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Effect of substrate bias voltage parameters on surface properties of ta-C coatings

The study presents the technology of the formation of amorphous ta-C films, deposited by pulsed vacuum-arc method with the use of a water-cooled electromagnetic Venetian blind plasma filter. The effect of the substrate bias voltage, in the range of -25 to -200 V, on the structural and surface proper...

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Veröffentlicht in:	Вопросы атомной науки и техники
Datum:	2017
Hauptverfasser:	Safonov, V., Miroshnichenko, K., Zykova, A., Zavaleyev, V., Walkowicz, J., Rogowska, R.
Format:	Artikel
Sprache:	Englisch
Veröffentlicht:	Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України 2017
Schlagworte:	Низкотемпературная плазма и плазменные технологии
Online Zugang:	https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/122175
Tags:	Tag hinzufügen Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
Назва журналу:	Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Zitieren:	Effect of substrate bias voltage parameters on surface properties of ta-C coatings / V. Safonov, K. Miroshnichenko, A. Zykova, V. Zavaleyev, J. Walkowicz, R. Rogowska // Вопросы атомной науки и техники. — 2017. — № 1. — С. 199-202. — Бібліогр.: 12 назв. — англ.

Institution

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine

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