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Surface polariton excitation in ZnO films deposited using ALD

The conductive ZnO films deposited using atomic layer deposition (ALD) on the optical glass substrates were studied using the modified method of the disturbed total internal reflection within the range 400…1400 cm⁻¹ for the first time. The frequency “windows” with the obtained excited surface phonon...

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Semiconductor Physics Quantum Electronics & Optoelectronics
Datum:	2015
Hauptverfasser:	Venger, E.F., Melnichuk, L.Yu., Melnichuk, A.V., Semikina, T.V.
Format:	Artikel
Sprache:	Englisch
Veröffentlicht:	Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України 2015
Online Zugang:	https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/121268
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Назва журналу:	Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Zitieren:	Surface polariton excitation in ZnO films deposited using ALD / E.F. Venger, L.Yu. Melnichuk, A.V. Melnichuk, T.V. Semikina // Semiconductor Physics Quantum Electronics & Optoelectronics. — 2015. — Т. 18, № 4. — С. 422-427. — Бібліогр.: 15 назв. — англ.

Institution

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine

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