Рост, структура и оптические свойства многослойных рентгеновских зеркал W/Mg₂Si
Электронно-микроскопическими и рентгенодифракционными методами исследована структура многослойных рентгеновских зеркал (МРЗ) W/Mg₂Si. Показано, что в процессе изготовления МРЗ W/Mg₂Si наблюдается межслоевое взаимодействие, в результате которого формируется перемешанная зона на границе Mg₂Si-W из сил...
Saved in:
| Date: | 2017 |
|---|---|
| Main Authors: | , , , , , |
| Format: | Article |
| Language: | Russian |
| Published: |
Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України
2017
|
| Series: | Журнал физики и инженерии поверхности |
| Online Access: | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/122605 |
| Tags: |
Add Tag
No Tags, Be the first to tag this record!
|
| Journal Title: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Cite this: | Рост, структура и оптические свойства многослойных рентгеновских зеркал W/Mg₂Si / Л.Е. Конотопский, И.А. Копылец, В.А. Севрюкова, Е.Н. Зубарев, В.В. Мамон, В.В. Кондратенко // Журнал физики и инженерии поверхности. — 2017. — Т. 2, № 1. — С. 20-28. — Бібліогр.: 18 назв. — рос. |
Institution
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine| id |
nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-122605 |
|---|---|
| record_format |
dspace |
| spelling |
nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-1226052025-02-09T09:33:30Z Рост, структура и оптические свойства многослойных рентгеновских зеркал W/Mg₂Si Ріст, структура та оптичні властивості багатошарових рентгенівських дзеркал W/Mg₂Si Growth, structure and optical features of W/Mg₂Si multilayer X-ray mirrors Конотопский, Л.Е. Копылец, И.А. Севрюкова, В.А. Зубарев, Е.Н. Мамон, В.В. Кондратенко, В.В. Электронно-микроскопическими и рентгенодифракционными методами исследована структура многослойных рентгеновских зеркал (МРЗ) W/Mg₂Si. Показано, что в процессе изготовления МРЗ W/Mg₂Si наблюдается межслоевое взаимодействие, в результате которого формируется перемешанная зона на границе Mg₂Si-W из силицида вольфрама. Установлено, что состав перемешанной зоны зависит от толщины слоев, составляющих период рентгеновского зеркала. В МРЗ W/Mg₂Si с периодом 3,1 нм формируется перемешанная зона силицида вольфрама с преимущественным содержанием вольфрама: W₃Si и/или W₅Si₃. В МРЗ с периодом 14,2 нм состав перемешанной зоны близок к WSi₂. Плотности перемешанных зон в МРЗ W/Mg₂Si с периодами 3,1 нм и 14,2 нм составляют 16,1 г/см³ и 8,2 г/см³ соответственно. Проведена оценка оптических свойств МРЗ W/Mg₂Si. Показано, что на длине волны 9,89 нм отражательная способность неоптимизированного по конструкции МРЗ W/Mg₂Si находится на уровне с оптимизированным МРЗ W/B₄C. Електронно-мікроскопічними та рентгенодифракційними методами досліджено структуру багатошарових рентгенівських дзеркал (БРД) W/Mg₂Si. Показано, що підчас виготовлення БРД W/Mg₂Si спостерігається міжшарова взаємодія, в результаті якої формується змішана зона на границі Mg₂Si-W з силіциду вольфраму. Встановлено, що склад змішаних зон залежить від товщини шарів, що складають період рентгенівського дзеркала. У БРД W/Mg₂Si з періодом 3,1 нм формується змішана зона силіциду вольфраму з переважним вмістом кремнію: W₃Si та/або W₅Si₃. У БРД з періодом 14,2 нм склад змішаної зони близький до WSi₂. Щільність змішаних зон у БРД W/Mg₂Si з періодами 3,1 нм та 14,2 нм складає 16,1 г/см³ та 8,2 г/см³ відповідно. Оцінені оптичні властивості БРД W/Mg₂Si. Показано, що на довжині хвилі 9,89 нм відбивна здатність не оптимізованого по конструкції БРД W/Mg₂Si знаходиться на рівні з оптимізованим БРД W/B₄C. Transmission electron microscopy and low-angle X-ray diffraction methods are used for investigations of W/Mg₂Si multilayers structure. It is shown that due to interlayer interaction mixed zones of tungsten silicide are formed on the Mg₂Si-W interface during deposition of W/Mg₂Si multilayers. It is found that the composition of the mixed zones depends on thickness of the layers in X-ray mirror. In the W/Mg₂Si multilayers with period of 3.1 nm the intermixed zones of tungsten silicide with the predominant content of tungsten namely W₃Si and/or W₅Si₃, can be formed. In the multilayers with a period of 14.2 nm the composition of mixed zones is close to WSi₂. Densities of mixed zones in multilayers with periods of 3.1 nm and 14.2 nm are 16.1 g/cm³ and 8.2 g/cm³ respectively. It is shown that reflectivity of the non-optimized in construction W/Mg₂Si multilayer at wavelength of 9.89 nm is close to that of optimized W/B₄C multilayer. 2017 Article Рост, структура и оптические свойства многослойных рентгеновских зеркал W/Mg₂Si / Л.Е. Конотопский, И.А. Копылец, В.А. Севрюкова, Е.Н. Зубарев, В.В. Мамон, В.В. Кондратенко // Журнал физики и инженерии поверхности. — 2017. — Т. 2, № 1. — С. 20-28. — Бібліогр.: 18 назв. — рос. 2519-2485 PACS: 07.85.Fv, 61.05.cm, 61.05.cf, 68.37.Og, 68.65.Ac https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/122605 539.216.2 ru Журнал физики и инженерии поверхности application/pdf Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України |
| institution |
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| collection |
DSpace DC |
| language |
Russian |
| description |
