Стиль цитування APA (7-ме видання)

Sun, H., Ma, X., & Hu, C. (2016). Stamp stress analysis with low temperature nanoimprint lithography. НТК «Інститут монокристалів» НАН України.

Чикаго стиль цитування (17-те видання)

Sun, Hongwen, Xiaochao Ma, та Chenhui Hu. Stamp Stress Analysis with Low Temperature Nanoimprint Lithography. НТК «Інститут монокристалів» НАН України, 2016.

Стиль цитування MLA (8-ме видання)

Sun, Hongwen, et al. Stamp Stress Analysis with Low Temperature Nanoimprint Lithography. НТК «Інститут монокристалів» НАН України, 2016.