Divergent-beam X-ray structural studies of a disturbed surface layer in silicon plates
A Kossel chamber for reflected-beam X-ray studying of single crystal surfaces has been developed on the basis of a BS-340 scanning electron microscope. We have examined the structure of a disturbed layer of silicon plates after chemico-mechanical polishing. The intensity of X-ray reflection from the...
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| Veröffentlicht in: | Semiconductor Physics Quantum Electronics & Optoelectronics |
|---|---|
| Datum: | 2002 |
| 1. Verfasser: | Tkach, V.N. |
| Format: | Artikel |
| Sprache: | Englisch |
| Veröffentlicht: |
Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України
2002
|
| Online Zugang: | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/119563 |
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| Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Zitieren: | Divergent-beam X-ray structural studies of a disturbed surface layer in silicon plates / V.N. Tkach // Semiconductor Physics Quantum Electronics & Optoelectronics. — 2002. — Т. 5, № 1. — С. 36-38. — Бібліогр.: 6 назв. — англ. |
Institution
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