Электронно-микроскопическими и рентгенодифракционными методами исследована структура многослойных рентгеновских зеркал (МРЗ) W/Mg₂Si. Показано, что в процессе изготовления МРЗ W/Mg₂Si наблюдается межслоевое взаимодействие, в результате которого формируется перемешанная зона на границе Mg₂Si-W из силицида вольфрама. Установлено, что состав перемешанной зоны зависит от толщины слоев, составляющих период рентгеновского зеркала. В МРЗ W/Mg₂Si с периодом 3,1 нм формируется перемешанная зона силицида вольфрама с преимущественным содержанием вольфрама: W₃Si и/или W₅Si₃. В МРЗ с периодом 14,2 нм состав перемешанной зоны близок к WSi₂. Плотности перемешанных зон в МРЗ W/Mg₂Si с периодами 3,1 нм и 14,2 нм составляют 16,1 г/см³ и 8,2 г/см³ соответственно. Проведена оценка оптических свойств МРЗ W/Mg₂Si. Показано, что на длине волны 9,89 нм отражательная способность неоптимизированного по конструкции МРЗ W/Mg₂Si находится на уровне с оптимизированным МРЗ W/B₄C. |
| format |
Article |
| author |
Конотопский, Л.Е. Копылец, И.А. Севрюкова, В.А. Зубарев, Е.Н. Мамон, В.В. Кондратенко, В.В. |
| spellingShingle |
Конотопский, Л.Е. Копылец, И.А. Севрюкова, В.А. Зубарев, Е.Н. Мамон, В.В. Кондратенко, В.В. Рост, структура и оптические свойства многослойных рентгеновских зеркал W/Mg₂Si Журнал физики и инженерии поверхности |
| author_facet |
Конотопский, Л.Е. Копылец, И.А. Севрюкова, В.А. Зубарев, Е.Н. Мамон, В.В. Кондратенко, В.В. |
| author_sort |
Конотопский, Л.Е. |
| title |
Рост, структура и оптические свойства многослойных рентгеновских зеркал W/Mg₂Si |
| title_short |
Рост, структура и оптические свойства многослойных рентгеновских зеркал W/Mg₂Si |
| title_full |
Рост, структура и оптические свойства многослойных рентгеновских зеркал W/Mg₂Si |
| title_fullStr |
Рост, структура и оптические свойства многослойных рентгеновских зеркал W/Mg₂Si |
| title_full_unstemmed |
Рост, структура и оптические свойства многослойных рентгеновских зеркал W/Mg₂Si |
| title_sort |
рост, структура и оптические свойства многослойных рентгеновских зеркал w/mg₂si |
| publisher |
Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України |
| publishDate |
2017 |
| url |
https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/122605 |
| citation_txt |
Рост, структура и оптические свойства многослойных рентгеновских зеркал W/Mg₂Si / Л.Е. Конотопский, И.А. Копылец, В.А. Севрюкова, Е.Н. Зубарев, В.В. Мамон, В.В. Кондратенко // Журнал физики и инженерии поверхности. — 2017. — Т. 2, № 1. — С. 20-28. — Бібліогр.: 18 назв. — рос. |
| series |
Журнал физики и инженерии поверхности |
| work_keys_str_mv |
AT konotopskijle roststrukturaioptičeskiesvojstvamnogoslojnyhrentgenovskihzerkalwmg2si AT kopylecia roststrukturaioptičeskiesvojstvamnogoslojnyhrentgenovskihzerkalwmg2si AT sevrûkovava roststrukturaioptičeskiesvojstvamnogoslojnyhrentgenovskihzerkalwmg2si AT zubareven roststrukturaioptičeskiesvojstvamnogoslojnyhrentgenovskihzerkalwmg2si AT mamonvv roststrukturaioptičeskiesvojstvamnogoslojnyhrentgenovskihzerkalwmg2si AT kondratenkovv roststrukturaioptičeskiesvojstvamnogoslojnyhrentgenovskihzerkalwmg2si AT konotopskijle ríststrukturataoptičnívlastivostíbagatošarovihrentgenívsʹkihdzerkalwmg2si AT kopylecia ríststrukturataoptičnívlastivostíbagatošarovihrentgenívsʹkihdzerkalwmg2si AT sevrûkovava ríststrukturataoptičnívlastivostíbagatošarovihrentgenívsʹkihdzerkalwmg2si AT zubareven ríststrukturataoptičnívlastivostíbagatošarovihrentgenívsʹkihdzerkalwmg2si AT mamonvv ríststrukturataoptičnívlastivostíbagatošarovihrentgenívsʹkihdzerkalwmg2si AT kondratenkovv ríststrukturataoptičnívlastivostíbagatošarovihrentgenívsʹkihdzerkalwmg2si AT konotopskijle growthstructureandopticalfeaturesofwmg2simultilayerxraymirrors AT kopylecia growthstructureandopticalfeaturesofwmg2simultilayerxraymirrors AT sevrûkovava growthstructureandopticalfeaturesofwmg2simultilayerxraymirrors AT zubareven growthstructureandopticalfeaturesofwmg2simultilayerxraymirrors AT mamonvv growthstructureandopticalfeaturesofwmg2simultilayerxraymirrors AT kondratenkovv growthstructureandopticalfeaturesofwmg2simultilayerxraymirrors |
| first_indexed |
2025-11-25T06:45:28Z |
| last_indexed |
2025-11-25T06:45:28Z |
| _version_ |
1849743776798474240 |
| fulltext |
20
Журнал фізики та інженерії поверхні, 2017, том 2, № 1, сс. 20–28; Журнал физики и инженерии поверхности, 2017, том 2, № 1, сс. 20–28;
Journal of Surface Physics and Engineering, 2017, vol. 2, No. 1, pp. 20–28
© Конотопский Л. Е., Копылец И. А., Севрюкова В. А., Зубарев Е. Н.,
Мамон В. В., Кондратенко В. В., 2017
УДК 539.216.2 PACS: 07.85.Fv, 61.05.cm, 61.05.cf, 68.37.Og, 68.65.Ac
РОСТ, СТРУКТУРА И ОПТИЧЕСКИЕ СВОЙСТВА
МНОГОСЛОЙНЫХ РЕНТГЕНОВСКИХ ЗЕРКАЛ W/MG2Si
Л. Е. Конотопский, И. А. Копылец, В. А. Севрюкова, Е. Н. Зубарев,
В. В. Мамон, В. В. Кондратенко
Национальный технический университет «Харьковский политехнический институт»,
г. Харьков, Украина
Поступила в редакцию 16.03.2017
Электронно-микроскопическими и рентгенодифракционными методами исследована структура
многослойных рентгеновских зеркал (МРЗ) W/Mg2Si. Показано, что в процессе изготовления МРЗ
W/Mg2Si наблюдается межслоевое взаимодействие, в результате которого формируется переме-
шанная зона на границе Mg2Si-W из силицида вольфрама. Установлено, что состав перемешанной
зоны зависит от толщины слоев, составляющих период рентгеновского зеркала. В МРЗ W/Mg2Si
с периодом 3,1 нм формируется перемешанная зона силицида вольфрама с преимущественным
содержанием вольфрама: W3Si и/или W5Si3. В МРЗ с периодом 14,2 нм состав перемешанной зоны
близок к WSi2. Плотности перемешанных зон в МРЗ W/Mg2Si с периодами 3,1 нм и 14,2 нм со-
ставляют 16,1 г/см3 и 8,2 г/см3 соответственно. Проведена оценка оптических свойств МРЗ W/
Mg2Si. Показано, что на длине волны 9,89 нм отражательная способность неоптимизированного
по конструкции МРЗ W/Mg2Si находится на уровне с оптимизированным МРЗ W/B4C.
