Morphology change of the silicon surface induced by Ar+ ion beam sputtering
Two-level modeling for nanoscale pattern formation on silicon target by Ar+ ion sputtering is presented. Phase diagram illustrating possible nanosize surface patterns is discussed. Scaling characteristics for the structure wavelength dependence versus incoming ion energy are defined. Growth and roug...
Збережено в:
| Опубліковано в: : | Condensed Matter Physics |
|---|---|
| Дата: | 2011 |
| Автори: | Kharchenko, V.O., Kharchenko, D.O. |
| Формат: | Стаття |
| Мова: | Англійська |
| Опубліковано: |
Інститут фізики конденсованих систем НАН України
2011
|
| Онлайн доступ: | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/119981 |
| Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
| Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Цитувати: | Morphology change of the silicon surface induced by Ar+ ion beam sputtering / V.O. Kharchenko, D.O. Kharchenko // Condensed Matter Physics. — 2011. — Т. 14, № 2. — С. 23602:1-11. — Бібліогр.: 27 назв. — англ. |
Репозитарії
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of UkraineСхожі ресурси
Structure formation processes induced by the ion sputtering in anisotropic system with additive noise
за авторством: Kharchenko, V.O.
Опубліковано: (2011)
за авторством: Kharchenko, V.O.
Опубліковано: (2011)
Formation of Stationary Surface Structures During Ion Beam Sputtering
за авторством: I. O. Lysenko, та інші
Опубліковано: (2013)
за авторством: I. O. Lysenko, та інші
Опубліковано: (2013)
Specular and diffusive reflectance of stainless steel mirrors sputtered with Ar⁺ ions
за авторством: Konovalov, V.G., та інші
Опубліковано: (2012)
за авторством: Konovalov, V.G., та інші
Опубліковано: (2012)
The microrelief studies of stainless steel mirrors sputtered with Ar⁺ ions of different energy
за авторством: Bondarenko, V.N., та інші
Опубліковано: (2018)
за авторством: Bondarenko, V.N., та інші
Опубліковано: (2018)
Hybrid systems for electron beam evaporation and ion sputtering
за авторством: A. I. Kuzmichev, та інші
Опубліковано: (2019)
за авторством: A. I. Kuzmichev, та інші
Опубліковано: (2019)
The sputtering of silicon and carbon targets by accelerated ion by the fullerene C60
за авторством: M. V. Maleev, та інші
Опубліковано: (2015)
за авторством: M. V. Maleev, та інші
Опубліковано: (2015)
Radiation-induced hardening of Ar+-ion irradiated SS316 stainless steel
за авторством: S. A. Karpov, та інші
Опубліковано: (2016)
за авторством: S. A. Karpov, та інші
Опубліковано: (2016)
Structure and fluorescence of ZnWO₄ films prepared by ion beam sputtering
за авторством: Dubovik, A., та інші
Опубліковано: (2012)
за авторством: Dubovik, A., та інші
Опубліковано: (2012)
Structural and morphological properties of nanometer carbon films obtained by electron beam sputtering of graphite
за авторством: V. O. Yukhymchuk, та інші
Опубліковано: (2023)
за авторством: V. O. Yukhymchuk, та інші
Опубліковано: (2023)
The silica and silicon luminescence induced by fast hydrogen ions
за авторством: Kalantaryan, O.V., та інші
Опубліковано: (2000)
за авторством: Kalantaryan, O.V., та інші
Опубліковано: (2000)
Vacuum arc sputtering of subsrate surface by chrome and molybdenum ions
за авторством: V. A. Stolbovoj
Опубліковано: (2009)
за авторством: V. A. Stolbovoj
Опубліковано: (2009)
Influence of the irradiation doze and temperature on the flux of ejecting atoms during relief formation on Mg surface by Ar⁺ sputtering
за авторством: Starshinov, I.N., та інші
Опубліковано: (2010)
за авторством: Starshinov, I.N., та інші
Опубліковано: (2010)
Using of electron cyclotron resonance discharge in ion beam sputtering systems for space charge compensation
за авторством: Bizyukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2019)
за авторством: Bizyukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2019)
Generation of the Al(111) Surface Defects under Influence of Low-Energy Ar+ Ions
за авторством: M. O. Vasyliev, та інші
Опубліковано: (2014)
за авторством: M. O. Vasyliev, та інші
Опубліковано: (2014)
Unusual morphology of equimolar Ar–Kr alloys
за авторством: Danchuk, V.V., та інші
Опубліковано: (2015)
за авторством: Danchuk, V.V., та інші
Опубліковано: (2015)
Unusual morphology of equimolar Ar–Kr alloys
за авторством: V. V. Danchuk, та інші
Опубліковано: (2015)
за авторством: V. V. Danchuk, та інші
Опубліковано: (2015)
Investigations of characteristics of metal film based pyroelectric detectors implanted by Ar+ ions
за авторством: Lysyuk, V.O., та інші
Опубліковано: (2002)
за авторством: Lysyuk, V.O., та інші
Опубліковано: (2002)
Properties of spatial arrangement of V-type defects in irradiated materials: 3D-modelling
за авторством: Kharchenko, V.O., та інші
Опубліковано: (2013)
за авторством: Kharchenko, V.O., та інші
Опубліковано: (2013)
Ab-initio calculations for the structural properties of Zr-Nb alloys
за авторством: Kharchenko, V.O., та інші
Опубліковано: (2013)
за авторством: Kharchenko, V.O., та інші
Опубліковано: (2013)
