Conductivity of the Bi₁₂SiO₂₀ thin films

The results of the conductivity examination in the Bi₁₂SiO₂₀ thin films prepared using the sol-gel method are presented. The conductivity was investigated in the 300–550 K temperature and up to 100 V/cm field ranges. It
 was observed that the charge carrier transfer at the flow level, situated...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Condensed Matter Physics
Datum:1999
Hauptverfasser: Plyaka, S.N., Sokolyanskii, G.Ch., Klebanskii, E.O., Sadovskaya, L.Ja.
Format: Artikel
Sprache:Englisch
Veröffentlicht: Інститут фізики конденсованих систем НАН України 1999
Online Zugang:https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/120588
Tags: Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
Назва журналу:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Zitieren:Conductivity of the Bi₁₂SiO₂₀ thin films / S.N. Plyaka, G.Ch. Sokolyanskii, E.O. Klebanskii, L.Ja. Sadovskaya // Condensed Matter Physics. — 1999. — Т. 2, № 4(20). — С. 625-630. — Бібліогр.: 6 назв. — англ.

Institution

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
_version_ 1862675975123238912
author Plyaka, S.N.
Sokolyanskii, G.Ch.
Klebanskii, E.O.
Sadovskaya, L.Ja.
author_facet Plyaka, S.N.
Sokolyanskii, G.Ch.
Klebanskii, E.O.
Sadovskaya, L.Ja.
citation_txt Conductivity of the Bi₁₂SiO₂₀ thin films / S.N. Plyaka, G.Ch. Sokolyanskii, E.O. Klebanskii, L.Ja. Sadovskaya // Condensed Matter Physics. — 1999. — Т. 2, № 4(20). — С. 625-630. — Бібліогр.: 6 назв. — англ.
collection DSpace DC
container_title Condensed Matter Physics
description The results of the conductivity examination in the Bi₁₂SiO₂₀ thin films prepared using the sol-gel method are presented. The conductivity was investigated in the 300–550 K temperature and up to 100 V/cm field ranges. It
 was observed that the charge carrier transfer at the flow level, situated in
 the tail of the density of states into the forbidden band is dominant for the
 investigated sample at T > 500 K. The obtained results are explained in
 terms of the highly compensated doped semiconductor model. Тонкi плiвки сiленiту вiсмуту були отриманi золь-гель методом. У широкому діапазонi полів та температур були дослiдженi вольт-ампернi
 характеристики та електропровiднiсть. Знайдено, що перенесення носiїв заряду в тонких плiвках при T > 500 K здiйснюється по
 рiвню протiкання, розташованому у хвостi густини локалiзованих
 станiв. Отриманi результати обговорюються у рамках моделi легованих компенсованих напiвпровiдникiв.
first_indexed 2025-12-07T15:41:16Z
format Article
fulltext
id nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-120588
institution Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
issn 1607-324X
language English
last_indexed 2025-12-07T15:41:16Z
publishDate 1999
publisher Інститут фізики конденсованих систем НАН України
record_format dspace
spelling Plyaka, S.N.
Sokolyanskii, G.Ch.
Klebanskii, E.O.
Sadovskaya, L.Ja.
2017-06-12T11:57:04Z
2017-06-12T11:57:04Z
1999
Conductivity of the Bi₁₂SiO₂₀ thin films / S.N. Plyaka, G.Ch. Sokolyanskii, E.O. Klebanskii, L.Ja. Sadovskaya // Condensed Matter Physics. — 1999. — Т. 2, № 4(20). — С. 625-630. — Бібліогр.: 6 назв. — англ.
1607-324X
DOI:10.5488/CMP.2.4.625
PACS: 73.61
https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/120588
The results of the conductivity examination in the Bi₁₂SiO₂₀ thin films prepared using the sol-gel method are presented. The conductivity was investigated in the 300–550 K temperature and up to 100 V/cm field ranges. It
 was observed that the charge carrier transfer at the flow level, situated in
 the tail of the density of states into the forbidden band is dominant for the
 investigated sample at T > 500 K. The obtained results are explained in
 terms of the highly compensated doped semiconductor model.
Тонкi плiвки сiленiту вiсмуту були отриманi золь-гель методом. У широкому діапазонi полів та температур були дослiдженi вольт-ампернi
 характеристики та електропровiднiсть. Знайдено, що перенесення носiїв заряду в тонких плiвках при T > 500 K здiйснюється по
 рiвню протiкання, розташованому у хвостi густини локалiзованих
 станiв. Отриманi результати обговорюються у рамках моделi легованих компенсованих напiвпровiдникiв.
en
Інститут фізики конденсованих систем НАН України
Condensed Matter Physics
Conductivity of the Bi₁₂SiO₂₀ thin films
Провiднiсть тонких плiвок Bi₁₂SiO₂₀
Article
published earlier
spellingShingle Conductivity of the Bi₁₂SiO₂₀ thin films
Plyaka, S.N.
Sokolyanskii, G.Ch.
Klebanskii, E.O.
Sadovskaya, L.Ja.
title Conductivity of the Bi₁₂SiO₂₀ thin films
title_alt Провiднiсть тонких плiвок Bi₁₂SiO₂₀
title_full Conductivity of the Bi₁₂SiO₂₀ thin films
title_fullStr Conductivity of the Bi₁₂SiO₂₀ thin films
title_full_unstemmed Conductivity of the Bi₁₂SiO₂₀ thin films
title_short Conductivity of the Bi₁₂SiO₂₀ thin films
title_sort conductivity of the bi₁₂sio₂₀ thin films
url https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/120588
work_keys_str_mv AT plyakasn conductivityofthebi12sio20thinfilms
AT sokolyanskiigch conductivityofthebi12sio20thinfilms
AT klebanskiieo conductivityofthebi12sio20thinfilms
AT sadovskayalja conductivityofthebi12sio20thinfilms
AT plyakasn providnistʹtonkihplivokbi12sio20
AT sokolyanskiigch providnistʹtonkihplivokbi12sio20
AT klebanskiieo providnistʹtonkihplivokbi12sio20
AT sadovskayalja providnistʹtonkihplivokbi12sio20