Micro-Raman study of CNx composites subjected to high pressure treatment
CNx films were deposited by reactive ion-plasma sputtering of a graphite target in an argon-nitrogen-acetone vapor atmosphere onto molybdenum substrates. After deposition the CNx composites were cut from substrates, formed in pellets of 6 mm in diameter, and subjected to a high pressure-high tempera...
Збережено в:
| Дата: | 1999 |
|---|---|
| Автори: | , , , , , , , , |
| Формат: | Стаття |
| Мова: | English |
| Опубліковано: |
Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України
1999
|
| Назва видання: | Semiconductor Physics Quantum Electronics & Optoelectronics |
| Онлайн доступ: | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/120248 |
| Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
| Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Цитувати: | Micro-Raman study of CNx composites subjected to high pressure treatment / N.I. Klyui, M.Ya. Valakh, V.G. Visotski, J. Pascual, N. Mestres, N.V. Novikov, I.A. Petrusha, M.A. Voronkin, N.I.Zaika // Semiconductor Physics Quantum Electronics & Optoelectronics. — 1999. — Т. 2, № 4. — С. 13-18. — Бібліогр.: 23 назв. — англ. |