Электросопротивление интерфейса ВТСП–нормальный металл

• Published in: Физика низких температур
• Date: 2013
• Main Authors: Соколенко, В.И., Фролов, В.А.
• Language: Russian
• Published: 2013
• Subjects: Свеpхпpоводимость, в том числе высокотемпеpатуpная
• Online Access: https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/118160
• Journal Title: Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
• Cite this: Электросопротивление интерфейса ВТСП–нормальный металл / В.И. Соколенко, В.А. Фролов // Физика низких температур. — 2013. — Т. 39, № 2. — С. 134–138. — Бібліогр.: 24 назв. — рос.

Аналитически показано, что удельное электросопротивление ρ приконтактного слоя дырочного
 ВТСП, граничащего с металлом Ме с электронной проводимостью, является немонотонной функцией
 расстояния от интерфейса. Максимальное значение ρ соответствует ρAF ВТСП в антиферромагнитном&#xd...