Сухой пленочный фоторезист как изоляционное покрытие алюминиевых подложек
Применение сухого пленочного фоторезиста в качестве изоляции анодированных алюминиевых подложек ГИС обеспечивает ряд важных преимуществ. The application of dry film photoresist as a insulation of GIC anodic coating aluminium bases provides number of important advantages....
Saved in:
| Published in: | Технология и конструирование в электронной аппаратуре |
|---|---|
| Date: | 1999 |
| Main Authors: | , |
| Format: | Article |
| Language: | Russian |
| Published: |
Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України
1999
|
| Subjects: | |
| Online Access: | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/122735 |
| Tags: |
Add Tag
No Tags, Be the first to tag this record!
|
| Journal Title: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Cite this: | Сухой пленочный фоторезист как изоляционное покрытие алюминиевых подложек / А.В. Короткевич, В.А. Плешкин // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 1999. — № 5-6. — С. 25-27. — Бібліогр.: 5 назв. — рос. |
Institution
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine| id |
nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-122735 |
|---|---|
| record_format |
dspace |
| spelling |
Короткевич, А.В. Плешкин, В.А. 2017-07-19T12:43:32Z 2017-07-19T12:43:32Z 1999 Сухой пленочный фоторезист как изоляционное покрытие алюминиевых подложек / А.В. Короткевич, В.А. Плешкин // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 1999. — № 5-6. — С. 25-27. — Бібліогр.: 5 назв. — рос. 2225-5818 https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/122735 Применение сухого пленочного фоторезиста в качестве изоляции анодированных алюминиевых подложек ГИС обеспечивает ряд важных преимуществ. The application of dry film photoresist as a insulation of GIC anodic coating aluminium bases provides number of important advantages. ru Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України Технология и конструирование в электронной аппаратуре Технологические процессы Сухой пленочный фоторезист как изоляционное покрытие алюминиевых подложек Сухий плівковий фоторезист як ізоляційний покрив алюмінієвих підкладинок The dry film photoresist as insulation coating of aluminium bases Article published earlier |
| institution |
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| collection |
DSpace DC |
| title |
Сухой пленочный фоторезист как изоляционное покрытие алюминиевых подложек |
| spellingShingle |
Сухой пленочный фоторезист как изоляционное покрытие алюминиевых подложек Короткевич, А.В. Плешкин, В.А. Технологические процессы |
| title_short |
Сухой пленочный фоторезист как изоляционное покрытие алюминиевых подложек |
| title_full |
Сухой пленочный фоторезист как изоляционное покрытие алюминиевых подложек |
| title_fullStr |
Сухой пленочный фоторезист как изоляционное покрытие алюминиевых подложек |
| title_full_unstemmed |
Сухой пленочный фоторезист как изоляционное покрытие алюминиевых подложек |
| title_sort |
сухой пленочный фоторезист как изоляционное покрытие алюминиевых подложек |
| author |
Короткевич, А.В. Плешкин, В.А. |
| author_facet |
Короткевич, А.В. Плешкин, В.А. |
| topic |
Технологические процессы |
| topic_facet |
Технологические процессы |
| publishDate |
1999 |
| language |
Russian |
| container_title |
Технология и конструирование в электронной аппаратуре |
| publisher |
Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України |
| format |
Article |
| title_alt |
Сухий плівковий фоторезист як ізоляційний покрив алюмінієвих підкладинок The dry film photoresist as insulation coating of aluminium bases |
| description |
Применение сухого пленочного фоторезиста в качестве изоляции анодированных алюминиевых подложек ГИС обеспечивает ряд важных преимуществ.
The application of dry film photoresist as a insulation of GIC anodic coating aluminium bases provides number of important advantages.
|
| issn |
2225-5818 |
| url |
https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/122735 |
| citation_txt |
Сухой пленочный фоторезист как изоляционное покрытие алюминиевых подложек / А.В. Короткевич, В.А. Плешкин // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 1999. — № 5-6. — С. 25-27. — Бібліогр.: 5 назв. — рос. |
| work_keys_str_mv |
AT korotkevičav suhoiplenočnyifotorezistkakizolâcionnoepokrytiealûminievyhpodložek AT pleškinva suhoiplenočnyifotorezistkakizolâcionnoepokrytiealûminievyhpodložek AT korotkevičav suhiiplívkoviifotorezistâkízolâcíiniipokrivalûmíníêvihpídkladinok AT pleškinva suhiiplívkoviifotorezistâkízolâcíiniipokrivalûmíníêvihpídkladinok AT korotkevičav thedryfilmphotoresistasinsulationcoatingofaluminiumbases AT pleškinva thedryfilmphotoresistasinsulationcoatingofaluminiumbases |
| first_indexed |
2025-12-01T07:25:41Z |
| last_indexed |
2025-12-01T07:25:41Z |
| _version_ |
1850859557274779648 |