Ключевые слова: рентгеновская дифрактометрия, многослойное рентгеновское зеркало, маг-
нетронное распыление, силицид магния, вольфрам.
РІСТ, СТРУКТУРА ТА ОПТИЧНІ ВЛАСТИВОСТІ
БАГАТОШАРОВИХ РЕНТГЕНІВСЬКИХ ДЗЕРКАЛ W/MG2Si
Л. Є Конотопський, І. А. Копилець, В. А. Севрюкова, Є. М. Зубарєв,
В. В. Мамон, В. В. Кондратенко
Електронно-мікроскопічними та рентгенодифракційними методами досліджено структуру бага-
тошарових рентгенівських дзеркал (БРД) W/Mg2Si. Показано, що підчас виготовлення БРД W/
Mg2Si спостерігається міжшарова взаємодія, в результаті якої формується змішана зона на границі
Mg2Si-W з силіциду вольфраму. Встановлено, що склад змішаних зон залежить від товщини шарів,
що складають період рентгенівського дзеркала. У БРД W/Mg2Si з періодом 3,1 нм формується
змішана зона силіциду вольфраму з переважним вмістом кремнію: W3Si та/або W5Si3. У БРД
з періодом 14,2 нм склад змішаної зони близький до WSi2. Щільність змішаних зон у БРД W/Mg2Si
з періодами 3,1 нм та 14,2 нм складає 16,1 г/см3 та 8,2 г/см3 відповідно. Оцінені оптичні властивості
БРД W/Mg2Si. Показано, що на довжині хвилі 9,89 нм відбивна здатність не оптимізованого по
конструкції БРД W/Mg2Si знаходиться на рівні з оптимізованим БРД W/B4C.
Ключові слова: рентгенівська дифрактометрія, багатошарове рентгенівське дзеркало, магне-
тронне розпилення, силіцид магнію, вольфрам.
GROWTH, STRUCTURE AND OPTICAL FEATURES OF
W/MG2Si MULTILAYER X-RAY MIRRORS
L. E. Konotopskyi, I. A. Kopylets, V. A. Sevrykova, E. N. Zubarev,
V. V. Mamon, V. V. Kondratenko
Transmission electron microscopy and low-angle X-ray diffraction methods are used for investigations
of W/Mg2Si multilayers structure. It is shown that due to interlayer interaction mixed zones of
tungsten silicide are formed on the Mg2Si-W interface during deposition of W/Mg2Si multilayers. It
is found that the composition of the mixed zones depends on thickness of the layers in X-ray mirror.
In the W/Mg2Si multilayers with period of 3.1 nm the intermixed zones of tungsten silicide with the
predominant content of tungsten namely W3Si and/or W5Si3, can be formed. In the multilayers with
a period of 14.2 nm the composition of mixed zones is close to WSi2. Densities of mixed zones in
multilayers with periods of 3.1 nm and 14.2 nm are 16.1 g/cm3 and 8.2 g/cm3 respectively. It is shown
that reflectivity of the non-optimized in construction W/Mg2Si multilayer at wavelength of 9.89 nm
is close to that of optimized W/B4C multilayer.
Keywords: X-ray diffraction, multilayer X-Ray mirror, DC magnetron sputtering, magnesium
silicide, tungsten.
Л. Е. КОНОТОПСКИЙ, И. А. КОПЫЛЕЦ, В. А. СЕВРЮКОВА, Е. Н. ЗУБАРЕВ, В. В. МАМОН, В. В. КОНДРАТЕНКО
21ЖФІП ЖФИП JSPE, 2017, т. 2, № 1, vol. 2, No. 1
ВВЕДЕНИЕ
Развитие технологий нанесения пленочных
покрытий позволило изготавливать мно-
го слойные периодические композиции
с нанометровыми толщинами слоев. Мно-
гослойные рентгеновские зеркала являются
разновидностью таких покрытий [1]. Они
представляют собой искусственные крис-
таллы, в которых в одном направлении
реализовано периодическое чередование
слоев двух материалов, соотношение оп-
тических констант которых обеспечивает
максимальный коэффициент отражения
зер кала. МРЗ широко используются для
управления рентгеновским излучением в диа-
пазоне длин волн 0,5–50 нм в различных
областях науки и техники, среди которых
рентгеновская астрофизика и рентгеновский
спектральный анализ.
Особый интерес для двух указанных выше
областей применения МРЗ представляет
часть спектра 0,9–2,5 нм. Данный участок
электромагнитного спектра содержит ха-
рактеристические линии таких элементов,
как Mg, Na, F, O (Mg-kα = 0,989 нм, Na-kα =
1,191 нм, F-kα = 1,832 нм, O-kα = 2,362 нм) [2].
Контроль содержания указанных элементов
в сталях, алюминиевых и магниевых сплавах
является важным как для металлургии, так
и для других отраслей промышленности.
В рентгеновской астрофизике в указанном
участке спектра планируются исследования
черных дыр, нейтронных звезд, наблюдение
гамма-всплесков [3].
В рентгеновских спектрометрах с волно-
вой дисперсией традиционно для указанного
диапазона длин волн используются МРЗ W/
Si и W/B4C. Улучшение оптических харак-
теристик данных рентгеновских зеркал по-
зволит увеличить чувствительность прибора,
а также уменьшить время экспозиции при
анализе исследуемых образцов. Поэтому
существует целый ряд работ [4, 5, 6],
посвященных совершенствованию методов
изготовления рентгеновских зеркал W/Si
и W/B4C для повышения их коэффициента
отражения. Тем не менее, отражательная спо-
собность МРЗ W/Si и W/B4C даже в случае
отсутствия «дефектов» конструкции ограни-
чена оптическими константами слабо погло-
щающих слоев Si и B4C [7]. Поэтому поиск
новых пар материалов является актуальной
задачей.
По оптическим характеристикам на-
иболее перспективным в рассматриваемой
части рентгеновского спектра слабопогло-
щающим материалом является Mg. Од-
нако низкая температура плавления Mg
ограничивает возможность выращивания
короткопериодных зеркал на его основе. В
работе [8] указывается, что методом магне-
тронного распыления не удается вырастить
на основе магния (W/Mg) зеркала с перио-
дом меньше 4 нм. При этом типичное значе-
ние периода зеркала при его использовании
в рентгеновских спектрометрах с волновой
дисперсией составляет примерно 3 нм.
