Сухой пленочный фоторезист как изоляционное покрытие алюминиевых подложек

Применение сухого пленочного фоторезиста в качестве изоляции анодированных алюминиевых подложек ГИС обеспечивает ряд важных преимуществ. The application of dry film photoresist as a insulation of GIC anodic coating aluminium bases provides number of important advantages....

Повний опис

Збережено в:
Бібліографічні деталі
Опубліковано в: :Технология и конструирование в электронной аппаратуре
Дата:1999
Автори: Короткевич, А.В., Плешкин, В.А.
Формат: Стаття
Мова:Російська
Опубліковано: Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України 1999
Теми:
Онлайн доступ:https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/122735
Теги: Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
Назва журналу:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Цитувати:Сухой пленочный фоторезист как изоляционное покрытие алюминиевых подложек / А.В. Короткевич, В.А. Плешкин // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 1999. — № 5-6. — С. 25-27. — Бібліогр.: 5 назв. — рос.

Репозитарії

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
_version_ 1862643062065332224
author Короткевич, А.В.
Плешкин, В.А.
author_facet Короткевич, А.В.
Плешкин, В.А.
citation_txt Сухой пленочный фоторезист как изоляционное покрытие алюминиевых подложек / А.В. Короткевич, В.А. Плешкин // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 1999. — № 5-6. — С. 25-27. — Бібліогр.: 5 назв. — рос.
collection DSpace DC
container_title Технология и конструирование в электронной аппаратуре
description Применение сухого пленочного фоторезиста в качестве изоляции анодированных алюминиевых подложек ГИС обеспечивает ряд важных преимуществ. The application of dry film photoresist as a insulation of GIC anodic coating aluminium bases provides number of important advantages.
first_indexed 2025-12-01T07:25:41Z
format Article
fulltext
id nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-122735
institution Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
issn 2225-5818
language Russian
last_indexed 2025-12-01T07:25:41Z
publishDate 1999
publisher Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України
record_format dspace
spelling Короткевич, А.В.
Плешкин, В.А.
2017-07-19T12:43:32Z
2017-07-19T12:43:32Z
1999
Сухой пленочный фоторезист как изоляционное покрытие алюминиевых подложек / А.В. Короткевич, В.А. Плешкин // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 1999. — № 5-6. — С. 25-27. — Бібліогр.: 5 назв. — рос.
2225-5818
https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/122735
Применение сухого пленочного фоторезиста в качестве изоляции анодированных алюминиевых подложек ГИС обеспечивает ряд важных преимуществ.
The application of dry film photoresist as a insulation of GIC anodic coating aluminium bases provides number of important advantages.
ru
Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України
Технология и конструирование в электронной аппаратуре
Технологические процессы
Сухой пленочный фоторезист как изоляционное покрытие алюминиевых подложек
Сухий плівковий фоторезист як ізоляційний покрив алюмінієвих підкладинок
The dry film photoresist as insulation coating of aluminium bases
Article
published earlier
spellingShingle Сухой пленочный фоторезист как изоляционное покрытие алюминиевых подложек
Короткевич, А.В.
Плешкин, В.А.
Технологические процессы
title Сухой пленочный фоторезист как изоляционное покрытие алюминиевых подложек
title_alt Сухий плівковий фоторезист як ізоляційний покрив алюмінієвих підкладинок
The dry film photoresist as insulation coating of aluminium bases
title_full Сухой пленочный фоторезист как изоляционное покрытие алюминиевых подложек
title_fullStr Сухой пленочный фоторезист как изоляционное покрытие алюминиевых подложек
title_full_unstemmed Сухой пленочный фоторезист как изоляционное покрытие алюминиевых подложек
title_short Сухой пленочный фоторезист как изоляционное покрытие алюминиевых подложек
title_sort сухой пленочный фоторезист как изоляционное покрытие алюминиевых подложек
topic Технологические процессы
topic_facet Технологические процессы
url https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/122735
work_keys_str_mv AT korotkevičav suhoiplenočnyifotorezistkakizolâcionnoepokrytiealûminievyhpodložek
AT pleškinva suhoiplenočnyifotorezistkakizolâcionnoepokrytiealûminievyhpodložek
AT korotkevičav suhiiplívkoviifotorezistâkízolâcíiniipokrivalûmíníêvihpídkladinok
AT pleškinva suhiiplívkoviifotorezistâkízolâcíiniipokrivalûmíníêvihpídkladinok
AT korotkevičav thedryfilmphotoresistasinsulationcoatingofaluminiumbases
AT pleškinva thedryfilmphotoresistasinsulationcoatingofaluminiumbases