Surface morphology and sputtering of FeCrAl coating on steel exposed to low-energy deuterium plasmas
за авторством: Voyevodin, V.N., та інші
Опубліковано: (2019)
за авторством: Voyevodin, V.N., та інші
Опубліковано: (2019)
Phase and structure formation mechanism of ion-sputtered condensates
за авторством: O. V. Sobol
Опубліковано: (2008)
за авторством: O. V. Sobol
Опубліковано: (2008)
Surface morphology and structure of nanocrystalline diamond films deposited in CH₄/H₂/Ar glow discharge plasma
за авторством: Vyrovets, I.I., та інші
Опубліковано: (2009)
за авторством: Vyrovets, I.I., та інші
Опубліковано: (2009)
Morphology and sputtering of tungsten nitrides coatings exposed to deuterium plasma
за авторством: Tolstolutskaya, G.D., та інші
Опубліковано: (2023)
за авторством: Tolstolutskaya, G.D., та інші
Опубліковано: (2023)
The influence of substrate temperature on properties of Cu-Al-O films deposited using the reactive ion beam sputtering method
за авторством: A. I. Ievtushenko, та інші
Опубліковано: (2017)
за авторством: A. I. Ievtushenko, та інші
Опубліковано: (2017)
The influence of substrate temperature on properties of Cu-Al-O films deposited using the reactive ion beam sputtering method
за авторством: Ievtushenko, A.I., та інші
Опубліковано: (2017)
за авторством: Ievtushenko, A.I., та інші
Опубліковано: (2017)
The influence of ion implantation by phosphorous on structural changes in porous silicon
за авторством: Swiatek, Z., та інші
Опубліковано: (2004)
за авторством: Swiatek, Z., та інші
Опубліковано: (2004)
Solid ion accelerator based on magnetron sputtering discharge
за авторством: Azarenkov, N.A., та інші
Опубліковано: (2004)
за авторством: Azarenkov, N.A., та інші
Опубліковано: (2004)
Laser-induced incandescence of silicon surface under 1064-nm excitation
за авторством: A. V. Kopyshinsky, та інші
Опубліковано: (2012)
за авторством: A. V. Kopyshinsky, та інші
Опубліковано: (2012)
Laser-induced incandescence of silicon surface under 1064-nm excitation
за авторством: Kopyshinsky, A.V., та інші
Опубліковано: (2012)
за авторством: Kopyshinsky, A.V., та інші
Опубліковано: (2012)
On the influence of irradiation by Ar+ ions on the corrosion resistance of metals and alloys
за авторством: V. A. Belous, та інші
Опубліковано: (2010)
за авторством: V. A. Belous, та інші
Опубліковано: (2010)
Ion beam technologies of surface modification. I. Ion cleaning and high dose implantation
за авторством: V. A. Belous, та інші
Опубліковано: (2003)
за авторством: V. A. Belous, та інші
Опубліковано: (2003)
Cluster morphology silicon's nanoparticle
за авторством: Kovalchuk, V.V.
Опубліковано: (2007)
за авторством: Kovalchuk, V.V.
Опубліковано: (2007)
Formation of blisters in thin metal films on lithium niobate implanted by keV Ar⁺ ions
за авторством: Lysiuk, V.O., та інші
Опубліковано: (2010)
за авторством: Lysiuk, V.O., та інші
Опубліковано: (2010)
Morphological changes of immature rats liver at chronic drug-induced hepatitis and its pathogenetic correction
за авторством: N. A. Rykalo, та інші
Опубліковано: (2015)
за авторством: N. A. Rykalo, та інші
Опубліковано: (2015)
Morphological response erythrocytes as regular response of cell shape to ion environment changes
за авторством: S. V. Rudenko
Опубліковано: (2008)
за авторством: S. V. Rudenko
Опубліковано: (2008)
Surface diffusion induced by low-energy bombardment with He ions: an exchange mechanism
за авторством: Dudka, O.V., та інші
Опубліковано: (2017)
за авторством: Dudka, O.V., та інші
Опубліковано: (2017)
Radiation-induced effects in silicon
за авторством: Gaidar, G.P., та інші
Опубліковано: (2019)
за авторством: Gaidar, G.P., та інші
Опубліковано: (2019)
Effect of increasing surface roughness on sputtering and reflection
за авторством: Bizyukov, I., та інші
Опубліковано: (2012)
за авторством: Bizyukov, I., та інші
Опубліковано: (2012)
Transitions from low-density state towards high-density state in stochastic bistable plasma-condensate systems
за авторством: Dvornichenko, A.V., та інші
Опубліковано: (2018)
за авторством: Dvornichenko, A.V., та інші
Опубліковано: (2018)
Universality and self-similar behaviour of non-equilibrium systems with non-Fickian diffusion
за авторством: Kharchenko, D.O., та інші
Опубліковано: (2014)
за авторством: Kharchenko, D.O., та інші
Опубліковано: (2014)
Схожі ресурси
-
Structure formation processes induced by the ion sputtering in anisotropic system with additive noise
за авторством: Kharchenko, V.O.
Опубліковано: (2011) -
Formation of Stationary Surface Structures During Ion Beam Sputtering
за авторством: I. O. Lysenko, та інші
Опубліковано: (2013) -
Specular and diffusive reflectance of stainless steel mirrors sputtered with Ar⁺ ions
за авторством: Konovalov, V.G., та інші
Опубліковано: (2012) -
The microrelief studies of stainless steel mirrors sputtered with Ar⁺ ions of different energy
за авторством: Bondarenko, V.N., та інші
Опубліковано: (2018) -
Hybrid systems for electron beam evaporation and ion sputtering
за авторством: A. I. Kuzmichev, та інші
Опубліковано: (2019)