Sun, H., Ma, X., & Hu, C. (2016). Stamp stress analysis with low temperature nanoimprint lithography. НТК «Інститут монокристалів» НАН України.
Chicago-Zitierstil (17. Ausg.)Sun, Hongwen, Xiaochao Ma, und Chenhui Hu. Stamp Stress Analysis with Low Temperature Nanoimprint Lithography. НТК «Інститут монокристалів» НАН України, 2016.
MLA-Zitierstil (8. Ausg.)Sun, Hongwen, et al. Stamp Stress Analysis with Low Temperature Nanoimprint Lithography. НТК «Інститут монокристалів» НАН України, 2016.
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