Зображення обкладинки

Some aspects of deposition of conductive, dielectric and protective coatings on insulators with using arc discharge dc and RF bias

Investigation results for technological process of low temperature plasma deposition of functional coverings for dielectric substrate at low temperatures (50…250 oC) are shown. Combined high frequency and arc plasma sources were used to provide high deposition rate and an opportunity to operate with...

Повний опис

Збережено в:
Бібліографічні деталі
Опубліковано в: :Вопросы атомной науки и техники
Дата:2017
Автори: Taran, V.S., Muratov, R.M., Nezovibat'ko, Y.N., Leonovych, A.V., Sergiiets, M.A.
Формат: Стаття
Мова:Англійська
Опубліковано: Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України 2017
Теми:
Диагностика плазмы
Онлайн доступ:https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/122183
Теги: Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
Назва журналу:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Цитувати:Some aspects of deposition of conductive, dielectric and protective coatings on insulators with using arc discharge dc and RF bias / V.S. Taran, R.M. Muratov, Y.N. Nezovibat'ko, A.V. Leonovych, M.A. Sergiiets // Вопросы атомной науки и техники. — 2017. — № 1. — С. 265-268. — Бібліогр.: 4 назв. — англ.

Репозитарії

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine

Схожі ресурси

Схожі ресурси