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Hydrogen plasma treatment of silicon thin-film structures and nanostructured layers

The review concentrates on the analysis of the RF hydrogen plasma effect on thin-film metal-dioxide-silicon and silicon-dioxide silicon structures which are a modern basis of micro- and nanoelectronics. The especial attention is paid to athermic mechanisms of transforma...

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Semiconductor Physics Quantum Electronics & Optoelectronics
Datum:	2008
Hauptverfasser:	Nazarov, A.N., Lysenko, V.S., Nazarova, T.M.
Format:	Artikel
Sprache:	Englisch
Veröffentlicht:	Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України 2008
Online Zugang:	https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/118855
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Назва журналу:	Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Zitieren:	Hydrogen plasma treatment of silicon thin-film structures and nanostructured layers / A.N. Nazarov, V.S. Lysenko, T.M. Nazarova // Semiconductor Physics Quantum Electronics & Optoelectronics. — 2008. — Т. 11, № 2. — С. 101-123. — Бібліогр.: 143 назв. — англ.

Institution

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine

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