Novel hysteresis effect in ultrathin epitaxial Gd₂O₃ high-k dielectric
Charge trapping in ultrathin high-k Gd₂O₃ dielectric leading to appearance of hysteresis in C–V curves is studied by capacitance-voltage, conductance-frequency and current-voltage techniques at different temperatures. It was shown that the large leakage current at a negative gate voltage causes t...
Збережено в:
| Опубліковано в: : | Semiconductor Physics Quantum Electronics & Optoelectronics |
|---|---|
| Дата: | 2008 |
| Автори: | , , , , , , , , |
| Формат: | Стаття |
| Мова: | English |
| Опубліковано: |
Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України
2008
|
| Онлайн доступ: | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/119074 |
| Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
| Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Цитувати: | Novel hysteresis effect in ultrathin epitaxial Gd₂O₃ high-k dielectric / A. N. Nazarov, Y. V. Gomeniuk, Y. Y. Gomeniuk, V. S. Lysenko, H. D. B. Gottlob, M. Schmidt, M. C. Lemme, M. Czernohorsky, H. J. Ostenc // Semiconductor Physics Quantum Electronics & Optoelectronics. — 2008. — Т. 11, № 4. — С. 324-328. — Бібліогр.: 12 назв. — англ. |
Репозитарії
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of UkraineБудьте першим, хто залишить коментар!