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Deagglomeration of aerosil in polishing suspension for chemical-mechanical polishing of sapphire

Studied is the influence of pH, surface-active substances and ultrasonic dispersing on the degree of deagglomeration of aerosol in the polishing suspensions used for CMP of sapphire, the removal rate and the optical quality of the surface at polishing. Ultrasonic dispersing makes it possible to obta...

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Functional Materials
Datum:	2015
1. Verfasser:	Vovk, E.A.
Format:	Artikel
Sprache:	Englisch
Veröffentlicht:	НТК «Інститут монокристалів» НАН України 2015
Schlagworte:	Technology
Online Zugang:	https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/119306
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Назва журналу:	Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Zitieren:	Deagglomeration of aerosil in polishing suspension for chemical-mechanical polishing of sapphire / E.A.Vovk // Functional Materials. — 2015. — Т. 22, № 1. — С. 110-115. — Бібліогр.: 15 назв. — англ.

Institution

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine

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