Formation and thermal stability of NiSi phase in Ni (30 nm)/Pt (2 nm; 6 nm)/Siep. (50 nm)/Si (001) thin film systems

• Опубліковано в: : Functional Materials
• Дата: 2013
• Автори: Makogon, Iu.N., Pavlova, E.P., Sidorenko, S.I., Beddies, G., Beke, D.L., Csik, A., Verbitska, T.I., Fihurna, E.V., Shkarban, R.A.
• Формат: Стаття
• Мова: Англійська
• Опубліковано: НТК «Інститут монокристалів» НАН України 2013
• Теми: Characterization and properties
• Онлайн доступ: https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/120090
• Назва журналу: Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
• Цитувати: Formation and thermal stability of NiSi phase in Ni (30 nm)/Pt (2 nm; 6 nm)/Siep. (50 nm)/Si (001) thin film systems / Iu.N. Makogon, E.P. Pavlova, S.I. Sidorenko, G. Beddies, D.L. Beke, A. Csik, T.I. Verbitska, E.V. Figurhaya, R.A. Shkarban // Functional Materials. — 2013. — Т. 20, № 3. — С. 332-339. — Бібліогр.: 17 назв. — англ.

The influence of Pt on solid state reactions in Ni (30 nm)/Pt(x) /Siep.(50 nm)/ Si (001) (x=2 nm, 6 nm) nanodimensional films has been investigated. The layers of Pt and Ni were produced by magnetron sputtering technique on the epitaxially grown 50 nm Si layer on the top of the monocryst...