Для решения проблемы создания
короткопериодных зеркал на основе магния
целесообразно перейти к более тугоплавким
материалам, например, силициду магния
Mg2Si. Силицид магния имеет близкие к Mg
оптические константы, что делает данный
материал перспективным для изготовления
МРЗ на его основе. При этом открывается
возможность выращивать сплошные слабо
поглощающие слои в отличие от Mg при
меньших толщинах. Однако это предпо-
ложение нуждается в экспериментальном
подтверждении.
Вторым материалом в зеркале целе-
сообразно использовать W, как и в слу-
чае зеркал W/Si и W/B4C. На длине волны
Mg-kα = 0,989 нм при угле падения 9° те-
оретически рассчитанный коэффициент
отражения идеального МРЗ W/Mg2Si
выше, чем у МРЗ W/Si(RW/Si = 54,3 %)
и W/B4C(RW/B4C = 52,1 %) и составляет 59,2 %.
Необходимо отметить, что в МРЗ W/Si и W/
B4C в результате межслоевого взаимодей-
ствия формируются перемешанные зоны
[9, 10, 11], которые приводят к снижению
коэффициента отражения. В этой связи необ-
ходимо знать реальную структуру МРЗ W/
Mg2Si. Это позволит предложить оптималь-
ную конструкцию зеркала и оценить его
оптические характеристики.
Ранее рентгеновские зеркала W/Mg2Si
исследовались в работе [12]. Было пока-
зано, что в процессе осаждения много-
слойной композиции W/Mg2Si с периодом
8 нм наблюдается взаимодействие W с Si.
РОСТ, СТРУКТУРА И ОПТИЧЕСКИЕ СВОЙСТВА МНОГОСЛОЙНЫХ РЕНТГЕНОВСКИХ ЗЕРКАЛ W/MG2Si
22 ЖФІП ЖФИП JSPE, 2017, т. 2, № 1, vol. 2, No. 1
В результате формируются перемешанные
зоны на границах W-Mg2Si и Mg2Si-W. Ме-
тодом эллипсометрии было установлено,
что толщина зоны, которая формируется на
границе Mg2Si-W, составляет 2 нм, толщина
второй зоны — 0,5 нм. Вместе с тем остались
невыясненными такие важные параметры
для оптимизации конструкции зеркал и по-
следующей их эксплуатации как плотность
перемешанных зон, влияние толщин слоев
W и Mg2Si на эволюцию зон. Кроме того
остается открытым вопрос о возможности
выращивания МРЗ W/Mg2Si с периодом 3 нм.
В этой связи, целью данной работы было
исследование особенностей формирования
перемешанных зон в короткопериодных МРЗ
W/Mg2Si в исходном состоянии, оценка отра-
жательной способности зеркал с учетом их
реальной структуры и сравнение оптических
характеристик данного рентгеновского зерка-
ла с МРЗ W/B4C в Mg-Kα и Na-Kα излучении.
МЕТОДИКА
Образцы МРЗ W/Mg2Si на стеклянных
и монокристаллических кремниевых (111)
подложках были изготовлены методом
прямоточного магнетронного распыления
в среде аргона. МРЗ были осаждены с пе-
риодами (толщиной пары слоев) 3,1 нм
и 14,2 нм и количеством пар слоев 120 и 40
соответственно Вакуумная камера предва-
рительно прогревалась и откачивалась до
давления 10–4 Па. Давление аргона во время
осаждения составляло 0,3 Па. Подложка
перед осаждением очищалась пучком ионов
аргона. Толщина слоев контролировалась
путем задания скорости транспортировки
подложки над мишенями при стабилиза-
ции скоростей осаждения из мишеней W
и Mg2Si. В процессе нанесения многослой-
ного покрытия температура подложки не
превышала 50 °C.
Структура МРЗ W/Mg2Si исследовалась
с помощью просвечивающей электронной
микроскопии и рентгеновской дифракто-
метрии с последующим компьютерным
моделированием.
Для получения электронно-микро-
скопических изображений поперечных
срезов и картин электронной микродиф-
ракции использовался просвечивающий
электронный микроскоп ПЭМ-У. Величина
ускоряющего напряжения составляла 100 kV.
Съемка малоугловых рентгеновских диф-
рактограмм проводилась в θ/2θ геометрии на
дифрактометре ДРОН-3М в излучении Cu-
kα1. Монохроматизация первичного пучка
обеспечивалась кососрезанным кремниевым
(110) монохроматором. Моделирование
экспериментальных кривых проводилось
в программе X-Ray Calc [13].
РЕЗУЛЬТАТЫ И ИХ ОБСУЖДЕНИЕ
Малоугловая рентгеновская дифрактограм-
ма от МРЗ W/Mg2Si с периодом 3,1 нм в ис-
ходном состоянии (рис. 1) свидетельствует
о высоком уровне периодичности слоев.
Наличие дифракционных максимумов на
углах >14° указывает на низкий уровень
среднеквадратичной шероховатости границ
раздела слоев. Удовлетворительное совпа-
дение экспериментальной и расчетной ма-
лоугловой кривой рентгеновской дифракции
достигается при значении плотности слоев
W ~16,2 г/см3. Полученное значение плот-
ности слоев вольфрама значительно меньше
табличного значения для массивного W (ρ =
19,25 г/см3 [7]).
Принимая во внимание результаты работы
[2], мы считаем, что уменьшение плотности
сильно поглощающего слоя связано с форми-
рованием перемешанных зон в МРЗ W/Mg2Si
в результате взаимодействия W с Si (W с Mg
не взаимодействует [14]). Для того чтобы под-
твердить этот факт прямым методом, были
проведены электронно-микроскопические
исследования поперечных срезов МРЗ W/
Mg2Si.
