Effect of substrate bias voltage parameters on surface properties of ta-C coatings
The study presents the technology of the formation of amorphous ta-C films, deposited by pulsed vacuum-arc method with the use of a water-cooled electromagnetic Venetian blind plasma filter. The effect of the substrate bias voltage, in the range of -25 to -200 V, on the structural and surface proper...
Збережено в:
| Опубліковано в: : | Вопросы атомной науки и техники |
|---|---|
| Дата: | 2017 |
| Автори: | , , , , , |
| Формат: | Стаття |
| Мова: | Англійська |
| Опубліковано: |
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
2017
|
| Теми: | |
| Онлайн доступ: | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/122175 |
| Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
| Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Цитувати: | Effect of substrate bias voltage parameters on surface properties of ta-C coatings / V. Safonov, K. Miroshnichenko, A. Zykova, V. Zavaleyev, J. Walkowicz, R. Rogowska // Вопросы атомной науки и техники. — 2017. — № 1. — С. 199-202. — Бібліогр.: 12 назв. — англ. |
Репозитарії
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine| _version_ | 1862530991441051648 |
|---|---|
| author | Safonov, V. Miroshnichenko, K. Zykova, A. Zavaleyev, V. Walkowicz, J. Rogowska, R. |
| author_facet | Safonov, V. Miroshnichenko, K. Zykova, A. Zavaleyev, V. Walkowicz, J. Rogowska, R. |
| citation_txt | Effect of substrate bias voltage parameters on surface properties of ta-C coatings / V. Safonov, K. Miroshnichenko, A. Zykova, V. Zavaleyev, J. Walkowicz, R. Rogowska // Вопросы атомной науки и техники. — 2017. — № 1. — С. 199-202. — Бібліогр.: 12 назв. — англ. |
| collection | DSpace DC |
| container_title | Вопросы атомной науки и техники |
| description | The study presents the technology of the formation of amorphous ta-C films, deposited by pulsed vacuum-arc method with the use of a water-cooled electromagnetic Venetian blind plasma filter. The effect of the substrate bias voltage, in the range of -25 to -200 V, on the structural and surface properties of ta-C coatings was analyzed. The strong correlation between surface properties of amorphous ta-C films depending on substrate bias voltage variations and characteristic changes in the content of the diamond-like sp³ fraction was observed.
Представлена технология формирования аморфных покрытий ta-C, нанесенных импульсным вакуумно-дуговым методом с использованием охлаждаемого электромагнитного фильтра плазмы. Проанализирован эффект изменения смещения потенциала подложки в диапазоне значений от -25 до -200 В и его влияние на структурные и поверхностные свойства покрытий ta-C. Обнаружена корреляция между поверхностными свойствами аморфных покрытий ta-C и изменениями в содержании sp³-фазы в зависимости от изменения потенциала подложки.
Наведена технологія формування аморфних покриттів ta-C, нанесених імпульсним вакуум-дуговим методом з використанням охлаждаемого електромагнітного фільтра плазми. В роботі був проаналізований ефект зміни зміщення потенціалу підкладки в діапазоні значень від -25 до -200 В і його вплив на структурні і поверхневі властивості покриттів of ta-C. Була виявлена кореляція між поверхневими властивостями аморфних покриттів ta-C і змінами в змісті sp³ фази в залежності від зміни потенціалу підкладки.
|
| first_indexed | 2025-11-24T04:22:37Z |
| format | Article |
| fulltext | |
| id | nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-122175 |
| institution | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| issn | 1562-6016 |
| language | English |
| last_indexed | 2025-11-24T04:22:37Z |
| publishDate | 2017 |
| publisher | Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України |
| record_format | dspace |
| spelling | Safonov, V. Miroshnichenko, K. Zykova, A. Zavaleyev, V. Walkowicz, J. Rogowska, R. 2017-06-28T05:57:32Z 2017-06-28T05:57:32Z 2017 Effect of substrate bias voltage parameters on surface properties of ta-C coatings / V. Safonov, K. Miroshnichenko, A. Zykova, V. Zavaleyev, J. Walkowicz, R. Rogowska // Вопросы атомной науки и техники. — 2017. — № 1. — С. 199-202. — Бібліогр.: 12 назв. — англ. 1562-6016 PACS: 68.55 https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/122175 The study presents the technology of the formation of amorphous ta-C films, deposited by pulsed vacuum-arc method with the use of a water-cooled electromagnetic Venetian blind plasma filter. The effect of the substrate bias voltage, in the range of -25 to -200 V, on the structural and surface properties of ta-C coatings was analyzed. The strong correlation between surface properties of amorphous ta-C films