелектричному стані на відстані x, де
 різниця концентрацій ферміївських «гостьових» електронів і «аборигенних» дірок nf
 е(x) – nf
 h = 0. За умови nf
 е = соnst величина контактного опору rc інтерфейсу ВТНП/Ме може бути індикатором змін nf
 h, зокрема, температурних. Для оптимально і слабодопованих двофазних вісмутових керамік BiSrPbCaCuO
 виміряно температурні залежності rc(Т) інтерфейсів ВТНП/Pb та ВТНП/In. Їх особливості відповідають
 концепції локальних пар, які існують в псевдощілинній фазі до температури розпарування, уявленню про
 флуктуаційну надпровідність, а також переходу в надпровідний стан.
It is analytically shown that the specific resistivity
 ρ of a hole-type HTSC a contact layer abutting upon
 an electron-type conductivity metal Ме is a nonmonotonic
 function of distance from interface. A maximum
 value of ρ corresponds to ρAF of HTSC in the antiferromagnetic
 dielectric state at a distance x, where the
 difference in densities of Fermi guest electrons and native
 holes is e ( ) h 0.
 n f x − n f = For (0) соnst ef
 n = the
 value of rc can be an indicator of changes of hf
 n , in particular,
 temperature. The temperature dependences rc(Т)
 of HTSC/Pb and HТSС/In interfaces in optimally and
 slightly doped diphasiс Bi ceramics BiSrPbCaCuO are
 measured. Their features correspond: concept of local
 pairs, existing in a pseudogap phase till the temperature
 of depairing, the idea of fluctuation superconductivity
 and the transition to a superconducting state.
ru
Физика низких температур
Свеpхпpоводимость, в том числе высокотемпеpатуpная
Электросопротивление интерфейса ВТСП–нормальный металл
Electrical resistivity for HTSC–normal metal interface
published earlier
spellingShingle Электросопротивление интерфейса ВТСП–нормальный металл
Соколенко, В.И.
Фролов, В.А.
Свеpхпpоводимость, в том числе высокотемпеpатуpная
title Электросопротивление интерфейса ВТСП–нормальный металл
title_alt Electrical resistivity for HTSC–normal metal interface
title_full Электросопротивление интерфейса ВТСП–нормальный металл
title_fullStr Электросопротивление интерфейса ВТСП–нормальный металл
title_full_unstemmed Электросопротивление интерфейса ВТСП–нормальный металл
title_short Электросопротивление интерфейса ВТСП–нормальный металл
title_sort электросопротивление интерфейса втсп–нормальный металл
topic Свеpхпpоводимость, в том числе высокотемпеpатуpная
topic_facet Свеpхпpоводимость, в том числе высокотемпеpатуpная
url https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/118160
work_keys_str_mv AT sokolenkovi élektrosoprotivlenieinterfeisavtspnormalʹnyimetall
AT frolovva élektrosoprotivlenieinterfeisavtspnormalʹnyimetall
AT sokolenkovi electricalresistivityforhtscnormalmetalinterface
AT frolovva electricalresistivityforhtscnormalmetalinterface