10–1
10–3
I/I
10–5
10–7
0 2 4
2Θ, °
6 8 10 12 14
Рис. 1. Экспериментальная (–––) и теоретическая (----)
малоугловые рентгеновские дифрактограммы в излуче-
нии Cu-kα1 от МРЗ W/Mg2Si с периодом 3,1 нм
Л. Е. КОНОТОПСКИЙ, И. А. КОПЫЛЕЦ, В. А. СЕВРЮКОВА, Е. Н. ЗУБАРЕВ, В. В. МАМОН, В. В. КОНДРАТЕНКО
23ЖФІП ЖФИП JSPE, 2017, т. 2, № 1, vol. 2, No. 1
С о гл а с н о д а н н ы м э л е к т р о н н о -
микроскопического изображения попере-
чного среза МРЗ W/Mg2Si с периодом 3,1 нм
(рис. 2а) в исходном состоянии представля-
ет собой структуру периодически череду-
ющихся слоев двух материалов. Толщины
слоев, как следует из фотометрирования по-
перечного среза (рис. 2б), близки. Картина
электронной микродифракции (рис. 2в) сви-
детельствует о том, что слои силицида маг-
ния кристаллические. Необходимо отметить,
что силицид магния формируется в равновес-
ной кубической, а не гексагональной моди-
фикации, как наблюдалось в многослойной
системе Si/Mg2Si [15]. Это косвенно свиде-
тельствует об отсутствии механических на-
пряжений в МРЗ W/Mg2Si, достаточных для
формирования силицида магния в гексаго-
нальной модификации. Также на картине
электронной микродифракции присутствует
гало, соответствующее аморфным слоям вто-
рого материала. Положение гало находится
близко к положению рефлексов соответству-
ющих самым интенсивным линиям W, WSi2
и W5Si3 (dW(110) = 0,2238 нм, dWSi2(511) = 0,212 нм,
dW5Si3(411) = 0,2109 нм). Поэтому отнести гало
к чистому вольфраму или к его силицидам не
представляется возможным.
Таким образом, с помощью электронной
микроскопии поперечных срезов не удает-
ся визуализировать наличие перемешанных
зон в МРЗ W/Mg2Si с периодом 3,1 нм.
Объяснить их отсутствие на электронно-
микроскопическом изображении (рис. 2а)
можно исходя из предположения, что весь
материал одного из слоев, в данном случае
W, расходуется на формирование перемешан-
ной зоны. Для того чтобы проверить данное
предположение, было изготовлено зеркало
W/Mg2Si с большим периодом 14,2 нм и со-
ответственно большими толщинами состав-
ляющих слоев (tw= 5,8 нм, tMg2Si = 8,4 нм).
Электронно-микроскопическое изображе-
ние поперечного среза МРЗ W/Mg2Si с пери-
одом 14,2 нм (рис. 3а) свидетельствует о том,
что данное рентгеновское зеркало состоит
из трех чередующихся слоев. Перемешан-
ная зона формируется на границе Mg2Si-W.
Определить толщины слоев с высокой точ-
ностью в рентгеновском зеркале по данным
картины поперечного среза невозможно.
Тем не менее, фотометрирование позволя-
ет получить оценочные данные о толщинах
слоев. Согласно данным, полученным в ре-
зультате фотометрирования электронно-
микроскопического изображения (рис. 3б),
толщина зоны, которая формируется при
а
б
B
la
ck
en
in
g,
a
rb
. u
.
1,0
0,9
0,8
0,7
0,6
20
Image pixels
40 60 80 100 120 140
Mg2Si WxSiy
в
Mg2Si(422)
Mg2Si(400)
Mg2Si(220) a-WxSiy
Рис. 2. Электронно-микроскопическое изображение
поперечного среза W/Mg2Si в исходном состоянии,
подложка снизу — а. Распределение интенсивности
на изображении поперечного среза W/Mg2Si — б.
Картина электронной микродифракции от попереч-
ного среза W/Mg2Si в исходном состоянии — в
РОСТ, СТРУКТУРА И ОПТИЧЕСКИЕ СВОЙСТВА МНОГОСЛОЙНЫХ РЕНТГЕНОВСКИХ ЗЕРКАЛ W/MG2Si
24 ЖФІП ЖФИП JSPE, 2017, т. 2, № 1, vol. 2, No. 1
осаждении силицида магния на вольфрам,
составляет ~2,5 нм. Полученный результат
о формировании перемешанной зоны и ее
толщине согласуется с данными, которые по-
лучили авторы работы [12]. Однако в нашем
случае зона выявляется только на одной гра-
нице раздела слоев (Mg2Si-W). Перемешан-
ная зона на границе W-Mg2Si не выявляется.
Это может быть связано с тем, что зона имеет
такую плотность, которая не обеспечивает
абсорбционный контраст на электронно-
микроскопическом изображении. Кроме того,
выявление этой зоны осложняет ее малая
толщина (0,5 нм), как следует из работы [12].
Отсутствие на электронно-микро ско-
пическом изображении перемешанных зон
в МРЗ W/Mg2Si с периодом 3,1 нм обус-
ловлено тем, что большая часть слоя или
весь слой вольфрама провзаимодействовал
с кремнием. Поэтому мы считаем, что рентге-
новское зеркало W/Mg2Si с периодом 3,1 нм
представляет собой чередование слоев
Mg2Si и WxSiy.
Известно, что в системе W-Si могут фор-
мироваться следующие силициды: W5Si3,
WSi2 и метастабильный W3Si [16]. Мы про-
анализировали возможность формирования
каждого из этих силицидов на основании
моделирования экспериментального спек-
тра малоугловой рентгеновской дифрак-
ции от МРЗ W/Mg2Si с периодом 3,1 нм
и 14,2 нм. Моделирование выполнялось с уче-
том данных электронно-микроскопических
исследований поперечных срезов о соотно-
шении толщин слоев в периоде.
Для зеркал с периодом 3,1 нм хорошее
совпадение экспериментального и тео-
ретического спектров наблюдается и при
моделировании двухслойной моделью W3Si-
Mg2Si с плотностью перемешанной зоны ρ =
16 г/см3. В данном случае расчетное значение
плотности перемешанной зоны находится
ближе всего к значению плотности массив-
ного W3Si, которое приводится в литературе
ρлит.(W3Si) = 16,1 г/см3 [16].
При моделировании вольфрамсодержаще-
го слоя силицидом W5Si3 хорошее совпадение
расчетной и экспериментальной кривой для
короткопериодного зеркала достигается, если
предположить, что не весь слой вольфрама
провзаимодействовал с кремнием. В случае,
когда не провзаимодействовавшие слои воль-
фрама и силицида W5Si3 имеют табличные
плотности, толщина вольфрама составляет
0,6 нм. Если принять во внимание, что в пле-
ночном состоянии вольфрам имеет плотность
на 10 % меньше, то его толщина составит
0,8 нм.
Разделить варианты с образованием W5Si3
с не провзаимодействовавшим W и W3Si
с помощью моделирования не представляет-
ся возможным.
Моделирование экспериментального спек-
тра от МРЗ W/Mg2Si в рамках двухслойной
модели WSi2-Mg2Si не позволяет удовлетво-
рительно описать экспериментальную диф-
ракционную кривую.
Полученные результаты свидетельству-
ют о том, что имеющихся данных недо-
статочно, чтобы однозначно указать состав
W-содержащего слоя в МРЗ W/Mg2Si с перио-
дом 3,1 нм. Однако мы можем говорить о том,
а
б
B
la
ck
en
in
g,
a
. u
.