depending on substrate bias voltage variations and characteristic changes in the content of the diamond-like sp³ fraction was observed. Представлена технология формирования аморфных покрытий ta-C, нанесенных импульсным вакуумно-дуговым методом с использованием охлаждаемого электромагнитного фильтра плазмы. Проанализирован эффект изменения смещения потенциала подложки в диапазоне значений от -25 до -200 В и его влияние на структурные и поверхностные свойства покрытий ta-C. Обнаружена корреляция между поверхностными свойствами аморфных покрытий ta-C и изменениями в содержании sp³-фазы в зависимости от изменения потенциала подложки. Наведена технологія формування аморфних покриттів ta-C, нанесених імпульсним вакуум-дуговим методом з використанням охлаждаемого електромагнітного фільтра плазми. В роботі був проаналізований ефект зміни зміщення потенціалу підкладки в діапазоні значень від -25 до -200 В і його вплив на структурні і поверхневі властивості покриттів of ta-C. Була виявлена кореляція між поверхневими властивостями аморфних покриттів ta-C і змінами в змісті sp³ фази в залежності від зміни потенціалу підкладки. The study was supported by the project IMBeingFP7-PEOPLE-2013-IRSES-612593 within the 7th FP of the European Commission and National Science Centre of Poland within the research project funded on the basis of the decision No DEC-2013/09/N/ST8/04363. en Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України Вопросы атомной науки и техники Низкотемпературная плазма и плазменные технологии Effect of substrate bias voltage parameters on surface properties of ta-C coatings Эффект параметров смещения потенциала подложки на поверхностные свойства покрытий ta-C Ефект параметрів потенціалу зміщення підкладки на поверхневі властивості покриттів ta-C Article published earlier |
| spellingShingle | Effect of substrate bias voltage parameters on surface properties of ta-C coatings Safonov, V. Miroshnichenko, K. Zykova, A. Zavaleyev, V. Walkowicz, J. Rogowska, R. Низкотемпературная плазма и плазменные технологии |
| title | Effect of substrate bias voltage parameters on surface properties of ta-C coatings |
| title_alt | Эффект параметров смещения потенциала подложки на поверхностные свойства покрытий ta-C Ефект параметрів потенціалу зміщення підкладки на поверхневі властивості покриттів ta-C |
| title_full | Effect of substrate bias voltage parameters on surface properties of ta-C coatings |
| title_fullStr | Effect of substrate bias voltage parameters on surface properties of ta-C coatings |
| title_full_unstemmed | Effect of substrate bias voltage parameters on surface properties of ta-C coatings |
| title_short | Effect of substrate bias voltage parameters on surface properties of ta-C coatings |
| title_sort | effect of substrate bias voltage parameters on surface properties of ta-c coatings |
| topic | Низкотемпературная плазма и плазменные технологии |
| topic_facet | Низкотемпературная плазма и плазменные технологии |
| url | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/122175 |
| work_keys_str_mv | AT safonovv effectofsubstratebiasvoltageparametersonsurfacepropertiesoftaccoatings AT miroshnichenkok effectofsubstratebiasvoltageparametersonsurfacepropertiesoftaccoatings AT zykovaa effectofsubstratebiasvoltageparametersonsurfacepropertiesoftaccoatings AT zavaleyevv effectofsubstratebiasvoltageparametersonsurfacepropertiesoftaccoatings AT walkowiczj effectofsubstratebiasvoltageparametersonsurfacepropertiesoftaccoatings AT rogowskar effectofsubstratebiasvoltageparametersonsurfacepropertiesoftaccoatings AT safonovv éffektparametrovsmeŝeniâpotencialapodložkinapoverhnostnyesvoistvapokrytiitac AT miroshnichenkok éffektparametrovsmeŝeniâpotencialapodložkinapoverhnostnyesvoistvapokrytiitac AT zykovaa éffektparametrovsmeŝeniâpotencialapodložkinapoverhnostnyesvoistvapokrytiitac AT zavaleyevv éffektparametrovsmeŝeniâpotencialapodložkinapoverhnostnyesvoistvapokrytiitac AT walkowiczj éffektparametrovsmeŝeniâpotencialapodložkinapoverhnostnyesvoistvapokrytiitac AT rogowskar éffektparametrovsmeŝeniâpotencialapodložkinapoverhnostnyesvoistvapokrytiitac AT safonovv efektparametrívpotencíaluzmíŝennâpídkladkinapoverhnevívlastivostípokrittívtac AT miroshnichenkok efektparametrívpotencíaluzmíŝennâpídkladkinapoverhnevívlastivostípokrittívtac AT zykovaa efektparametrívpotencíaluzmíŝennâpídkladkinapoverhnevívlastivostípokrittívtac AT zavaleyevv efektparametrívpotencíaluzmíŝennâpídkladkinapoverhnevívlastivostípokrittívtac AT walkowiczj efektparametrívpotencíaluzmíŝennâpídkladkinapoverhnevívlastivostípokrittívtac AT rogowskar efektparametrívpotencíaluzmíŝennâpídkladkinapoverhnevívlastivostípokrittívtac |