Жураев, Н., Халилов, М., Отажонов, С., & Алимов, Н. (2017). Фоточувствительность и механизм протекания тока в гетероструктурах p-CdTe-SiO₂-Si с глубокими примесными уровнями. Журнал физики и инженерии поверхности.
Chicago Style (17th ed.) CitationЖураев, Н, М Халилов, С Отажонов, and Н Алимов. "Фоточувствительность и механизм протекания тока в гетероструктурах P-CdTe-SiO₂-Si с глубокими примесными уровнями." Журнал физики и инженерии поверхности 2017.
MLA (8th ed.) CitationЖураев, Н, et al. "Фоточувствительность и механизм протекания тока в гетероструктурах P-CdTe-SiO₂-Si с глубокими примесными уровнями." Журнал физики и инженерии поверхности, 2017.
Warning: These citations may not always be 100% accurate.