1,0
0,8
0,6
0,4
0,2
20
Image pixels
40 60 80 100 120 140 160
W
Mg2Si
W + Mg2Si
Рис. 3. Электронно-микроскопическое изображение
поперечного среза W/Mg2Si с периодом 14,2 нм в ис-
ходном состоянии, подложка снизу — а. Фотометри-
рование одного периода на изображении поперечно-
го среза W/Mg2Si — б
Л. Е. КОНОТОПСКИЙ, И. А. КОПЫЛЕЦ, В. А. СЕВРЮКОВА, Е. Н. ЗУБАРЕВ, В. В. МАМОН, В. В. КОНДРАТЕНКО
25ЖФІП ЖФИП JSPE, 2017, т. 2, № 1, vol. 2, No. 1
что его плотность составляет ~16 г/см3, что
меньше плотности вольфрама. Необходимо
отметить, что величина среднеквадратичной
шероховатости, с которой выполняется моде-
лирование, не превышает 0,3 нм.
Совпадение экспериментального и теоре-
тического спектров малоугловых рентгенов-
ских дифракций от МРЗ W/Mg2Si с периодом
14,2 нм (рис. 4б) достигается при значении
плотности перемешанной зоны 8,2 г/см3. По-
лученное значение плотности перемешанной
зоны находится ближе всего к плотности
WSi2 (ρ = 9,528 г/см3). В работе [9] авторы
показали, что в исходном состоянии все слои
составляющие МРЗ W/Si (а именно W, Si,
W5Si3 и WSi2) аморфные. Плотности слоев
отличаются от табличных значений на 7–9 %.
Полученное нами значение плотности пере-
мешанной зоны в МРЗ W/Mg2Si с периодом
14,2 нм меньше табличного значения плот-
ности массивного WSi2 на 14,4 %. Такое рас-
хождение может быть связано с тем, что при
моделировании трудно корректно учесть на-
личие свободного магния (см. ниже) в слабо-
поглощающем слое Mg2Si.
Таким образом, в системе W-Mg2Si форми-
руются перемешанные зоны, состав которых
зависит от толщин слоев в многослойном
покрытии. В МРЗ W/Mg2Si с периодом 3,1 нм
формируются перемешанные зоны, состав
которых близок к силицидам с минимальным
содержанием кремния: W5Si3 или W3Si. Это
обусловлено малой толщиной кремнийсо-
держащего слоя (tMg2Si = 1,51 нм), которая
сопоставима с толщиной W (tW = 1,5 нм).
При этом не весь кремний взаимодействует
с вольфрамом, о чем свидетельствует наличие
рефлексов силицида магния на электронной
микродифракционной картине от поперечно-
го среза (рис. 2в).
В МРЗ W/Mg2Si с периодом 14,2 нм тол-
щина слоя Mg2Si значительно превышает
толщину W (tw = 5,8 нм, tMg2Si= 8,4 нм). В этом
случае количество кремния не ограничивает
формирование силицида вольфрама, обога-
щенного Si, а именно WSi2. Этот силицид
имеет наибольшую отрицательную теплоту
образования среди всех возможных силици-
дов в данной композиции: ΔH298,15
0
(W5Si3) =
–9,3 ккал/ат. металла [17], ΔH298,15
0
(WSi2) =
–22,2 ккал/ат. металла [17], ΔH298,15
0
(Mg2Si) =
–5,07 ккал/ат. металла [18]. Таким образом,
формирование силицидов вольфрама вместо
силицида магния направленно на уменьше-
ние свободной энергии системы.
Формирование силицида вольфрама на
границе Mg2Si-W сопровождается обогаще-
нием слоя Mg2Si магнием. Хотя на микро-
дифракционной картине от МРЗ W/Mg2Si
в исходном состоянии магний не выявляется,
однако в результате отжига МРЗ W/Mg2Si при
Т = 400 °С на микродифракционной карти-
не появляется рефлекс, соответствующий
100 %-ой линии Mg (рис. 5).
Теоретически рассчитанная отражатель-
ная способность МРЗ W/Mg2Si с периодом
3,1 нм на длине волны Mg-kα = 0,989 нм,
которое исследовалось в данной работе,
с реальной структурой слоев составляет 30 %
(рис. 6). Это близко к расчетному значению
100
10–1
I/I
10–2
10–3
10–4
10–5
10–6
10–7
0 2 4 6 8 10
2Θ, °
12 14
а
б
100
10–1
10–2
Ι/Ι
10–3
10–4
10–5
10–6
10–7
0 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
2Θ, °
13 14
Рис. 4. Экспериментальные (–––) и теоретические
(-----) спектры малоугловых рентгеновских дифрак-
ций в излучении Cu-kα1 от МРЗ W/Mg2Si с периодами
3 нм — а и 14,2 нм — б
РОСТ, СТРУКТУРА И ОПТИЧЕСКИЕ СВОЙСТВА МНОГОСЛОЙНЫХ РЕНТГЕНОВСКИХ ЗЕРКАЛ W/MG2Si
26 ЖФІП ЖФИП JSPE, 2017, т. 2, № 1, vol. 2, No. 1
отражательной способности МРЗ W/B4C —
29 % (рис. 6). Расчет отражательной спо-
собности МРЗ W/B4C выполнялся с учетом
реальной структуры зеркала и оптимальным
соотношением толщин слоев. Данные для
расчета были взяты из работы [11]. Таким
образом, отражательная способность нео-
птимизированного МРЗ W/Mg2Si находится
на одном уровне с МРЗ W/B4C с оптимальной
конструкцией.
Эффективность МРЗ W/Mg2Si и W/B4C
с периодами ~3 нм была оценена на рент-
геновском спектральном приборе СПРУТ
[19]. Согласно проведенным измерениям
отражательная способность МРЗ W/Mg2Si
на длине волны Mg-kα = 0,989 нм находит-
ся на уровне с отражательной способностью
МРЗ W/B4C (рис. 7а). Необходимо отметить,
что полученные экспериментальные данные
по соотношению интенсивностей МРЗ W/
B4C и W/Mg2Si согласуются с теоретически
рассчитанными (рис. 6).
На большей длине волны, соответствую-
щей характеристическому излучению Na-kα =
1,191 нм, преимущество неоптимизированно-
го МРЗ W/Mg2Si над МРЗ W/B4C составляет
5 относительных процентов.
Необходимо отметить, что при изго-
товлении МРЗ W/Mg2Si формирование
перемешанных зон не учитывалось. Это по-
влияло на соотношение толщин слоев в МРЗ.
