Зображення обкладинки

Influence of ultrasound treatment and dynamic (in-situ) ultrasound loading on the temperature hysteresis of electrophysical characteristics in irradiated n-Si–Fz

Presented in this paper are experimental results of ultrasound treatment (UST) and dynamic ultrasound loading (USL) influences on the electric activity of radiation defects (after y-irradiation) in crystals n-Si–Fz. The results are obtained using the Hall effect method within the temperature rang...

Повний опис

Збережено в:
Бібліографічні деталі
Опубліковано в: :Semiconductor Physics Quantum Electronics & Optoelectronics
Дата:2009
Автори: Babych, V.М., Olikh, Ja.М., Tymochko, M.D.
Формат: Стаття
Мова:Англійська
Опубліковано: Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України 2009
Онлайн доступ:https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/118840
Теги: Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
Назва журналу:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Цитувати:Influence of ultrasound treatment and dynamic (in-situ) ultrasound loading on the temperature hysteresis of electrophysical characteristics in irradiated n-Si–Fz / V.М. Babych, Ja.М. Olikh, M.D. Tymochko // Semiconductor Physics Quantum Electronics & Optoelectronics. — 2009. — Т. 12, № 4. — С. 375-378. — Бібліогр.: 17 назв. — англ.

Репозитарії

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine

Схожі ресурси

Схожі ресурси