Изготовление рентгеновского зеркала W/
Mg2Si с оптимальным соотношением толщин
слоев, согласно теоретическому расчету, при-
ведет к повышению его отражательной спо-
собности на длине волны Mg-kα = 0,989 нм
на 10 % (рис. 6).
Mg2Si(422)
Mg2Si(220)
WxSiy
Mg(101)
Mg2Si(311)
Рис. 5. Электронная микродифракция от поперечного
среза МРЗ W/Mg2Si с периодом 3,1 нм отожженного при
Т = 400 °С
0,4
R
ef
le
ct
an
ce 0,3
0,2
0,1
0,0
8 9 10
Θ, °
11
Рис. 6. Теоретически рассчитанный коэффициент от-
ражения для МРЗ W/Mg2Si с периодом 3,1 нм с уче-
том формирования перемешанных зон и с оптималь-
ным соотношением толщин слоев (•••••).
Те оретический расчет коэффициента отражения для
МРЗ W/Mg2Si с периодом 3,1 нм, которое было ис-
следовано в данной работе (——). Теоретический
расчет коэффициента отражения для МРЗ W/B4C,
с которым проводилось сравнение (------)
7000
In
te
ns
ity
6000
5000
4000
3000
2000
1000
0
9,2
Θ, °
9,4 9,6 9,8 10,0 10,2 10,4
а
б
300
In
te
ns
ity
250
200
150
100
50
0
11,0 11,5
Θ, °
12,0 12,5 13,0
Рис. 7. Эффективность МРЗ W/Mg2Si (–––) в сравне-
нии с МРЗ W/B4C (----) в излучении Mg-Kα — а, Na-
Kα — б
Л. Е. КОНОТОПСКИЙ, И. А. КОПЫЛЕЦ, В. А. СЕВРЮКОВА, Е. Н. ЗУБАРЕВ, В. В. МАМОН, В. В. КОНДРАТЕНКО
27ЖФІП ЖФИП JSPE, 2017, т. 2, № 1, vol. 2, No. 1
ВЫВОДЫ
Проведенные исследования показали, что
метод магнетронного распыления обес-
печивает возможность выращивания
высокосовершенных МРЗ W/Mg2Si с пери-
одом ~3 нм, что подтверждается данными
малоугловой рентгеновской дифракции
и электронной микроскопии поперечных
срезов. Среднеквадратичная шероховатость
межслоевых границ раздела этих зеркал со-
ставляет ~0,3 нм, что вполне приемлемо для
зеркал с таким периодом.
Важной особенностью формирования МРЗ
W/Mg2Si является межслоевое взаимодействие
в процессе изготовления, в результате которого
в сильнопоглощающем слое образуется пере-
мешанная зона на границе Mg2Si-W из сили-
цида вольфрама, а слой Mg2Si обогащается
магнием. Состав и ширина перемешанной зоны
зависят от толщины слоев, составляющих пери-
од. Так, в исходном состоянии в МРЗ W/Mg2Si
с периодом 3,1 нм формируется перемешан-
ная зона, стехиометрический состав которой
близок к силицидам вольфрама с наименьшим
содержанием кремния: W3Si и/или W5Si3. При
увеличении периода МРЗ до 14,2 нм состав пе-
ремешанной зоны меняется и на межслоевых
границах формируется силицид вольфрама
с составом близким к WSi2. Моделирование
экспериментальных спектров малоугловых
рентгеновских дифракций свидетельствует
о том, что плотности перемешанных зон в МРЗ
W/Mg2Si с периодами 3,1 нм и 14,2 нм состав-
ляют 16,1 г/см3 и 8,2 г/см3 соответственно.
Переход от силицида магния к силициду воль-
фрама обусловлен стремлением системы к по-
нижению свободной энергии за счет усиления
межатомных связей у соединений с большей
отрицательной теплотой образования.
Показано, что отражательная способ ность
неоптимизированного МРЗ W/Mg2Si нахо-
дится на уровне с МРЗ W/B4C на длине волны
Mg-Kα = 9,89 нм. На длине волны Na-Kα =
1,191 нм преимущество неоптимизирован-
ного МРЗ W/Mg2Si над МРЗ W/B4C состав-
ляет 5 %. Согласно расчетам оптимизация
соотношения толщин слоев рентгеновского
зеркала W/Mg2Si с учетом формирования
перемешанных зон повысит его отражатель-
ную способность на 10 % на длине волны
9,89 нм.
Представленные результаты свидетель-
ствуют о перспективности использования
короткопериодных МРЗ W/Mg2Si в рентге-
носпектральном анализе для определения
таких элементов, как Mg, Na, F, O.
ЛИТЕРАТУРА
1. Spiller E. Low-Loss Reflection Coatings Us-
ing Absorbing Materials // Appl. Phys. Lett. —
1972. — Vol. 20, No. 9. — P. 365–367.
2. Блохин М. А., Швейцер И. Г. Рентгено-
спектральный справочник. — М.: «Наука»,
1982. — 376 c.
3. Yongwei Dong. The x-ray timing and polar-
ization satellite — 1, 2, 3: uncovering the
mysteries of black holes and extreme physics
in the universe // Proc. of SPIE. — 2014. —
Vol. 9144. — P. 91443O-1–91443O-7.
4. David L. Windt. Reduction of stress and rough-
ness by reactive sputtering in W/B4C X-ray
multilayer films // Proc. of SPIE. — 2007. —
Vol. 6688. — P. 66880R-1–66880R-10.
5. Kristin K. Madsen, Fiona A. Harrison, Peter H.
Mao, Finn E. Christensen, Carsten P. Jensen,
Nicolai Brejnholt, Jason Koglin, Michael J.
Pivovaroff Optimizations of Pt/SiC and W/
Si multilayers for the Nuclear Spectroscopic
Telescope Array // Proc. of SPIE. — 2009. —
Vol. 7437. — P. 743716-1–743716-11.
6. Michaelsen C., Ricardo P., Anders D. Improved
graded multilayer mirrors for XRD applications
// Adv. X-Ray Anal. — 2000. — Vol. 42. —
P. 308–320.
7. http://cxro.lbl.gov/
8. Platonov Y., Kazuaki Shimizu, Hiroshi Ko-
bayashi, Gary Fournier, Jim Rodriguez. Mg2Si-
based multilayer XRF analyzers with two- and
three-layer structure design // Adv. X-Ray
Anal. — 2009. — Vol. 52. — P. 129–134.
9. Першин Ю. П., Девизенко А. Ю., Ма-
мон В. В., Чумак В. С., Кондратенко В. В.
Структура, фазовый состав и модель роста
аморфных многослойных рентгеновских
зеркал W-Si, изготовленных методом магне-
тронного распыления // ЖФИП. — 2016. —
Т. 1, № 1. — С. 27–41.
10. Решетняк Е. Н., Малыхин С. В., Пер-
шин Ю. П., Пугачев А. Т. Рентгенографи-
ческий анализ периодических пленочных
композиций W/Si // Вопросы атомной науки
и техники. — 2003. — № 3. — С. 161–167.
РОСТ, СТРУКТУРА И ОПТИЧЕСКИЕ СВОЙСТВА МНОГОСЛОЙНЫХ РЕНТГЕНОВСКИХ ЗЕРКАЛ W/MG2Si
28 ЖФІП ЖФИП JSPE, 2017, т. 2, № 1, vol. 2, No. 1
11. Копылец И. А., Кондратенко В. В., Зуба-
рев Е. Н., Рощупкин Д. В. Особенности
формирования короткопериодных много-
слойных композиций W/B4C // ЖТФ. —
2012. — Т. 82, вып. 12. — С. 101–107.
12. Pierre Boher, Philippe Houdy, Kuhne M.,
Muller P., Barchewitz R., Delaboudiniere P.,
David Smith. Tungsten/Magnesium Silicide
Multilayers for Soft X-Ray Optics // J. X-ray
Sci. Technol. — 1992. — Vol. 3, No. 2. —
P. 118–132.
13. http://sci-progs.com/
14. Диаграммы состояния двойных метал-
лических систем. Справочник / Под ред.
Н. П. Лякишева. — М.: «Машиностроение»,
2001, Т. 3, Книга 1. — 872 с.
15. Конотопский Л. Е., Копылец И. А., Севрю-
кова В. А., Зубарев Е. Н., Кондратенко В. В.
Особенности роста наноразмерных слоев
Mg2Si в многослойных рентгеновских зер-
калах Si/Mg2Si // J. Nano- Electron. Phys. —
2016. — Т. 8, № 2. — С. 02021-1–02021-6.
16. Свойства, получение и применение туго-
плавких соединений. Справочник / Под ред.
Т. Я. Косолаповой. — М: «Металлургия»,
1986. — 928 с.
17. Мьюрарка Ш. Силициды для СБИС. —
М.:«Мир», 1986. — 176 с.
18. http://www.ukrrentgen.kharkiv.com/
REFERENCES
1. Spiller E. Low-Loss Reflection Coatings Using
Absorbing Materials // Appl. Phys. Lett. —
1972. — Vol. 20, No. 9. — P. 365–367.
2. Blohin M. A., Shvejcer I. G. Rentgenospektral’nyj
spravochnik. — M.: «Nauka», 1982. — 376 p.
3. Yongwei Dong. The x-ray timing and pola-
rization satellite — 1, 2, 3: uncovering the
mysteries of black holes and extreme physics
in the universe // Proc. of SPIE. — 2014. —
Vol. 9144. — P. 91443O-1–91443O-7.
4. David L. Windt. Reduction of stress and
roughness by reactive sputtering in W/B4C
X-ray multilayer films // Proc. of SPIE. —
2007. — Vol. 6688. — P. 66880R-1–66880R-10.
5. Kristin K. Madsen, Fiona A. Harrison, Peter H.
Mao, Finn E. Christensen, Carsten P. Jensen,
Nicolai Brejnholt, Jason Koglin, Michael J.
Pivovaroff. Optimizations of Pt/SiC and W/
Si multilayers for the Nuclear Spectroscopic
Telescope Array // Proc. of SPIE. — 2009. —
Vol. 7437. — P. 743716-1–743716-11.
6. Michaelsen C., Ricardo P., Anders D. Impro-
ved graded multilayer mirrors for XRD
applications // Adv. X-Ray Anal. — 2000. —
Vol. 42. — P. 308–320.
7. http://cxro.lbl.gov/
8. Platonov Y., Kazuaki Shimizu, Hiroshi Ko-
bayashi, Gary Fournier, Jim Rodriguez. Mg2Si-
based multilayer XRF analyzers with two- and
three-layer structure design // Adv. X-Ray
Anal. — 2009. — Vol. 52. — P. 129–134.
9. Pershin Yu. P., Devizenko A. Yu., Mamon V. V.,
Chumak V. S., Kondratenko V. V. Struktura,
fazovyj sostav i model’ rosta amorfnyh
mnogoslojnyh rentgenovskih zerkal W-Si,
izgotovlennyh metodom magnetronnogo
raspyleniya // ZhFIP. — 2016. — Vol. 1,
No. 1. — P. 27–41.
10. Reshetnyak E. N., Malyhin S. V., Pershin Yu. P.,
Pugachev A. T. Rentgenograficheskij analiz
periodicheskih plenochnyh kompozicij W/Si //
Voprosy atomnoj nauki i tehniki. — 2003. —
No. 3. — P. 161–167.
11. Kopylec I. A., Kondratenko V. V., Zubarev E. N.,
Roschupkin D. V. Osobennosti formirova-
niya korotkoperiodnyh mnogoslojnyh kom-
pozicij W/B4C // ZhTF. — 2012. — Vol. 82,
vyp. 12. — P. 101–107.
12. Pierre Boher, Philippe Houdy, Kuhne M.,
Muller P., Barchewitz R., Delaboudiniere P.,
David Smith. Tungsten/Magnesium Silicide
Multilayers for Soft X-Ray Optics // J. X-ray Sci.
Technol. — 1992. — Vol. 3, No. 2. — P. 118–132.
13. http://sci-progs.com/
14. Diagrammy sostoyaniya dvojnyh metal-
licheskih sistem. Spravochnik / Pod red.
N. P. Lyakisheva. — M.: «Mashinostroenie»,
2001, Vol. 3, Kniga 1. — 872 p.
15. Konotopskij L. E., Kopylec I. A., Sevryu-
kova V. A., Zubarev E. N., Kondratenko V. V.
Osobennosti rosta nanorazmernyh sloev Mg2Si
v mnogoslojnyh rentgenovskih zerkalah Si/
Mg2Si // J. Nano- Electron. Phys. — 2016. —
T. 8, No. 2. — P. 02021-1–02021-6.
16. Svojstva, poluchenie i primenenie tugoplav-
kih soedinenij. Spravochnik / Pod red.
T. Ya. Kosolapovoj. — M: «Metallurgiya»,
1986. — 928 p.
17. M’yurarka Sh. Silicidy dlya SBIS. — M.:«Mir»,
1986. — 176 p.
18. http://www.ukrrentgen.kharkiv.com/
|